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[发明专利]一种改善等离子体刻蚀均匀性的装置及方法-CN201811612742.4在审
发明人： 程实然;邱勇;刘小波;王铖熠;刘海洋;李娜;胡冬冬;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开一种改善等离子体刻蚀均匀性的装置及方法。该装置包括直流电源和滤波器，所述直流电源一端接地，另一端通过所述滤波器与等离子体刻蚀系统的下电极的聚焦环相连接，在其上加载直流电压，所述直流电源的大小和极性可调，所述滤波器用于过滤直流中的交流成分。通过在等离子体刻蚀系统的下电极的聚焦环上加载直流电压，调整直流电压的极性和大小，使晶圆边缘部位的刻蚀速率与晶圆中心部位的刻蚀速率趋于一致。本发明简单易行，能够有效改善刻蚀均匀性，提高生产效率。
一种改善等离子体刻蚀均匀装置方法

[实用新型]一种适用于多位置顶升顶针的水平可调机构-CN201922464820.7有效
发明人：侯永刚;胡冬冬;程实然;李娜;刘海洋;王铖熠;陈兆超;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型一种适用于多位置顶升顶针的水平可调机构，属于半导体设备领域。本实用新型适用于多位置顶升顶针的水平可调机构，腔室内设有热台，热台内设有顶针孔，热台下设有顶板；热台的下端通过热台波纹管与顶升机构相连，热台波纹管底端与顶升机构之间通过法兰相连；顶升机构用于控制热台上下运动；顶针孔内设有顶针，顶针的底端布置在顶板上，顶板的底端设有顶针波纹管，顶针波纹管的底端与气缸相连；顶针波纹管的底端与气缸的驱动端之间设有水平调节机构。本实用新型提供通过顶针与热台之间的相对水平度，能够准确保持同一水平度，该结构给装配提供了便利，对装配要求不高，可轻松装完并达到使用水平要求。
一种适用于置顶顶针水平可调机构

[实用新型]一种对夹型配重的顶针结构-CN201922475333.0有效
发明人：侯永刚;胡冬冬;郭颂;刘海洋;李娜;陈兆超;程实然;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-12-31 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种对夹型配重的顶针结构，属于半导体设备领域。本实用新型所述的对夹型配重的顶针结构，该顶针置于热台的通孔内，热台的下方设有顶板，顶针的底端布置于顶板上，定顶板由气缸作动进行上下运动，所述的顶针的底端与顶板接触端之间设有对夹配重单元，该对夹配重单元保持顶针垂直于顶板的水平基准面。本实用新型所述的对夹型配重的顶针机构，采用的对夹配重单元防止顶针在运动过程中发生倾斜导致断裂。采用的对夹配重单元使得顶针的重心下移，重心驱使顶针保持一个垂直的状态不会发生倾斜。保证下顶针在升降的过程中形成独立的垂直状态不会与周边设备发生接触摩擦，进一步增加了顶针在运动过程中的稳定性，解决了顶针卡断的问题。
一种配重顶针结构

[实用新型]一种基于孔径仪的晶圆测量装置-CN201921753252.6有效
发明人：张瑶瑶;胡冬冬;李娜;侯永刚;程实然;王铖熠;刘海洋;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： G01B21/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于孔径仪的晶圆测量装置，包括孔径仪和晶圆自动定位机构，所述晶圆自动定位机构用于将晶圆定位输送至孔径仪的测量点；所述晶圆自动定位机构包括水平的X向电缸；X向电缸包括沿X向直线往复动作的X向动作件；水平的Y向电缸；Y向电缸固定在X向动作件上；Y向电缸包括沿Y向直线往复动作的Y向动作件；Z向升降底座；Z向升降底座固定在Y向直线往复动作件上端；Z向升降底座可沿Z向直线升降；Z向升降底座上固定有水平的定位板；定位板上方放置有载片台；定位板上设置有多个螺纹通孔；每个螺纹通孔由下端旋入一个螺栓。本实用新型能够自动将晶圆定位至孔径仪的测量点，提高了孔径仪测量晶圆的准确性，操作方便。
一种基于孔径测量装置

[实用新型]一种离子刻蚀系统-CN201921408647.2有效
发明人：李娜;刘海洋;胡冬冬;程实然;侯永刚;王铖熠;郭颂;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： H01J37/305 文献下载
摘要：本实用新型提出一种离子刻蚀系统，包括真空刻蚀腔体和真空泵，所述真空刻蚀腔体与真空泵的吸气口通过一连通管道相接；所述连通管道内设置有筒型过滤件和设置在筒型过滤件内的强磁铁吸附件；所述筒型过滤件由侧壁滤网和位于侧壁滤网下端的底部滤网组成；所述侧壁滤网的下端朝向真空泵；所述侧壁滤网的上端朝向真空刻蚀腔体，且与连通管道的内壁密封连接。本实用新型的随抽真空气流流动的金属颗粒受强磁铁吸附件的吸附，气流则通过筒型过滤件进一步过滤后进入真空泵内部。当设备工艺运行了一段时间之后，对强磁铁吸附件及筒型过滤件进行清洗或者更换。本实用新型有效保护了真空泵，且维护高效简便，维护成本低，改善了设备的维护周期及成本消耗。
一种离子刻蚀系统

[发明专利]一种用于平台的弹簧顶针机构及真空等离子处理腔体-CN201910932527.0在审
发明人：侯永刚;胡冬冬;宋晓宏;刘海洋;李娜;郭松;程实然;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于平台的弹簧顶针机构及真空等离子处理腔体，所述弹簧顶针机构包括沿针孔从平台上端面伸出缩回的顶针；还包括导向管、弹簧和底座；所述导向管包括若干沿圆周方向间隔布置在平台下端面的圆弧导向板，所述若干圆弧导向板均与一个针孔同轴；所述底座上设置有若干圆弧通槽；每个圆弧通槽滑动套装在一个圆弧导向板外；所述顶针的下端固定在底座中心上；所述弹簧位于所述底座的上端面与平台下端面之间；当顶针从平台上端面伸出，弹簧处于压缩状态。本发明的顶针始终保持与平台的垂直，不会产生转动偏斜卡涩的问题，无需考虑针孔与顶针的配合间隙，保证顶针在针孔内伸缩顺畅；同时保证顶针能够从平台上端面缩回，防止顶针下落不到位。
顶针针孔上端面圆弧导向弹簧底座弹簧顶针机构圆弧通槽缩回导向管下端伸出沿圆周方向真空等离子处理腔体底座中心滑动套装间隔布置配合间隙压缩状态下端面伸缩卡涩偏斜同轴转动保证垂直

[发明专利]一种装配清洗内衬的离子束刻蚀腔室及加工方法-CN201910748419.8在审
发明人：李娜;胡冬冬;程实然;侯永刚;王铖熠;刘海洋;郭颂;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-08-14 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种装配清洗内衬的离子束刻蚀腔室及加工方法，属于半导体设备领域。反应腔与离子源固定腔相互连通；反应腔内的中心处设有摇摆电极，离子源固定腔内设有离子源；反应腔与离子源固定腔的连通处之间设有挡板；挡板通过外部电机驱动旋转从而移动至离子源的发射束端；反应腔的底部与分子真空泵相互连通；所述的反应腔的内壁铺贴内衬；所述的摇摆电极的外壁铺贴内衬；所述的离子源固定腔的内壁铺贴内衬。本发明提供的装配清洗内衬的离子束刻蚀腔室，在刻蚀腔室内壁增设内衬结构可减少在加工过程中产生的污染，方便拆卸，易于安装。
离子源内衬反应腔固定腔铺贴离子束刻蚀挡板电极内壁腔室连通摇摆装配清洗半导体设备分子真空泵方便拆卸驱动旋转外部电机刻蚀腔连通处室内壁中心处外壁增设发射移动加工污染

[发明专利]一种等离子体刻蚀系统-CN201910772838.5在审
发明人：刘海洋;胡冬冬;李娜;刘小波;程实然;郭颂;吴志浩;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-08-21 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种等离子体刻蚀系统，包括反应腔室、位于反应腔室内用于承载工件的底座和位于反应腔室上的介质窗；所述介质窗的外表面上设置有平板式电极和线圈电极；所述平板式电极位于底座正上方；所述线圈电极环绕布置在平板式电极的外周区域；所述线圈电极与介质窗的外表面之间还设置有法拉第屏蔽层。本发明通过所述介质窗的外表面的中心处设置平板式电极，配合线圈电极环绕布置在平板式电极的外周区域，减弱了刻蚀过程中介质窗中部区域的污染状况，且提高了刻蚀均匀性；同时平板式电极能够对介质窗的中部区域进行有效清洗。
平板式电极介质窗线圈电极反应腔室环绕布置外周区域中部区域底座等离子体刻蚀系统法拉第屏蔽层刻蚀均匀性承载工件刻蚀过程污染状况反应腔中心处清洗室内中介配合

[发明专利]一种带有旋转电极驱动的离子束刻蚀机-CN201910812338.X在审
发明人：郭颂;刘海洋;程实然;李娜;侯永刚;王铖熠;胡冬冬;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-08-30 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明属于离子束刻蚀机技术领域，尤其是一种带有旋转电极驱动的离子束刻蚀机，包括腔盖、伺服电机、下电极旋转轴、下电极，腔盖的中心位置设置有旋转轴定子，下电极旋转轴贯穿旋转轴定子，位于腔盖外侧的下电极旋转轴上设置有蜗轮，伺服电机的动力输出端上设有蜗杆，通过蜗轮和蜗杆的传动，带动下电极转动。本发明重量很轻，无需设置单独的支架支撑，且不需要配重辅助，减少了伺服电机的重量和所占空间，省掉了配重的重量及所占空间，省掉了支架的重量及其所占空间，且功率较小的伺服电机相对成本较低，且省掉了配重及支架的成本。
下电极旋转轴伺服电机离子束刻蚀机配重腔盖旋转电极蜗杆蜗轮支架动力输出端驱动支架支撑传动转动贯穿

[外观设计]柜式薄膜纳米孔径仪-CN201930204395.0有效
发明人：侯永刚;徐康宁;邱勇;胡冬冬;程实然;孙伟;李娜;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-04-29 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： 05-06 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：柜式薄膜纳米孔径仪。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于半导体行业中晶片表面膜厚的检测。3．本外观设计产品的设计要点：产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图1。
外观设计纳米孔径薄膜半导体行业晶片表面膜厚检测图片

[外观设计]台式薄膜纳米孔径仪-CN201930204401.2有效
发明人：侯永刚;徐康宁;邱勇;胡冬冬;程实然;孙伟;李娜;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-04-29 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： 05-06 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：台式薄膜纳米孔径仪。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于半导体行业中晶片表面膜厚的检测。3．本外观设计产品的设计要点：产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。
外观设计纳米孔径薄膜半导体行业晶片表面膜厚检测图片

[发明专利]一种射频旋转接头及设置有射频旋转接头的离子刻蚀系统-CN201910680713.X在审
发明人：刘海洋;邱勇;刘小波;李娜;程实然;王铖熠;胡冬冬;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-07-26 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种射频旋转接头及设置有射频旋转接头的离子刻蚀系统，所述射频旋转接头包括用于接入偏置电极的射频转子和用于接入射频电流的射频定子，所述射频定子内设置有转孔；所述射频转子可转动置于转孔内；所述转孔的内壁与射频转子外壁之间嵌入设置有由球状金属颗粒构成的导电夹套。本发明通过射频定子和射频转子之间的由球状金属颗粒构成的导电夹套，保证射频电流在旋转接头和偏置电极之间的有效连接，还能保证射频转子在射频定子内顺滑转动，满足衬底在连接旋转接头后的旋转需求，提高离子刻蚀系统种镀膜和刻蚀的速率和均匀性。所述离子刻蚀系统通过动密封装置连接旋转平台、衬底和射频转子，同时满足刻蚀腔体的真空密封需求。
射频旋转接头转子离子刻蚀系统转孔导电夹套偏置电极球状金属射频电流衬底动密封装置刻蚀腔体嵌入设置旋转平台有效连接真空密封转子外壁均匀性可转动速率和镀膜刻蚀内壁顺滑转动保证

[实用新型]机械手驱动机构-CN201822254473.0有效
发明人：侯永刚;胡冬冬;邱勇;李娜;孙伟;程实然;陈兆超;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2018-12-29 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： B25J9/12 文献下载
摘要：本实用新型公开一种机械手驱动机构，包括：升降驱动机构和水平驱动机构，其中，升降驱动机构的升降波纹管上端连接升降底板，下端固定在腔体上，气缸通过活塞杆与升降底板相连接，活塞杆套装在升降波纹管中，导向杆设置在腔体底部，在升降底板上对应位置设有导向套，与导向杆配合，使升降底板平稳升降，水平驱动机构的钢带驱动机构与电机相连，滑轨导向装置与机械手连接，使机械手沿滑轨导向方向运动，钢带驱动机构与机械手的中间部位相连接，在电机的驱动下带动机械手水平运动，滑轨导向装置和钢带驱动机构安装在升降底板上，升降底板在气缸的驱动下，实现机械手的垂直升降。
升降底板机械手驱动机构钢带机械手驱动机构滑轨导向装置升降驱动机构水平驱动机构波纹管导向杆气缸腔体升降电机本实用新型活塞杆套装机械手水平垂直升降滑轨导向平稳升降驱动上端导向套活塞杆下端配合

[实用新型]半导体设备的开腔装置和半导体设备-CN201822144946.1有效
发明人：陈兆超;邱勇;程实然;李娜;刘海洋;王铖熠;胡冬冬;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2018-12-20 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开一种半导体设备的开腔装置和半导体设备，半导体设备的开腔装置包括升降轴(1)和套设在升降轴外侧的轴固定座(6)，轴固定座安装于真空腔体(15)的外侧壁上，升降轴在轴固定座内沿所述升降轴的轴向方向滑动，所述半导体设备的开腔装置还包括载动分位臂(7)、轴承(10)和驱动元件(12)，升降轴的下端连接驱动元件，载动分位臂套设在升降轴的上端的外侧，载动分位臂与升降轴的上端之间设有轴承，载动分位臂固定连接于腔盖(16)。该半导体设备的开腔装置能够实现腔盖的升降和旋转，使得整个操作过程轻松安全，且结构简单、安全可靠、性价比高，能够有效提高生产效率。
半导体设备升降轴开腔轴固定座驱动元件上端腔盖轴承本实用新型生产效率真空腔体整个操作轴向方向外侧壁滑动臂套下端升降安全

[发明专利]一种离子束刻蚀系统的真空测量工具的保护装置-CN201910470430.2在审
发明人：李娜;冯伟群;胡冬冬;程实然;陈兆超;侯永刚;王铖熠;许开东 -专利权人：江苏鲁汶仪器有限公司
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： G01L21/30 文献下载
摘要：本发明提出一种离子束刻蚀系统的真空测量工具的保护装置，所述离子束刻蚀系统包括反应腔体和用于测量反应腔体的内部真空度真空测量工具，所述反应腔体壁上设置有通气接口，所述真空测量工具连接在通气接口上。所述保护装置包括设置在反应腔体内的遮挡通气接口的阻隔板；所述阻隔板贴近通气接口处的反应腔体内壁，所述通气接口沿其中轴线投影至阻隔板上的投影面位于阻隔板的遮挡面范围内。所述保护装置还包括驱动阻隔板远离或靠近通气接口的推拉机构。本发明通过贴近遮挡通气接口的阻隔板，有效阻隔金属颗粒和离子束；通过推拉机构驱动阻隔板远离或靠近通气接口，防止杂质堵塞阻隔板与反应腔体内壁的间隙，在满足通气要求下保持合适间隙。
通气接口阻隔板保护装置真空测量离子束刻蚀系统反应腔反应腔体推拉机构体内遮挡驱动测量反应合适间隙金属颗粒杂质堵塞离子束投影面遮挡面中轴线腔体投影通气阻隔