专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN202310617857.7在审
  • 李婕;黄家恩;李俊颖;刘逸青;王奕;曾晓梅;杨耀仁;张琮永 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2023-05-29 - 2023-10-17 - H10B12/00
  • 一种半导体器件包括衬底、设置在衬底上的第一感测放大器、设置在衬底上并且在x方向上与第一感测晶体管相邻的第一字线驱动器、以及在z方向上设置在第一感测放大电路上方和第一字线驱动器上方的第一存储器阵列。多个第一导电区段在x方向和y方向上交替延伸,并且设置在第一存储器阵列和第一感测放大器之间,并且被配置为将第一感测放大电路电连接到第一存储器阵列的第一位线。多个第二导电区段在x方向和y方向上交替延伸,并且设置在第一存储器阵列和第一字线驱动器之间,并且被配置为将第一字线驱动器电连接到第一存储器阵列的第一字线。本申请的实施还公开了一种制造半导体器件的方法。
  • 半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]一次性可程序化位元单元与集成电路与方法-CN202210095680.4在审
  • 陈建盈;杨耀仁 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2022-01-26 - 2022-12-27 - G11C5/02
  • 一种一次性可程序化位元单元与集成电路与方法,一次性可程序化位元单元,包括具有正面和背面的基板、在正面上的主动区域、第一读取晶体管、程序晶体管、第一电性连接件、第二电性连接件以及第三电性连接件,其中第一读取晶体管包括第一栅极以及由第一栅极横切的主动区域的第一部分,程序晶体管包括第二栅极以及由第二栅极横切的主动区域的第二部分,第一电性连接件连接至第一栅极,第二电性连接件连接至第二栅极,以及第三电性连接件连接至主动区域。第一电性连接件、第二电性连接件或第三电性连接件中至少一者包括位于背面上的金属线。
  • 一次性程序化位元单元集成电路方法
  • [发明专利]半导体结构、半导体器件及其制造方法-CN201910768199.5有效
  • 张盟昇;杨耀仁 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-08-20 - 2022-09-16 - H01L27/112
  • 一种结构包括第一字线、位线和反熔丝单元。反熔丝单元包括读取器件、编程器件和伪器件。读取器件包括耦合到第一字线的第一栅极、耦合到位线的第一源极/漏极区以及第二源极/漏极区。第一源极/漏极区和第二源极/漏极区位于第一栅极的相对侧上。编程器件包括第二栅极、耦合到第二源极/漏极区的第三源极/漏极区以及第四源极/漏极区。第三源极/漏极区和第四源极/漏极区位于第二栅极的相对侧上。伪器件包括第三栅极、耦合到第四源极/漏极区的第五源极/漏极区以及第六源极/漏极区。第五源极/漏极区和第六源极/漏极区位于第三栅极的相对侧上。本发明的实施例还涉及半导体结构、半导体器件及其制造方法。
  • 半导体结构半导体器件及其制造方法
  • [发明专利]集成电路装置及其制造方法及位元单元阵列-CN202210107828.1在审
  • 刘相玮;杨詠傑;杨耀仁 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2022-01-28 - 2022-08-30 - H01L27/112
  • 一种集成电路装置及其制造方法及位元单元阵列,集成电路(integrated circuit,IC)装置包括晶体管及可程序化结构区域。晶体管区域包括用以接收参考电压的源极结构、漏极结构的第一部分、及在源极结构与漏极结构的第一部分之间定位并且用以接收启用信号的栅电极。可程序化结构区域包括漏极结构的第二部分、用以接收操作电压的第一信号线、第二信号线、在第一信号线下面并且电性连接到第一信号线的栅极通孔、及在漏极结构的第二部分与第二信号线之间定位并且电性连接到漏极结构的第二部分及第二信号线的漏极通孔。第一信号线包括栅极通孔位置的部分及第二信号线包括漏极通孔位置的部分在IC装置的相同金属层中平行定位。
  • 集成电路装置及其制造方法位元单元阵列
  • [发明专利]存储器件及其制造方法-CN202210073446.1在审
  • 陈建盈;杨耀仁;黄家恩 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2022-01-21 - 2022-05-31 - H01L27/112
  • 本公开涉及存储器件及其制造方法。公开了一种存储器件。存储器件包括第一晶体管以及电耦合到第一晶体管的第一电容器,第一晶体管和第一电容器形成第一一次性可编程(OTP)存储单元。第一电容器具有第一底部金属端子、第一顶部金属端子、以及介于第一底部金属端子与第一顶部金属端子之间的第一绝缘层。第一绝缘层包括第一部分、与第一部分分开的第二部分、以及在第一部分和第二部分之间垂直地延伸的第三部分。第一底部金属端子位于第一绝缘层的第一部分的正下方并与该第一部分接触。
  • 存储器件及其制造方法
  • [发明专利]集成电路结构及其形成方法-CN201810981272.2有效
  • 张盟昇;彭绍栋;周绍禹;张良川;杨耀仁 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2018-08-27 - 2021-10-15 - H01L27/112
  • 本发明的实施例提供了集成电路结构及其形成方法。集成电路结构包括:形成在第一金属层中的第一熔丝线;形成在第一金属层中的第二熔丝线;形成在第一金属层中且位于第一熔丝线的第一端的相对两侧上的第一对熔丝翼;形成在第一金属层中且位于第二熔丝线的第一端的相对两侧上的第二对熔丝翼;形成在第一金属层中且位于第一熔丝线的第二端的相对两侧上的第三对熔丝翼;以及形成在第一金属层中且位于第二熔丝线的第二端的相对两侧上的第四对熔丝翼。第一对熔丝翼和第二对熔丝翼共用第一共用熔丝翼并且第三对熔丝翼和第四对熔丝翼共用第二共用熔丝翼。
  • 集成电路结构及其形成方法

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