[发明专利]半导体装置无效
申请号: | 200710002456.1 | 申请日: | 2007-01-24 |
公开(公告)号: | CN101068018A | 公开(公告)日: | 2007-11-07 |
发明(设计)人: | 崔壬汾;施教仁 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04;H01L23/522 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是提供一种半导体装置,特别涉及一种具有一堆叠接触结构的半导体装置,其中堆叠接触结构包含填充一第一导电材料于一第一接触孔的一第一接触插塞,以及填充一第二导电材料于一第二接触孔的一第二接触插塞。第二导电材料与第一导电材料为不同的材料,且第二导电材料的电阻小于第一导电材料的电阻。本发明所述的半导体装置,可降低堆叠接触结构的有效接触电阻,改善耦接的电阻电容。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,该半导体装置包含:一栅极结构,位于一半导体基底上;一源/漏极区域,位于该半导体基底之中,横向地邻接于该栅极结构;一第一介电层,位于该栅极结构及该源/漏极区域的上方,其中该第一介电层具有一第一接触孔,其形成于该栅极结构或该源/漏极区域至少其中之一的上方;一第一接触插塞,是由一第一导电材料填充于该第一接触孔之中形成,其中该第一接触插塞电性耦接该栅极结构或该源/漏极区域至少其中之一;一第二介电层,位于该第一介电层及该第一接触插塞的上方,其中该第二介电层具有一第二接触孔,用以暴露该第一接触插塞;以及一第二接触插塞,是由一第二导电材料填充于该第二接触孔之中形成,其中该第二接触插塞电性耦接该第一接触插塞;其中该第二导电材料与该第一导电材料为不同的材料,且该第二导电材料的电阻低于该第一导电材料的电阻。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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