专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种LED干法刻蚀机排气装置-CN202321330993.X有效
  • 刘德林;徐吉红;段良飞;胡瑶;董国庆;文国昇;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-05-29 - 2023-10-24 - B01D53/86
  • 本实用新型提供了一种LED干法刻蚀机排气装置,包括工作台、加热除湿机构、过滤机构和净化机构;加热除湿机构包括长形盒、加热组件和送气组件,长形盒上设有第一进气口,气体经第一进气口和送气组件输送至过滤机构;过滤机构的一端与长形盒连接,其另一端与净化机构连接;净化机构包括净化盒体、净化组件和排气组件,净化盒体通过净化组件隔出至少两个独立空间,净化盒体上设有第二进气口,第二进气口和排气组件分别与不同独立空间连通。通过本申请,不仅实现了对气体的过滤和净化,以保证气体无害后排至外界大气中,避免对空气造成污染,还能够对装置进行加热除湿,改善该装置中各箱体内部容易发霉的问题,提高了装置的实用性。
  • 一种led刻蚀排气装置
  • [实用新型]一种真空源机械臂-CN202321173055.3有效
  • 黎望望;徐吉红;段良飞;董国庆;文国昇;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-05-16 - 2023-10-20 - B25J15/06
  • 本实用新型提供一种真空源机械臂,该真空源机械臂包括机械臂前叉和设置在所述机械臂前叉上的压力传感器,所述机械臂前叉一端设有气孔,另一端设有与所述气孔连通的真空源入口,所述真空源入口用于连接抽真空装置,以使所述气孔产生吸力吸附晶片,所述机械臂前叉设有所述气孔一端还设有安装槽用于安装所述压力传感器,所述压力传感器的厚度大于所述安装槽的深度。本实用新型中的真空源机械臂,解决了现有技术中的机械臂在没有吸附到晶片时,仍会进行晶片的取放操作,导致晶片取放生产流程异常的问题。
  • 一种真空机械
  • [实用新型]一种过滤设备-CN202222550515.1有效
  • 戴文锦;车耀辉;潘毅;刘德林;徐吉红;董国庆;文国昇;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2022-09-26 - 2023-05-26 - B01D46/64
  • 本实用新型公开了一种过滤设备,涉及过滤装置技术领域,该过滤设备用于LED干法刻蚀设备上,LED干法刻蚀设备包括设于腔室内的摆阀,过滤设备设于腔室内并位于摆阀之上,过滤设备包括用于过滤杂质的过滤组件,过滤组件包括第一过滤组件,第一过滤组件包括第一支架和第一过滤网,第一过滤网正对摆阀设置,第一过滤网的边缘沿着第一支架的轴向围合连接,且围合的第一过滤网的直径由靠近第一支架的一端向另一端逐渐减小。通过增加过滤设备可以更好的起到保护摆阀及分子泵不被工艺制程所产生的副产物所腐蚀或是减少腐蚀效果,以延长阀体及分子泵的使用寿命。
  • 一种过滤设备
  • [实用新型]一种颗粒物过滤收集装置-CN202221260216.8有效
  • 徐吉红;刘德林;戴文锦;朱帅;董国庆;文国昇;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2022-05-24 - 2023-01-03 - B01D46/12
  • 本实用新型提供了一种颗粒物过滤收集装置,该装置包括:过滤收集装置本体,设于密闭容器与真空泵之间,过滤收集装置本体的两侧分别设有进气口和出气口;过滤机构,设于过滤收集装置本体之中,过滤机构包括相反倾斜方向设置的第一过滤组件和第二过滤组件,其中,第一过滤组件包括若干个第一过滤板,各第一过滤板上设有若干第一过滤孔,第二过滤组件包括若干个第二过滤板,各第二过滤板上设有若干第二过滤孔,其中,第一过滤孔的孔径大于第二过滤孔的孔径;收集机构,设于进气口远离过滤机构的一侧,收集机构包括收集组件和控制板,本实用新型能够解决现有技术中颗粒物抽入真空泵中,造成真空泵卡死,降低真空泵的使用寿命的技术问题。
  • 一种颗粒过滤收集装置
  • [实用新型]一种等离子清洗设备-CN202220909487.5有效
  • 徐吉红;周安;朱帅;董国庆 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2022-04-19 - 2022-08-23 - B08B7/00
  • 本实用新型提供一种等离子清洗设备,包括机体、托盘及真空泵,所述机体内开设反应腔,所述真空泵连通所述反应腔,所述反应腔内自上而下设置上电极及下电极,所述反应腔内设置承载装置,所述承载装置位于所述上电极与所述下电极之间,所述承载装置用于承载所述托盘,并驱动所述托盘进出所述反应腔。通过所述承载装置驱动所述托盘进出所述反应腔内,替代了传统的将托盘卡合,并沿所述反应腔的内壁滑动的进出方式,避免了所述托盘于所述反应腔内产生干摩擦,进而导致所述托盘的使用寿命降低的情况发生。
  • 一种等离子清洗设备

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