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[发明专利]一种基板处理方法和基板处理装置-CN202310969277.4在审
发明人：奥谷学;髙桥弘明;尾辻正幸;阿部博史;前田主悦;中井仁司;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，包括：混合液膜形成工序，向基板的表面供给混合处理液，在所述基板的表面形成所述混合处理液的液膜，所述混合处理液是将第一升华性物质和与所述第一升华性物质不同的第一添加剂混合而成的混合处理液，且该混合处理液的凝固点低于所述第一升华性物质的凝固点；凝固工序，使所述混合处理液的所述液膜凝固来形成凝固体；以及升华工序，使所述凝固体中所含的所述第一升华性物质升华以从所述基板的表面去除所述第一升华性物质。
一种处理方法装置

[发明专利]衬底干燥方法及衬底干燥装置-CN201880058723.3有效
发明人：塙洋祐;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-06-19 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：对附着有液体的衬底的正面供给包含升华性物质的处理液而形成液膜，使所述液膜凝固而变成凝固体。对形成在衬底正面的凝固体以在衬底的整面每单位面积的流量变成固定的方式供给氮气。在衬底的整面，凝固体均匀地升华，凝固体的气体固体界面朝与衬底正面垂直的方向移动。图案的凸部不会因凝固体的气体固体界面移动而被牵引，能够防止形成在衬底正面的图案倒塌，并且使该正面良好地干燥。
衬底干燥方法装置

[发明专利]衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液-CN202310947663.3在审
发明人： 佐佐木悠太;尾辻正幸;藤原直澄;加藤雅彦;山口佑;高桥弘明 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液。向形成有图案的衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液为包含不经液体即变化为气体的升华性物质和与升华性物质互溶的溶剂的溶液。然后，从衬底的表面上的干燥前处理液中蒸发溶剂，由此在衬底的表面上形成包含升华性物质的凝固体。然后，通过使凝固体升华，从而将所述凝固体从衬底的表面除去。凝固体的厚度相对于图案的高度的比例乘以一百而得到的值超过76且小于219。
衬底处理方法装置干燥

[发明专利]衬底处理方法及处理液-CN202280010878.6在审
发明人：国枝省吾;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-01-20 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理方法及处理液。衬底处理方法包含处理液供给步骤、固化膜形成步骤及升华步骤。处理液供给步骤向衬底供给处理液。处理液包含升华性物质、溶剂及表面活性剂。固化膜形成步骤使溶剂及表面活性剂从衬底上的处理液中蒸发。固化膜形成步骤在衬底上形成包含升华性物质的固化膜。升华步骤使固化膜升华。表面活性剂的辛醇/水分配系数LOGPow为‑1以上且1以下。室温下的表面活性剂的蒸气压Pc为室温下的溶剂的蒸气压Pb的0.9倍以上且3倍以下。
衬底处理方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201910129594.9有效
发明人：塙洋祐;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-02-21 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，所述基板处理方法能够一边防止形成于基板的主面的图案的倒塌，一边去除附着于基板的主面的液体。本发明的基板处理方法的特征在于，包括：供给工序S13，向基板W的图案形成面供给含有熔融状态的干燥辅助物质的处理液；凝固工序S15，使处理液在图案形成面上凝固而形成凝固体；去除工序S16，将凝固体从图案形成面去除，作为干燥辅助物质，使用满足大气压下的熔点下的熔化熵为1mJ/cm3·K以上且500mJ/cm3·K以下、以及大气压下的0℃下的升华熵为1mJ/cm3·K以上且2000mJ/cm3·K以下的至少一者的物质。
处理方法以及装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN201910583654.4有效
发明人：尾辻正幸;高桥弘明;加藤雅彦;藤原直澄;山口佑;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。该衬底处理方法包括：干燥前处理液供给工序，向衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液包含形成凝固体的凝固体形成物质、和与上述凝固体形成物质互溶的溶解物质，并且所述干燥前处理液具有比上述凝固体形成物质的凝固点低的凝固点；凝固体形成工序，通过使上述衬底的表面上的上述干燥前处理液的一部分固化，从而在上述干燥前处理液中形成包含上述凝固体形成物质的上述凝固体；液体除去工序，在将上述凝固体保留于上述衬底的表面上的同时，将上述衬底的表面上的上述干燥前处理液除去；和固体除去工序，通过使保留于上述衬底的表面上的上述凝固体变化为气体，从而将所述凝固体从上述衬底的表面除去。
衬底处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液-CN201910544595.X有效
发明人： 佐佐木悠太;尾辻正幸;藤原直澄;加藤雅彦;山口佑;高桥弘明 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及衬底处理方法、衬底处理装置及干燥前处理液。向形成有图案的衬底的表面供给干燥前处理液，所述干燥前处理液为包含不经液体即变化为气体的升华性物质和与升华性物质互溶的溶剂的溶液。然后，从衬底的表面上的干燥前处理液中蒸发溶剂，由此在衬底的表面上形成包含升华性物质的凝固体。然后，通过使凝固体升华，从而将所述凝固体从衬底的表面除去。凝固体的厚度相对于图案的高度的比例乘以一百而得到的值超过76且小于219。
衬底处理方法装置干燥

[发明专利]一种基板处理方法和基板处理装置-CN201811110408.9有效
发明人：奥谷学;髙桥弘明;尾辻正幸;阿部博史;前田主悦;中井仁司;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，包括：处理液膜形成工序，向基板的图案形成面供给含有升华性物质的处理液，在所述图案形成面形成处理液膜；温度保持工序，将形成于所述图案形成面的所述处理液膜的温度保持在所述升华性物质的熔点以上且小于所述升华性物质的沸点的温度范围内；薄膜化工序，在所述处理液膜的温度处于所述温度范围内的期间使所述处理液膜变薄；凝固工序，在所述温度保持工序之后，使通过所述薄膜化工序变薄的所述处理液膜在所述图案形成面上凝固而形成所述升华性物质的凝固体；以及升华工序，使所述凝固体升华而从所述图案形成面去除所述凝固体。
一种处理方法装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201780082242.1有效
发明人：塙洋祐;上田大;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-11-10 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种能够降低基板上的图案的倒塌的基板处理方法及基板处理装置。本发明的基板处理方法的特征在于，包括：供给工序S13，向基板W的图案形成面供给包含熔融状态的升华性物质的处理液；凝固工序S14，使所述处理液在所述图案形成面上凝固而形成凝固体63；升华工序S15，使凝固体63升华而从所述图案形成面去除；以及有机物去除工序S16、S17，将在凝固体63升华时在升华界面析出的有机物去除，有机物去除工序S16、S17与升华工序S15至少一部分重叠进行。
处理方法装置

[发明专利]衬底处理方法及衬底处理装置-CN202211122194.3在审
发明人： 佐佐木悠太;塙洋祐;国枝省吾 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-09-15 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。本发明是一种使形成有图案的衬底干燥的衬底处理方法，所述衬底处理方法包含以下步骤。也就是包含固化膜形成液供给步骤、整面涂布步骤、固化膜形成步骤及升华步骤，所述整面涂布步骤基于升华性物质的浓度、目标固化膜厚及固化膜形成转数的关系性，使所述衬底以所述固化膜形成转数旋转，所述目标固化膜厚是固化膜的膜厚，且是所希望的膜厚，所述固化膜形成转数是在所述升华性物质的浓度为指定浓度的情况下，用来形成目标固化膜厚的固化膜的所述衬底的转数。
衬底处理方法装置

[发明专利]学习装置及方法、信息处理装置、衬底处理装置及系统、配方确定方法及计算机可读介质-CN202211114852.4在审
发明人：塙洋祐;佐佐木悠太;国枝省吾 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G06F30/27 文献下载
摘要：本发明涉及一种学习装置、信息处理装置、衬底处理装置、衬底处理系统、学习方法、配方确定方法及存储有学习程序的计算机可读介质。学习装置具备：实验数据获取部，获取衬底上形成的固体的膜厚或液体的膜厚，所述固体的膜厚或液体的膜厚是在第1条件下驱动衬底处理装置而获得的，所述衬底处理装置在执行对衬底供给液体，在衬底上形成固体膜或液体膜的一系列处理之后，从衬底去除固体膜或液体膜而使衬底干燥；以及第1学习部，使学习模型学习第1教学数据，所述第1教学数据包含表示由实验数据获取部获取的固体的膜厚或液体的膜厚的特性的膜厚特性及第1条件。
学习装置方法信息处理衬底处理系统配方确定计算机可读介质

[发明专利]衬底处理方法-CN202210236633.7在审
发明人：国枝省吾;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种能得当地干燥衬底的衬底处理方法。本发明的处理衬底(W)的衬底处理方法包含脱水步骤、喷出步骤(混合液喷出步骤)、固化膜形成步骤及升华步骤。脱水步骤将混合液脱水。混合液包含升华性物质与溶媒。喷出步骤向衬底(W)的上表面(W1)喷出通过脱水步骤加以脱水后的混合液。固化膜形成步骤使溶媒从衬底(W)的上表面(W1)上的混合液中蒸发。固化膜形成步骤在衬底(W)的上表面(W1)上形成包含升华性物质的固化膜。升华步骤使固化膜升华。
衬底处理方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201810826132.8有效
发明人：塙洋祐;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的基板处理方法，进行基板的图案形成面的干燥处理，其特征在于，所述基板处理方法包括：供给工序，向所述基板的图案形成面供给含有升华性物质的处理液；温度调节工序，通过调节所述基板的温度，将供给至该基板的图案形成面的所述处理液控制在所述升华性物质的熔点以上且小于沸点的温度范围内；凝固工序，使温度调节后的所述处理液在所述图案形成面上凝固而形成凝固体；以及升华工序，使所述凝固体升华而从所述图案形成面除去，所述温度调节工序与所述供给工序至少一部分重叠进行，并且，所述温度调节工序至少在所述凝固工序开始前结束。
处理方法以及装置

[发明专利]含有升华性物质的液体的制造方法、基板干燥方法及基板处理装置-CN202080038988.4在审
发明人：尾辻正幸;藤原直澄;佐佐木悠太 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2020-03-26 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基于图案的表面为亲水性还是疏水性来选择升华性物质。在图案的表面为亲水性的情况下，选择对水的溶解度比所选择的升华性物质小的亲水用的溶剂，在图案的表面为疏水性的情况下，选择对油的溶解度比所选择的升华性物质小的疏水用的溶剂。使所选择的升华性物质溶解于所选择的溶剂中。
含有升华物质液体制造方法干燥处理装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201980086789.8在审
发明人： 佐佐木悠太;高桥弘明;藤原直澄;尾辻正幸;加藤雅彦;山口佑 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2019-11-25 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的基板处理方法包含：干燥前处理液供给工序，其是将升华性物质溶解于溶剂中而成的溶液即干燥前处理液供给至形成有图案的基板的上表面，而在上述基板的上述上表面形成上述干燥前处理液的液膜；析出工序，其是通过使上述溶剂自上述液膜蒸发，而使上述升华性物质的固体在上述基板的上述上表面析出；浓度判定工序，其是在上述析出工序中上述升华性物质的固体析出之前，基于通过上述溶剂的蒸发而上述液膜的厚度减少的速度即膜厚减少速度，判定上述液膜中的上述升华性物质的浓度是否为基准浓度范围内；及升华工序，其是在上述浓度判定工序中判定上述液膜中的上述升华性物质的浓度为基准浓度范围内的情形时，在上述析出工序结束后，使上述升华性物质的固体升华。
处理方法装置

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