[发明专利]一种图形化石墨烯的制备方法无效
| 申请号： | 201010215355.4 | 申请日： | 2010-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN101872120A | 公开（公告）日： | 2010-10-27 |
| 发明（设计）人： | 叶堉;戴伦;代宇;秦国刚 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 | 代理人： | 苏爱华 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种图形化石墨烯的制备方法，该方法通过紫外光刻或电子束光刻等微电子工艺在器件衬底上图形化光刻胶，在需要石墨烯的地方开出窗口。通过石墨烯转移方法，将大面积石墨烯转移到图形化的光刻胶上，通过丙酮浸泡的方法将光刻胶连同其上的石墨烯剥离掉，得到器件所需的图形化的石墨烯。该方法相比现有技术，具有精确定位的优点，且无需刻蚀，不需要制作压印模版，从而成本较低。本发明不仅实现了精确定位地图形化石墨烯，而且很容易实现大面积器件集成。此外，利用曝光、剥离的方法，避免了氧等离子体刻蚀的步骤，从而避免了辐照损伤带来的器件性能的降低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 化石 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种图形化石墨烯的制备方法，包括如下步骤：A)将光刻胶或PMMA旋涂在器件衬底上；B)在需要石墨烯的位置上制出相应的图形窗口，窗口之外的表面被光刻胶或PMMA覆盖；C)将相互黏附的石墨烯和PMMA层转移到器件衬底上，并使石墨烯与窗口处的衬底部分紧密接触，且进行热处理；D)将上述衬底浸泡在丙酮溶液中，使光刻胶或PMMA，以及光刻胶或PMMA上的石墨烯和PMMA层剥离，即可在器件衬底上获得图形化的石墨烯。
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