[实用新型]半导体芯片中的电容有效

专利信息
申请号: 200820057145.5 申请日: 2008-04-10
公开(公告)号: CN201207394Y 公开(公告)日: 2009-03-11
发明(设计)人: 许刚 申请(专利权)人: 捷顶微电子(上海)有限公司
主分类号: H01L27/00 分类号: H01L27/00;H01L27/02;H01L29/92
代理公司: 上海光华专利事务所 代理人: 余明伟
地址: 201203上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型揭示了一种半导体芯片中的电容,包括衬底层、多晶硅层、至少一金属层;所述每层金属层呈六边形网状结构。本实用新型能够更佳充分地利用空间,使得金属层的侧表面积可以得到充分利用,从而增加电容的密度;同时,充分利用了通孔的侧面电容,使得等效寄生电容得到提高。这在深亚微米集成电路制造工艺更有意义。
搜索关键词: 半导体 芯片 中的 电容
【主权项】:
1、一种半导体芯片中的电容,包括衬底层、多晶硅层、至少一金属层;其特征在于:所述每层金属层呈单元格为六边形的网状结构。
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