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[实用新型]一种使用方便的数学线性图形演示装置-CN202120911865.9有效
发明人： 姜成建 -专利权人：威海职业学院（威海市技术学院）
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G09B5/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种使用方便的数学线性图形演示装置，本实用新型涉及教育讲解技术领域。该使用方便的数学线性图形演示装置，通过拉动第三滑动框，让第三滑动框将第一滑动框和第二滑动框从转动仓的内部移动，并通过弹簧将卡块从卡槽的内部顶出，让第一滑动框、第二滑动框和第三滑动框依次卡住，并让学生通过三组显示器对比学习线性图形演示过程的区别，提高学生对线性图形兴趣，再通过翻开转动外壳，从而让固定带将转动仓旋转90°，使转动仓垂直与固定外壳的内表面，再转动双向丝杆，双向丝杆将挤压块向固定外壳的中间移动，从而将转动仓固定夹在固定外壳的内部，这样可以让转动仓垂直与固定外壳的内部。
一种使用方便数学线性图形演示装置

[外观设计]高等数学绘图尺-CN202130275976.0有效
发明人： 姜成建 -专利权人：威海职业学院（威海市技术学院）
申请日： 2021-05-10 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： 19-06 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：高等数学绘图尺。2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于几何学中辅助绘图。3.本外观设计产品的设计要点：在于产品的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
高等数学绘图

[实用新型]一种用于室内照明的节电控制系统-CN201920082737.0有效
发明人：曾大通;付丽霞;陈显宁;陈昭宇;姜成建;罗长耘 -专利权人：昆明理工大学
申请日： 2019-01-16 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： H05B33/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于室内照明的节电控制系统，包括电源转换模块、人体感应模块、室内光强检测模块、灯管亮灭检测模块、微处理器、2路继电器模块、照明灯模块。本实用新型中的子系统安装于室内单个照明灯座上，室内有N个灯座的情况下可安装N个子系统，对于距离合适的每个灯座，通过安装子系统，每个子系统根据室内光强检测模块与人体感应模块所采集的灯座周围的光强信息和人体活动信息控制灯管1、灯管2的亮灭。如此，可自动点亮有人和光强不足的区域的灯，自动熄灭有人/无人但光强足够的区域的灯和光强不足但无人活动的区域的灯，实现局部照明控制，从而节约电能。
灯座检测模块灯管光强人体感应模块本实用新型室内光亮灭电源转换模块节电控制系统室内继电器模块照明灯模块微处理器单个照明光强信息局部照明人体活动室内照明信息控制自动点亮自动熄灭可安装采集节约

[发明专利]检测半导体装置的故障的方法-CN201910192150.X在审
发明人：崔芝影;詹瞻;金敏燮;金洲铉;姜成建;李化成 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-03-14 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供了一种检测半导体装置的故障的方法，所述方法包括：在基底的有源区上形成有源鳍，所述有源鳍在第一方向上延伸；在有源鳍上形成栅极结构，所述栅极结构在与第一方向交叉的第二方向上延伸；在栅极结构的相对侧处的有源鳍的对应部分上形成源极/漏极层；形成电连接到源极/漏极层的布线；以及施加电压以测量源极/漏极层之间的漏电流。可以在有源区上形成仅一个或两个有源鳍。可以在有源鳍上形成仅一个或两个栅极结构。
栅极结构源极/漏极源区半导体装置方向交叉施加电压测量源电连接漏电流漏极层种检测延伸布线基底

[发明专利]测试元件组和包括该测试元件组的半导体晶片-CN201910246824.X在审
发明人：詹瞻;金洲铉;姜成建;李化成 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：一种测试元件组包括：测试元件，该测试元件包括在第一节点与第二节点之间串联连接的多个测试晶体管，其中第二节点连接到地节点；第一晶体管，连接在第一节点与电源节点之间；以及第二晶体管，被配置为生成与第一节点处的电压成比例的输出电流，并且连接到第一节点和电源节点。
测试元件组测试元件电源节点晶体管半导体晶片测试晶体管节点连接输出电流地节点节点处配置

[发明专利]用于测量和校正对准误差的叠层标记-CN200410075896.6无效
发明人：李东勋;安钟现;柳到烈;姜成建 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2004-11-24 - 公布日： 2005-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于测量和校正图案对准误差的叠层标记。该叠层标记包括至少一形成在半导体衬底上的孔阵列和至少一靠近孔阵列的线沟槽。孔阵列可沿着预定方向靠近线沟槽形成。当检测形成在半导体衬底的预定部分的图案的对准误差时，叠层标记可提供具有理想宽度和高水平的光对比度，从而可以利用叠层标记精确检测并校正形成在半导体衬底上的图案的对准误差。
用于测量校正对准误差标记