[发明专利]功率半导体组件的终端结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201110272130.7 申请日: 2011-09-13
公开(公告)号: CN102468276A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 戴嵩山;蔡宏圣 申请(专利权)人: 大中积体电路股份有限公司
主分类号: H01L23/58 分类号: H01L23/58
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 代理人: 刘云贵
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种功率半导体组件的终端结构及其制作方法。功率半导体组件具有一主动区以及一终端区,且终端区围绕主动区,而终端结构设于终端区内。终端结构包括一半导体基底、一绝缘层以及一金属层。半导体基底具有位于终端区内的一沟槽。绝缘层部分填充于沟槽并覆盖于半导体基底上,且绝缘层的上表面具有一凹洞。金属层设于绝缘层上,且填满凹洞。
搜索关键词: 功率 半导体 组件 终端 结构 及其 制作方法
【主权项】:
一种功率半导体组件的终端结构,该功率半导体组件具有一主动区以及一终端区,且该终端区围绕该主动区,而该终端结构设于该终端区内,其特征在于,该终端结构包括:一半导体基底,具有一第一导电类型以及位于该终端区内的一沟槽;一绝缘层,部分填充于该沟槽并覆盖于该半导体基底上,且该绝缘层的上表面具有一凹洞;以及一金属层,设于该绝缘层上,且填满该凹洞。
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