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[发明专利]半导体装置及其工作方法-CN201811173005.9有效
发明人： 陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-10-09 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种半导体装置及其工作方法，其中，半导体装置，包括：腔室；位于腔室内的部件；位于所述部件内的第一液管，所述第一液管内用于通入冷却液；第一振动装置，用于振动所述第一液管。利用所述半导体装置能够防止第一液管被堵塞。
半导体装置及其工作方法

[发明专利]图像传感器及其形成方法-CN201910427826.9有效
发明人：刘亮亮;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-05-22 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明技术方案公开了一种图像传感器及其形成方法，其方法包括：包括：提供第一衬底，所述第一衬底具有第一表面和第二表面，所述第一表面与所述第二表面是相对面；在所述第一衬底内形成分立排列的光电三极管；在所述第一表面上形成滤光层，每个所述滤光层分别与所述光电三极管对应设置。本发明增强光信号，提高灵敏度。
图像传感器及其形成方法

[发明专利]一种防止手臂撞击晶圆的装置-CN201910751520.9有效
发明人：喻泽锋;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-08-15 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种防止手臂撞击晶圆的装置，包括：手臂基座；侦测器位置调整单元，所述侦测器位置调整单元刚性设置在所述手臂基座上；侦测器宽度调整单元，所述侦测器宽度调整单元与所述侦测器位置调整单元的可动结构刚性相连；以及晶圆侦测器，所述晶圆侦测器可调节的设置在所述侦测器宽度调整单元上。
一种防止手臂撞击装置

[发明专利]内管固定装置-CN201910525953.2有效
发明人：李天涯;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-18 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明技术方案公开了一种内管固定装置，用于固定炉管机台的内管，包括：内管台，所述内管台上设有至少一个安装槽，设置在至少一个所述安装槽旁的滑动轨道槽，所述滑动轨道槽与所述安装槽连通；套设于所述内管外的支撑环，所述支撑环的边缘设有至少一个与所述安装槽配合的支撑耳，所述支撑耳适于移动至所述滑动轨道槽的末端以固定所述内管。采用本发明技术方案的内管固定装置可以避免内管偏移现象，无需在高温下进行人工调整，极大程度的提高了晶圆的制造效率，提高了晶圆的均匀性，保证了产品良率。
固定装置

[发明专利]内管调整装置-CN201910526342.X有效
发明人：李天涯;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-18 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明技术方案公开了一种内管调整装置，用于调整炉管机台的内管位置，包括：法兰；设于所述法兰边缘的至少一组滑动轨道，每组滑动轨道包括相对设置的两个滑动轨道；可移动地设于所述滑动轨道上的马达；一端与所述马达连接的运动轴杆；套设于所述内管外的支撑环，所述支撑环的边缘设有与所述运动轴杆联动的支撑耳；以及，控制所述马达转动的控制器。采用本发明技术方案的内管调整装置可以在炉管工作过程中随时调整内管的位置，操作者无需在高温下调整内管的位置，操作简单、安全系数高，且极大程度的提高了晶圆的制造效率，提高了晶圆的均匀性，保证了产品良率。
调整装置

[实用新型]加热器和炉管-CN201920862232.6有效
发明人：丁小飞;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-10 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： F27D11/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种加热器以及一种炉管，所述加热器包括沿第一方向间隔排列的多根加热丝，每根加热丝连接有多个固定块并被所述固定块分隔为多个加热段，每个加热段两端的两个固定块之间的连线与第一方向垂直，所述加热器在工作时第一方向为重力方向，除位于最底部的一根加热丝之外，至少部分所述加热段上穿套有可滑动的绝缘环。所述炉管包括所述加热器和工艺腔。利用本实用新型提供的加热器，在加热段受热软化变形而产生下垂时，穿套在该加热段上的绝缘环会在加热段上滑动，隔离在下垂的加热段与与下方的加热丝之间，可以避免软化的加热段接触到下方的加热段导致短路的问题，从而有利于减少短路故障，延长加热器的寿命。
加热器炉管

[实用新型]晶片纠偏装置和晶片传送装置-CN201921252792.6有效
发明人：王磊;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-08-05 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶片纠偏装置，包括：致动器，其被配置为致使推杆水平移动；导轨，其被配置为引导推杆的支承体水平地滑动；以及推杆，其具有：推杆主体，其被构造为狭长形；支承体，其与推杆主体连接并且能够在导轨上滑动，其中所述支承体能够通过传动装置被致动器带动；以及凸缘，其布置在推杆主体的端部处以用于推移晶片。通过该晶片纠偏装置和/或该传送装置，可以纠正晶片的水平偏移，而无需打开设备门或用手接触晶片。
晶片纠偏装置传送

[实用新型]炉管装置-CN201920961546.1有效
发明人：李天涯;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种炉管装置。所述炉管装置包括：反应腔室，由实心的壳体围绕而成，所述壳体包括朝向所述反应腔室一侧的内壁以及与所述内壁相对的外壁；通道，位于所述内壁与所述外壁之间的所述壳体中；气孔，位于所述内壁，所述通道与所述气孔连通，以将反应气体自外界传输至所述反应腔室。本实用新型确保了所述反应腔室内气体的均匀性，进而改善了晶圆表面生长的薄膜厚度的均匀性；同时，减少了所述炉管装置周期性维护的操作，降低了维护成本。
内壁反应腔室炉管装置本实用新型均匀性壳体外壁半导体制造技术周期性维护反应气体晶圆表面壳体围绕室内气体反应腔实心的薄膜连通传输生长维护

[实用新型]晶舟清洗装置-CN201921085200.6有效
发明人：王磊;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-11 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶舟清洗装置。所述晶舟清洗装置包括：清洗腔，包括多个均沿竖直方向延伸的清洗槽，所述清洗槽用于容纳并清洗直立的晶舟；传送腔，沿竖直方向叠置于所述清洗腔上方，用于在外界与所述清洗腔之间传送所述晶舟。本实用新型减小了单个清洗槽的占地面积，增大了单位面积上能够设置的清洗槽的数量，从而在提高晶舟清洗效率的同时，相应降低了对无尘室空间的占用，间接减少了晶圆制造成本。
清洗槽晶舟清洗腔本实用新型清洗装置竖直半导体制造技术方向延伸清洗效率制造成本传送腔无尘室直立减小晶圆种晶清洗传送容纳占用

[实用新型]一种旋转机构及垂直扩散炉-CN201920519980.4有效
发明人：雷国鸿;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-16 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种旋转机构及垂直扩散炉，所述垂直扩散炉包括所述旋转机构，旋转机构包括：底座；驱动机构，设于底座上；隔离罩，设于底座上并罩设驱动机构；支撑机构，设于隔离罩的外部；传动磁组，包括第一磁体和第二磁体，第一磁体设置在隔离罩内，第二磁体设置在支撑机构上；悬浮磁组，包括第三磁体和第四磁体，第三磁体设置于隔离罩上，第四磁体设置于支撑机构上；第一磁体被驱动机构驱动旋转时，第二磁体与第一磁体相吸设置而使支撑机构随第一磁体同步旋转，第三磁体和第四磁体相斥设置而使支撑机构及第二磁体悬浮在隔离罩的外部。本实用新型的优点在于，利用磁体的特性实现旋转动力的传递，避免污染反应腔室的同时具有价格低廉的优势。
支撑机构隔离罩驱动机构旋转机构底座本实用新型垂直扩散炉相斥避免污染反应腔室驱动旋转同步旋转旋转动力磁体被悬浮磁外部传动磁组相吸罩设悬浮传递

[发明专利]一种冷却水自动调节系统-CN201910743560.9在审
发明人：喻泽锋;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-08-13 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： F27D9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种冷却水自动调节系统，包括：第一温度传感器，其布置在待冷却部件的区域中以用于测量所述待冷却部件的第一温度，其中所述待冷却部件能够通过冷却水被冷却；自动阀，其布置在冷却水的流动路径上，其中所述自动阀被配置为根据来自控制器的调节信号调节冷却水的流量；以及控制器，其被配置为根据第一温度生成调节信号。此外，本发明还涉及一种用于自动调节冷却水的方法。通过本发明，可以自动、实时地控制冷却水的流量，以维持待冷却部件的预定温度。
冷却水待冷却部件自动调节系统调节信号控制器自动阀第一温度传感器流动路径配置冷却测量

[实用新型]一种检测键合晶片之间的空隙的装置-CN201920610833.8有效
发明人：丁小飞;陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-04-29 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种检测键合晶片之间的空隙的装置，包括：微波发射器，其被配置为向键合晶片发射微波；以及热成像相机，其被配置为拍摄键合晶片的热图像以供识别空隙。通过该装置，可以较好地识别键合晶片之间的空隙并且降低检测成本。
键合晶片种检测本实用新型热成像相机微波发射器合晶片热图像识别键配置微波发射拍摄检测

[实用新型]管道检测装置-CN201821310647.4有效
发明人： 陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-08-14 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： G01V9/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种管道检测装置。所述管道检测装置，包括控制器和至少一温控组件；所述温控组件套设于管道外部，用于对所述管道进行电加热并检测所述管道的温度；所述控制器连接所述温控组件，用于判断所述管道排气时所述温控组件的温控参数是否保持在预设范围内，若是，则确认所述管道堵塞。本实用新型能够快速、及时、自动化的检测管道是否发生堵塞，确保了半导体产品的良率，并提高了半导体机台的生产效率。
温控组件管道检测装置本实用新型半导体制造技术半导体产品半导体机台控制器连接管道堵塞管道排气管道外部生产效率温控参数控制器电加热检测良率预设自动化堵塞

[发明专利]安装治具-CN201910124101.2在审
发明人： 陈伯廷;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-19 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： B25B27/00 文献下载
摘要：一种安装治具，应用于炉管机台，包括支撑座，所述支撑座直接或间接地安装于所述炉管机台；所述支撑座上设置有可调节支撑件，所述可调节支撑件用于支撑所述炉管机台内的至少一个部件。所述可调节支撑件可以对所述部件形成良好的支撑，分散了所述部件原有连接处的压力，减小了接触应力，避免了因应力过大而造成的断裂。同时，因为所述可调节支撑件对所述部件的支撑，使所述部件能够安装并保持在正确的位置上，避免了所述部件安装不到位或者因晃动等原因造成的倾斜，以及因倾斜导致的被其他结构撞坏。
可调节支撑件炉管机台支撑座安装治具支撑部件安装部件形成减小晃动断裂应用

[实用新型]前开式界面机械标准系统-CN201821653955.7有效
发明人：丁小飞;陈伯廷;周冬成;吴宗祐;林宗贤 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该实用新型涉及一种前开式界面机械标准系统，包括：通道轨道，用于驱动放置在所述通道轨道上的晶圆盒；通道门，与所述通道轨道相连接，设置在所述通道轨道一端，用于拆除放置在所述通道轨道上的晶圆盒的门；吹扫部，设置于通道门旁，用于吹扫所述通道门上的颗粒物。使用上述前开式界面机械标准系统，能够减少在运送晶圆盒的过程中产生的颗粒物飘落到晶圆上的情况，避免对晶圆的后续处理产生影响。
通道轨道机械标准晶圆盒前开式颗粒物通道门吹扫晶圆后续处理运送驱动拆除

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