[发明专利]半导体元件的熔丝有效
申请号: | 200510099537.9 | 申请日: | 2005-09-13 |
公开(公告)号: | CN1933145A | 公开(公告)日: | 2007-03-21 |
发明(设计)人: | 郑钧文;梁佳文;李瑞池;薛胜元 | 申请(专利权)人: | 联华电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/62 | 分类号: | H01L23/62;H01L23/525;H01L27/00;H01L21/768;H01L21/82;G11C17/14;G11C17/16 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种半导体元件的熔丝结构,包括在半导体基底上,夹于上下绝缘层中的一熔丝层,其借着介层洞与其它金属层电性相连,熔丝层的电阻系数可以藉其形成材料而调整。熔丝层具有多个互相分离的区块,至少一连结区块与至少一热缓冲区块,而热缓冲区块与烧熔点附近的区块或具烧熔点的区块相耦接,而提供一条新的热传导路径。当面积较狭窄的连结区块因为流经电流密度较高而有过热之虞时,热缓冲区块与其相耦接的区块,则可将烧熔点附近所产生的热均匀分布,而有助于散热。 | ||
搜索关键词: | 半导体 元件 | ||
【主权项】:
1、一种半导体元件的熔丝,包括:一第一绝缘层,形成在一半导体基底上;一熔丝层,形成于该第一绝缘层上,其中该熔丝层为具有多个区块,包括一第一区块、一第二区块、一第三区块、一第四区块以及连接第一区块与第四区块的一连结区块,其中第二区块与第三区块为位于第一区块与第四区块之间,该连结区块位于第二区块与第三区块之间,但与第二区块与第三区块并不相连,而除了该连结区块连接第一区块与第四区块外,其它区块彼此并不相连;一第二绝缘层层,形成在该熔丝层上,其中该第二绝缘层包含多个介层插塞;以及一顶部金属层,形成在该第二绝缘层上而与该些介层插塞相连接,其中该顶部金属层包括一热缓冲区块,而该热缓冲区块透过多个介层插塞与第二区块与第三区块耦接,但该热缓冲区域与第一区块与第四区块并不耦接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联华电子股份有限公司,未经联华电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510099537.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多功能环保柴草气化炉
- 下一篇:一种带内侧向调节刀头角度机构的刀具