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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]晶圆湿处理工作站-CN202010000385.7在审
发明人：黄富源;吴宗恩;邱云正;吴进原 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-01-02 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本揭示提供一种晶圆湿处理工作站，包含浸泡槽、机械手臂、和单晶圆处理设备。晶圆以其板面垂直于水平面的方式浸入预先注满工艺液体的所述浸泡槽内。机械手臂包含保持部和翻转部。所述晶圆保持于所述保持部上。翻转部控制所述保持部相对于所述水平面翻转。通过所述翻转部将所述保持部翻转90度而使得所述晶圆以其板面平行于所述水平面的方式传送。单晶圆处理设备施加清洗液体至浸泡过所述工艺液体的晶圆的所述板面。晶圆湿处理工作站可对晶圆执行浸泡、喷洗等一系列清洗工艺，以实现具有芯片微小化和高密度导线布局的晶圆的清洗。
晶圆湿处理工作站

[实用新型]化学桶倾斜装置-CN202021780933.4有效
发明人：罗翔隆 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-08-24 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： B66F7/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种化学桶倾斜装置，用以安置并倾斜化学桶。化学桶倾斜装置包含滚轮座、顶起机构及抵靠部。滚轮座具有复数滚轮，且复数滚轮之间具有复数间隙。顶起机构具有基座、升降座及至少一顶杆，升降座可相对于基座上升或下降，且至少一顶杆设置于升降座上。抵靠部设置于滚轮座的上方，以当化学桶倾斜时，化学桶可抵靠于抵靠部。其中，当升降座下降时，至少一顶杆随之下降至复数间隙内，当升降座上升时，至少一顶杆被提升以自化学桶的底侧部顶起化学桶，使化学桶倾斜。
化学倾斜装置

[实用新型]自动晶圆定位总成-CN202021390704.1有效
发明人：邱云正 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-07-15 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型提供一种自动晶圆定位总成，用以定位晶圆以进行湿式加工。自动晶圆定位总成包含白努利转盘、复数定位装置及控制部。当白努利转盘未产生气垫且控制部使复数定位装置处于开启状态时，晶圆可被置入于白努利转盘上或自白努利转盘上取出。当白努利转盘产生气垫且控制部使复数定位装置处于关闭状态时，晶圆悬浮及旋转于白努利转盘上方以进行湿式加工。
自动定位总成

[实用新型]基板固定装置-CN202021780928.3有效
发明人：陈贤鸿;吴宗恩 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-08-24 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板固定装置，用以固定并吸附大尺寸方形基板。基板固定装置包含夹盘机构及旋转机构。夹盘机构具有第一表面及与第一表面相对设置的第二表面。夹盘机构包含设置于第一表面上的复数真空吸盘、复数夹持机构并定义矩形边缘区域，且复数真空吸盘及复数夹持机构设置于矩形边缘区域内。旋转机构连接于夹盘机构的第二表面以带动夹盘机构进行旋转。大尺寸方形基板的周缘对应设置于夹盘机构的矩形边缘区域内，使复数真空吸盘可吸附于大尺寸方形基板的表面，且复数夹持机构可夹持于大尺寸方形基板的周缘。
固定装置

[发明专利]卡匣旋转设备和卡匣-CN201910604607.3在审
发明人：黄立佐;吴进原;张修凯 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2019-07-05 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本揭示提供一种卡匣旋转设备和卡匣。卡匣旋转设备包含：一平台；一卡匣，放置在所述平台上方，用于承载一基板；以及一转动元件，通过其一转轴可绕轴转动地设置在所述平台上且与所述卡匣的边缘接触，其中所述转动元件的转动可带动所述卡匣沿着其边缘旋转，使得所述基板在所述平台上方绕着垂直于所述基板的板面的一中心轴进行绕轴转动，并且使所述基板在所述卡匣内移动。
旋转设备

[发明专利]基板传送设备、半导体制程机台及基板传送方法-CN201910561490.5在审
发明人：李曜如;张宏文;范振峯 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2019-06-26 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：一种基板传送设备、一种半导体制程机台及一种基板传送方法。基板传送设备包括传送装置以及定位装置。所述传送装置用以传送所述基板至所述定位装置进行定位。所述定位装置用以计算所述基板的待测位置。若所述待测位置与第一默认位置相同，则所述定位装置提供默认传送坐标至所述传送装置。若所述待测位置与所述第一默认位置不同，则所述定位装置提供修正传送坐标至所述传送装置。所述修正传送坐标包含所述预设传送坐标以及坐标修正值。所述第一默认位置为默认圆心坐标，所述待测位置为所述基板的圆心坐标检测值。
传送设备半导体机台方法

[实用新型]多孔性基板之湿式处理设备-CN202021303873.7有效
发明人：陈鹏宇;吴宗恩 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-07-06 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本揭示提供一种多孔性基板之湿式处理设备，包含旋转装置和液体供应装置。旋转装置包含承载台、旋转件、管路、和排液管。承载台配置为将多孔性基板保持于其上。旋转件与所述承载台连接，配置为带动所述承载台绕着旋转轴旋转。管路设置在所述旋转件内部，包含进液口和多个排出口。排液管与所述旋转件相邻。液体供应装置设置在所述旋转装置的所述承载台的上方，配置为对所述多孔性基板施加一工艺液体。所述工艺液体依序通过所述管路和所述排液管而被排出至所述旋转装置的外部。
多孔性基板处理设备

[发明专利]半导体干燥设备和半导体干燥用处理液体循环与过滤方法-CN201610576085.7有效
发明人：黄立佐;王家康;叶荫晟;姜瑞丰;许明哲 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2016-07-21 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体干燥设备和用于所述设备的半导体干燥用处理液体的循环与过滤方法。所述半导体干燥设备包含：一干燥处理槽、一液体暂存槽、以及一循环管路系统，连接在所述干燥处理槽与所述液体暂存槽之间，包含一第一过滤器。当所述半导体干燥用处理液体存放在所述液体暂存槽内时，利用所述循环管路系统将所述液体暂存槽内的半导体干燥用处理液体输出，并通过所述第一过滤器回送至所述液体暂存槽内，以经常保持所述半导体干燥用处理液体内的微粒数量在准许数量以下。
半导体干燥设备干燥用处液体循环过滤方法

[发明专利]基板压平设备与使用所述基板压平设备的半导体制造方法-CN201610378204.8有效
发明人：黄富源;刘文明;陈薇云;陈建龙 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2016-05-31 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板压平设备和使用所述基板压平设备的半导体制造方法。所述基板压平设备，包含：一基座；一旋转臂，其一端与所述基座可转动地连接；以及一盘型组件，与所述旋转臂的另一端连接，其中所述盘型组件随着所述旋转臂在一垂直平面上的转动而向下移动，使得所述盘型组件的一盘面叠置于承载在一旋转夹头的一基板上，并且对所述基板施以一垂直向下的压力，以便将所述基板平整地压合于所述旋转夹头上。
压平设备使用述基板半导体制造方法

[发明专利]单晶圆湿处理设备-CN201910372200.2在审
发明人：陈贤鸿;吴宗恩 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本揭示提供一种单晶圆湿处理设备，包含：旋转台，用于放置晶圆；液体供应装置，用于对所述晶圆施加多种工艺液体；液体回收装置，包含多个回收环，其中每一所述回收环用于收集对应的其中一种工艺液体及其夹带的气液混合物；以及多个气体回收装置，分别与所述液体回收装置的所述多个回收环对应连接，用于将收集的所述气液混合物排出。
单晶圆湿处理设备

[实用新型]化学药剂定量装置-CN202020139041.X有效
发明人：黄立佐;张修凯;许明哲 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-01-21 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G01F23/14 文献下载
摘要：本实用新型提供一种化学药剂定量装置。化学药剂定量装置包含定量槽、第一管路，添加化学药剂至定量槽内、第二管路，将化学药剂自定量槽排出、可调式抽液管路，包括抽液口，其设置于定量槽内的特定高度、以及抽气管，与所述可调式抽液管路连通。其中，通过抽气管导入气体时所产生的负压，将高于抽液口的多余化学药剂自可调式抽液管路抽出，以完成化学药剂的定量作业。
化学药剂定量装置

[实用新型]批次式基板浸泡洗边设备-CN202020636217.2有效
发明人：黄立佐;张修凯;黄富源 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种批次式基板浸泡洗边设备，包括一槽体、一升降机构、一旋转机构、以及一洗边构件。所述槽体包括一容槽，用于盛装溶液及用于容纳基板载具及所述基板载具中的基板。所述升降机构，设置在所述槽体上，包括一升降座，所述升降座用于承载所述基板载具；所述旋转机构设置在所述升降座上，并且包括至少一旋转轴杆，用于与所述基板接触并带动所述基板旋转，所述旋转轴杆的表面设有复数个凹槽。所述洗边构件包括设置在所述凹槽外两侧的刷毛丛及/或设置在所述凹槽内表面的粗糙部，所述刷毛丛及/或粗糙部用于在所述旋转轴杆带动所述基板旋转时，摩擦所述基板的边缘。
批次式基板浸泡设备

[发明专利]批次基板湿式处理装置及批次基板湿式处理方法-CN201910062094.8在审
发明人：黄立佐;吴进原;张修凯 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种批次基板湿式处理装置，包括一槽体、一基板升降机构、一基板旋转机构以及一主控模块。所述槽体用于容纳晶舟以及位于所述晶舟中的基板。所述基板升降机构设置在所述槽体上，升降所述晶舟及所述晶舟中的基板。所述基板旋转机构设置在所述基板升降机构上，且用于接触并带动所述基板进行旋转。所述主控模块连接所述基板升降机构以及所述基板旋转机构，且控制所述基板升降机构的升降以及所述基板旋转机构的旋转。透过控制基板相对所述槽体中蚀刻液的高度位置及旋转速度，可提高所述基板被蚀刻之均匀度。
批次基板湿式处理装置方法

[实用新型]晶圆湿处理工作站-CN202020001771.3有效
发明人：黄富源;吴宗恩;邱云正;吴进原 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-01-02 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本揭示提供一种晶圆湿处理工作站，包含浸泡槽、机械手臂、和单晶圆处理设备。晶圆以其板面垂直于水平面的方式浸入预先注满工艺液体的所述浸泡槽内。机械手臂包含保持部和翻转部。所述晶圆保持于所述保持部上。翻转部控制所述保持部相对于所述水平面翻转。通过所述翻转部将所述保持部翻转90度而使得所述晶圆以其板面平行于所述水平面的方式传送。单晶圆处理设备施加清洗液体至浸泡过所述工艺液体的晶圆的所述板面。晶圆湿处理工作站可对晶圆执行浸泡、喷洗等一系列清洗工艺，以实现具有芯片微小化和高密度导线布局的晶圆的清洗。
晶圆湿处理工作站

[实用新型]基板湿处理设备及回收环-CN202020012759.2有效
发明人：吴宗恩;黄富源 -专利权人： 弘塑科技股份有限公司
申请日： 2020-01-03 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本揭示提供一种基板湿处理设备及回收环。基板湿处理设备，包含旋转台、液体供应装置、液体回收装置、和多个气体回收装置。旋转台配置为放置基板。液体供应装置配置为对所述基板施加工艺液体。所述液体回收装置包含回收环，其配置为收集所述工艺液体及其混合的气液混合物。所述回收环包含多个区域和多个抽气口，且其中之一抽气口对应设置在其中之一区域。多个气体回收装置分别与所述回收环的所述多个抽气口对应连接，以收集所述回收环的对应区域内的所述气液混合物。
基板湿处理设备回收

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