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- [实用新型]基板处理系统-CN201621292696.0有效
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高永学
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K.C.科技股份有限公司
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2016-11-29
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2017-06-16
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H01L21/304
- 本实用新型涉及一种基板处理系统，其包括研磨部，其对基板进行化学机械研磨(CMP)工艺；载体头，其将完成研磨工艺的基板沿着预先设定的移送路径，向设置于研磨部的卸载区域移送；湿式处理部，其沿着移送路径设置于研磨部，并在完成研磨工艺的基板沿着移送路径连续地移送期间将基板处理为湿式(wetting)状态，据此可得到的效果在于，稳定地保持完成研磨工艺的基板的湿式状态，减少用于将基板保持为湿式状态的流体的使用量。
- 处理系统
- [发明专利]基板处理装置-CN02800028.5无效
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水川茂;中田胜利;松元俊二
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住友精密工业株式会社
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2002-03-08
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2003-11-12
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H01L21/304
- 本发明涉及一边以运送机构运送基板，一边依序对基板施以湿式及干式处理的基板处理装置。该基板处理装置具备：用来运送基板(W)的运送机构(1)；对被运送的基板(W)施以湿式处理的湿式处理部(WET)；配设于比湿式处理部(WET)更靠运送方向下流侧，使处理液形成膜状后供给至基板(W)上的膜液供给机构(4)；以及其开口部以与基板(W)的全面相对向的方式配置于膜液供给机构(4)的运送方向下流侧，由开口部喷出气体，产生板状气流的气体喷出机构。
- 处理装置
- [发明专利]湿式镀膜系统-CN200910305218.7有效
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黄建豪;裴绍凯
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鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
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2009-08-05
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2011-03-23
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C23C18/00
- 本发明涉及一种湿式镀膜系统，其包括选择性地相互连通的一个镀膜室、一个退火室及一个设置在该退火室上的腔门。该镀膜室内包括一个用于对至少一个待镀膜基板进行镀膜的湿式镀膜装置及一个夹持手臂。该夹持手臂用于夹持该湿式镀膜装置并驱动该湿式镀膜装置在镀膜室及退火室内自由移动。该至少一个待镀膜基板在该湿式镀膜装置上的装卸通过该腔门在该退火室内进行。该退火室内包括一加热装置，该加热装置用于对该湿式镀膜装置产生的镀膜基板进行加热，该加热后的镀膜基板在该退火室内冷却。该湿式镀膜系统，通过在相互连通的镀膜室、退火室内进行镀膜及加热，从而可避免因该镀膜基板在空气中的移动而带来的氧化问题，提升了镀膜良率。
- 镀膜系统
- [发明专利]显示面板的制造方法-CN201580045229.X在审
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山口胜宽
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夏普株式会社
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2015-08-18
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2017-05-10
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B08B7/00
- 液晶面板(11)的制造方法具备湿式清洗工序，对CF基板(11a)和阵列基板(11b)的外面(11a1、11b1)进行湿式清洗；等离子体清洗工序，在湿式清洗工序之前和之后中的至少一方进行，通过对CF基板(11a)和阵列基板(11b)的外面(11a1、11b1)照射等离子体来清洗该外面(11a1、11b1)；以及偏振板贴附工序，在结束湿式清洗工序和等离子体清洗工序后，将偏振板(11f、11g)贴附到CF基板(11a)和阵列基板(11b)的外面(11a1、11b1)。
- 显示面板制造方法
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