[发明专利]放射线敏感性组合物以及固化膜有效
| 申请号： | 201010610519.3 | 申请日： | 2010-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN102156387A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 铃木康伸;上田二朗;一户大吾;高瀬英明 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;H01L23/29 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性，并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物，其含有[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物，优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分，以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 放射线 敏感性 组合 以及 固化 | ||
【主权项】：
一种放射线敏感性组合物，其含有：[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。
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