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[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN202310994427.7在审
发明人：吉田幸史;髙桥弘明;尾辻正幸;奥谷学;前田主悦;阿部博史;安田周一;金松泰范 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供从基板的上表面良好去除颗粒且使上表面良好干燥的基板处理方法和装置。该基板处理方法包括：第一处理液供给工序，向基板的上表面供给第一处理液；保持层形成工序，使所述第一处理液固化或硬化，在所述基板的上表面形成颗粒保持层；保持层去除工序，将所述颗粒保持层从基板的上表面剥离并去除；液膜形成工序，将所述颗粒保持层从所述基板上去除之后，形成第二处理液的液膜；固化工序，将所述液膜冷却至所述升华性物质的融点以下的温度，使所述液膜在所述基板上固化来形成固体膜；升华工序，使所述固体膜升华来从基板上去除。
处理方法装置

[发明专利]一种基板处理方法和基板处理装置-CN202310969277.4在审
发明人：奥谷学;髙桥弘明;尾辻正幸;阿部博史;前田主悦;中井仁司;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，包括：混合液膜形成工序，向基板的表面供给混合处理液，在所述基板的表面形成所述混合处理液的液膜，所述混合处理液是将第一升华性物质和与所述第一升华性物质不同的第一添加剂混合而成的混合处理液，且该混合处理液的凝固点低于所述第一升华性物质的凝固点；凝固工序，使所述混合处理液的所述液膜凝固来形成凝固体；以及升华工序，使所述凝固体中所含的所述第一升华性物质升华以从所述基板的表面去除所述第一升华性物质。
一种处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液-CN202310947663.3在审
发明人：佐佐木悠太;尾辻正幸;藤原直澄;加藤雅彦;山口佑;高桥弘明 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液。向形成有图案的衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液为包含不经液体即变化为气体的升华性物质和与升华性物质互溶的溶剂的溶液。然后，从衬底的表面上的干燥前处理液中蒸发溶剂，由此在衬底的表面上形成包含升华性物质的凝固体。然后，通过使凝固体升华，从而将所述凝固体从衬底的表面除去。凝固体的厚度相对于图案的高度的比例乘以一百而得到的值超过76且小于219。
衬底处理方法装置干燥

[发明专利]基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置-CN202310109948.X在审
发明人：田中友耶;尾辻正幸;田中孝佳 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C09D5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种具有优异的干燥性能且能够良好地去除附着于基板表面的液体的基板处理液、基板处理方法以及基板处理装置。在本发明中，基板处理液具备升华性物质、溶解所述升华性物质的溶剂、以及助剂，所述助剂通过添加至用所述溶剂溶解所述升华性物质所得的溶液中，从而使超过溶解度的所述升华性物质的粒子分散于所述溶液中。因此，在基板处理液中超过溶解度的升华性物质的粒子均匀地分散并溶解于溶剂中。因此，向基板的图案形成面供给的升华性物质比现有技术多，在图案的内部存在大量的升华性物质(固相)。其结果是，可有效地抑制图案间的溶剂残存，可在利用升华性物质(固相)牢固地保持图案的状况下执行升华干燥。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201811469611.5有效
发明人：吉田幸史;髙桥弘明;尾辻正幸;奥谷学;前田主悦;阿部博史;安田周一;金松泰范 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-11-28 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供从基板的上表面良好去除颗粒且使上表面良好干燥的基板处理方法和装置。该基板处理方法包括：第一处理液供给工序，向基板的上表面供给第一处理液；保持层形成工序，使所述第一处理液固化或硬化，在所述基板的上表面形成颗粒保持层；保持层去除工序，将所述颗粒保持层从基板的上表面剥离并去除；液膜形成工序，将所述颗粒保持层从所述基板上去除之后，形成第二处理液的液膜；固化工序，将所述液膜冷却至所述升华性物质的融点以下的温度，使所述液膜在所述基板上固化来形成固体膜；升华工序，使所述固体膜升华来从基板上去除。
处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN201910583654.4有效
发明人： 尾辻正幸;高桥弘明;加藤雅彦;藤原直澄;山口佑;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。该衬底处理方法包括：干燥前处理液供给工序，向衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液包含形成凝固体的凝固体形成物质、和与上述凝固体形成物质互溶的溶解物质，并且所述干燥前处理液具有比上述凝固体形成物质的凝固点低的凝固点；凝固体形成工序，通过使上述衬底的表面上的上述干燥前处理液的一部分固化，从而在上述干燥前处理液中形成包含上述凝固体形成物质的上述凝固体；液体除去工序，在将上述凝固体保留于上述衬底的表面上的同时，将上述衬底的表面上的上述干燥前处理液除去；和固体除去工序，通过使保留于上述衬底的表面上的上述凝固体变化为气体，从而将所述凝固体从上述衬底的表面除去。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液-CN201910544595.X有效
发明人：佐佐木悠太;尾辻正幸;藤原直澄;加藤雅彦;山口佑;高桥弘明 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液。向形成有图案的衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液为包含不经液体即变化为气体的升华性物质和与升华性物质互溶的溶剂的溶液。然后，从衬底的表面上的干燥前处理液中蒸发溶剂，由此在衬底的表面上形成包含升华性物质的凝固体。然后，通过使凝固体升华，从而将所述凝固体从衬底的表面除去。凝固体的厚度相对于图案的高度的比例乘以一百而得到的值超过76且小于219。
衬底处理方法装置干燥

[发明专利]一种基板处理方法和基板处理装置-CN201811110408.9有效
发明人：奥谷学;髙桥弘明;尾辻正幸;阿部博史;前田主悦;中井仁司;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，包括：处理液膜形成工序，向基板的图案形成面供给含有升华性物质的处理液，在所述图案形成面形成处理液膜；温度保持工序，将形成于所述图案形成面的所述处理液膜的温度保持在所述升华性物质的熔点以上且小于所述升华性物质的沸点的温度范围内；薄膜化工序，在所述处理液膜的温度处于所述温度范围内的期间使所述处理液膜变薄；凝固工序，在所述温度保持工序之后，使通过所述薄膜化工序变薄的所述处理液膜在所述图案形成面上凝固而形成所述升华性物质的凝固体；以及升华工序，使所述凝固体升华而从所述图案形成面去除所述凝固体。
一种处理方法装置

[发明专利]牺牲膜形成方法、基板处理方法以及基板处理装置-CN201780045875.5有效
发明人： 尾辻正幸 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-08-22 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种牺牲膜形成方法，通过从基板侧对覆盖形成有图案P的基板W的表面的牺牲聚合物溶液25的液膜26进行加热，使与基板的表面接触的溶液蒸发，从而使液膜在保持于图案中的除了基部以外的至少顶端部的状态下干燥，由此形成牺牲膜。本发明还提供一种基板处理方法以及基板处理装置，利用所形成的牺牲膜抑制或防止图案的倒塌且对基板的表面进行处理。
牺牲形成方法处理以及装置

[发明专利]基板处理装置-CN201780084440.1有效
发明人： 尾辻正幸;桥本光治;高桥光和;本庄一大 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-12-19 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种基板处理装置，包括：涂布膜形成单元，具有涂布室，且在所述涂布室内部对基板的表面涂布表面张力比水小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，具有升华室，且在所述升华室内部使形成于所述基板的表面的涂布膜升华；减压单元，将所述升华室内部减压至比大气压低的压力；主搬运单元，将基板搬入所述涂布室；局部搬运单元，从所述涂布室向所述升华室搬运基板；以及涂布膜状态保持单元，用于在所述局部搬运单元从所述涂布室向所述升华室搬运所述基板的期间保持所述涂布膜的状态。
处理装置

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201780045876.X有效
发明人：清水大介;尾辻正幸;岩畑翔太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-01 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理方法包括：基板保持工序，保持在一侧主面形成有图案的基板；电荷供给工序，将一种极性的电荷供给至所述基板；第一电压施加工序，与所述电荷供给工序并行，将另一种极性的电压施加至经由电介体配置于所述基板的另一侧主面的第一电极；第二电压施加工序，在所述第一电压施加工序后，一边保持解除所述基板的接地连接的状态，一边将所述一种极性的电压施加至所述第一电极；以及干燥工序，与所述第二电压施加工序并行，通过从所述基板的一侧主面去除液体而使所述基板干燥。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201880011744.X有效
发明人： 尾辻正幸;高桥光和;本庄一大 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-03-01 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置包括：液体处理单元，在处理室内对基板的表面供给处理液，从而在基板的表面形成处理液膜；固化单元，在固化室内使所述处理液膜固化而在所述基板的表面上形成固化膜；去除处理单元，在去除室内将用于去除所述固化膜的去除液供给至所述基板的表面；主运送单元，向所述处理室送入基板，并从所述去除室送出基板；以及局部运送单元，从所述处理室送出基板并向所述固化室送入基板。
处理装置方法

[发明专利]图案倒塌恢复方法、基板处理方法以及基板处理装置-CN201780046195.5有效
发明人： 尾辻正幸 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-01 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种图案倒塌恢复方法，是使形成于基板的表面的已倒塌的图案恢复的方法，所述图案倒塌恢复方法包括反应气体供给工序，在所述反应气体供给工序中，向所述基板的所述表面供给能够与夹杂于所述表面的生成物发生反应的反应气体。所述反应气体供给工序包括氟化氢蒸气供给工序，在所述氟化氢蒸气供给工序中，向所述基板的所述表面供给包含氟化氢的蒸气。所述图案倒塌恢复方法还包括基板加热工序，所述基板加热工序与所述氟化氢蒸气供给工序并行进行，用于加热所述基板。
图案倒塌恢复方法处理以及装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202010482318.3有效
发明人：藤原直澄;尾辻正幸;加藤雅彦;山口佑 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： F26B5/04 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括下述工序：含有升华性物质的液膜形成工序，通过将含有升华性物质的液体向形成有图案的衬底的表面供给，从而在衬底的表面上形成将衬底的表面覆盖的含有升华性物质的液体的液膜，含有升华性物质的液体为包含不经液体即从固体变化为气体的升华性物质和使升华性物质溶解的溶剂的溶液；过渡状态膜形成工序，使溶剂从液膜蒸发而形成升华性物质的固体，由此在衬底的表面形成升华性物质的固体处于结晶化之前的结晶前过渡状态的过渡状态膜；和过渡状态膜除去工序，通过在将升华性物质的固体维持为结晶前过渡状态的同时、使衬底的表面上的升华性物质的固体升华，从而将过渡状态膜从衬底的表面除去。
衬底处理方法装置

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法、学习用数据的生成方法、学习方法、学习装置、学习完毕模型的生成方法以及学习完毕模型-CN202180036643.X在审
发明人：鳅场真树;尾辻正幸;樋口鲇美 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2021-04-28 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置(100)具备基板保持部(120)、处理液供给部(160)、输入信息取得部(22a)、升华干燥处理条件信息取得部(22b)以及控制部(22)。输入信息取得部(22a)取得输入信息，输入信息包含基板信息以及处理液信息中的至少一者的信息。升华干燥处理条件信息取得部(22b)基于输入信息从学习完毕模型取得针对处理对象基板的升华干燥处理条件信息，升华干燥处理条件信息显示升华干燥处理条件。控制部(22)基于在升华干燥处理条件信息取得部(22b)中所取得的升华干燥处理条件信息，控制基板保持部(120)以及处理液供给部(160)，以对处理对象基板予以升华干燥处理。
处理装置方法习用数据生成学习方法学习完毕模型以及

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