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[发明专利]纤维强化复合材料的制造方法-CN202280014065.4在审
发明人：笹井裕也;饭塚佳夫;长田华穂;泷健太郎 -专利权人：芝浦机械株式会社;国立大学法人金泽大学
申请日： 2022-08-03 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B29B7/38 文献下载
摘要：纤维强化复合材料的制造方法包括：纤维分散工序，将树脂10a与纤维10b混练，来使纤维10b分散于树脂10a中而制成纤维分散树脂；以及低分子量化工序，在沿着内部包括通路88的螺杆主体37的外周面搬送纤维分散树脂时，通过设置于外周面上的通路88的入口91与出口92之间的障壁部82来限制纤维分散树脂的搬送，并对纤维分散树脂施加剪切力，并且使纤维分散树脂从通路88的入口91通过至通路88的出口92。
纤维强化复合材料制造方法

[发明专利]挤压成形机的异常检测装置-CN202080046495.5有效
发明人：尾原正俊;泷健太郎;木田司 -专利权人：芝浦机械株式会社;国立大学法人金泽大学
申请日： 2020-05-25 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B29C48/57 文献下载
摘要：双轴挤压成形机(30)(挤压成形机)的异常检测装置(50a)的信号取得部(51a)(取得部)当将被投入的树脂原料熔融并混匀的双轴挤压成形机(30)(挤压成形机)处于工作状态时，取得设置在该双轴挤压成形机(30)的壳体(32)的表面上的AE传感器(20)的AE输出(M(t))。并且，判定部(53a)基于AE输出(M(t))与第1阈值(Th1)及第2阈值(Th2)的关系，判定是否在双轴挤压成形机(30)中发生了异常。
挤压成形异常检测装置

[发明专利]钻石成膜用衬底基板、以及使用其的钻石基板的制造方法-CN201810104358.7有效
发明人：野口仁;牧野俊晴;小仓政彦;加藤宙光;川岛宏幸;山崎聪;德田规夫 -专利权人：信越化学工业株式会社;国立研究开发法人产业技术综合研究所;国立大学法人金泽大学
申请日： 2018-02-02 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L29/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种钻石基板的制造方法以及用于所述方法的衬底基板，其对于减低包含位错缺陷等的各种缺陷是有效的。上述衬底基板是用于利用化学气相沉积法来成膜钻石膜的衬底基板，其特征在于：前述衬底基板的表面，相对于规定的晶面方位附有偏离角。
钻石成膜用衬底以及使用制造方法

[发明专利]微粒子的制造装置以及微粒子的制造方法-CN201980093381.3有效
发明人：田中康规;儿玉直人;隐田一辉;渡边周;中村圭太郎;末安志织;渡边智也 -专利权人： 国立大学法人金泽大学;日清制粉集团本社股份有限公司
申请日： 2019-03-01 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明提供一种可控制微粒子的粒径，且可有效率地大量制造粒径均一性良好的微粒子的微粒子的制造装置及微粒子的制造方法。微粒子的制造装置具有：原料供给部，其将微粒子制造用的原料供给至热等离子体焰中；等离子体炬，其内部生成热等离子体焰，且将由原料供给部所供给的原料在热等离子体焰蒸发而形成气相状态的混合物；及等离子体生成部，其在等离子体炬的内部生成热等离子体焰。等离子体生成部具有：包围等离子体炬的周围的第1线圈、设置于第1线圈的下方且包围等离子体炬的周围的第2线圈、对第1线圈供给高频电流的第1电源部、及对第2线圈供给振幅调制的高频电流的第2电源部，第1线圈与第2线圈并排配置在等离子体炬的长度方向上。
微粒子制造装置以及方法

[发明专利]低分子量聚合物的制造方法、熔喷不织布的制造装置及制造方法-CN202080007363.1有效
发明人：笹井裕也;鲛岛孝文;饭塚佳夫;长田华穂;泷健太郎 -专利权人：芝浦机械株式会社;国立大学法人金泽大学
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C08F8/50 文献下载
摘要：提供一种适用于熔喷不织布的低分子量聚合物的制造方法及熔喷不织布的制造装置及制造方法，通过不添加过氧化物等促进热解反应的添加剂，而是对高分子量聚合物施加剪切力，将高分子量聚合物进行低分子量化，能够有效率地制造低分子量聚合物。使用连续式高剪切加工装置来制造低分子量聚合物及熔喷不织布，所述连续式高剪切加工装置通过螺杆本体(37)的旋转而对原料的高分子量聚合物施加剪切力，使其低分子量化而形成低分子量聚合物，并且通过在设置于螺杆本体(37)的内部的轴方向上的通路(88)中通过而将低分子量聚合物冷却。
分子量聚合物制造方法熔喷不织布装置

[发明专利]微粒子的制造装置及微粒子的制造方法-CN201980055895.X有效
发明人：田中康规;清水光太郎;末安志织;渡边周;渡边智也;中村圭太郎 -专利权人： 国立大学法人金泽大学;日清制粉集团本社股份有限公司
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明提供一种制造更小的微粒子的微粒子的制造装置及微粒子的制造方法。本发明的微粒子的制造装置具有：将微粒子制造用的原料供给到热等离子体焰中的原料供给部；在内部产生热等离子体焰，并通过热等离子体焰将原料供给部所供给的原料予以蒸发成为气相状态的混合物的等离子体炬；在等离子体炬的内部产生热等离子体焰的等离子体产生部：以及将急速冷却用气体供给到热等离子体焰的气体供给部，气体供给部对急速冷却用气体的供给量实施时间调变来进行供给。
微粒子制造装置方法

[发明专利]工件的化学机械研磨系统、演算系统、及化学机械研磨的模拟模型的制作方法-CN202180022839.3在审
发明人：铃木教和;安田穗积;望月宣宏;桥本洋平 -专利权人：株式会社荏原制作所;国立大学法人东海国立大学机构;国立大学法人金泽大学
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：一种工件的化学机械研磨系统、演算系统、及化学机械研磨的模拟模型的制作方法。本发明关于依据化学机械研磨的实测资料，将化学机械研磨的模拟模型最佳化的网络实体系统(CyberPhysicalSystem)。化学机械研磨系统具备：研磨工件(W)的研磨装置(1)；及演算系统(47)。演算系统(47)具有至少包含输出包含研磨工件(W)的推定研磨率的推定研磨物理量的物理模型的模拟模型。演算系统(47)构成为：将研磨工件(W)的研磨条件输入模拟模型，并从模拟模型输出研磨工件(W)的推定研磨物理量，决定使推定研磨物理量接近研磨工件(W)的实测研磨物理量的模拟模型的模型参数。
工件化学机械研磨系统演算模拟模型制作方法

[发明专利]半导体装置-CN202180024306.9在审
发明人：加藤宙光;小仓政彦;牧野俊晴;山崎聡;松本翼;德田规夫;猪熊孝夫 -专利权人：国立研究开发法人产业技术综合研究所;国立大学法人金泽大学
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01L29/78 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种不具有漂移层的适于高耐压的新的半导体装置。本发明的半导体装置的特征在于具有：第1导电型的第1半导体层，形成为p型及n型中的任一导电型；源极部，以与所述第1半导体层相接的方式配置，且形成为所述导电型与所述第1导电型不同的第2导电型的半导体部；源极电极，与所述源极部欧姆接触而配置；栅极电极，介隔栅极绝缘膜而配置在所述第1半导体层的任一个面上，且利用施加电场能够在所述第1半导体层中与所述栅极绝缘膜的接触面附近的区域形成反转层；所述第1导电型的第2半导体层，以与所述反转层相接的方式配置；以及漏极电极，与所述反转层分开并且与所述第2半导体层肖特基接触而配置。
半导体装置

[发明专利]抗原呈递细胞外囊泡、含有其的组合物及用于制造它们的方法-CN202180017066.X在审
发明人：华山力成;山野友义;的场一隆 -专利权人： 国立大学法人金泽大学;日产化学株式会社
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： A61P35/00 文献下载
摘要：本发明提供能够将抗原特异性T细胞充分地激活等的细胞外囊泡。本发明提供将抗原呈递MHC分子及T细胞刺激细胞因子呈递至膜外的该抗原呈递细胞外囊泡。
抗原呈递细胞外囊泡含有组合用于制造它们方法

[发明专利]免疫调节法、免疫调节用核酸组合物及其用途-CN202180017014.2在审
发明人：华山力成;山野友义;的场一隆 -专利权人： 国立大学法人金泽大学;日产化学株式会社
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： C12N15/62 文献下载
摘要：本发明提供可制作能够将抗原特异性T细胞充分地激活等的细胞外囊泡的多核苷酸。本发明提供多核苷酸，其包含选自由以下(a)～(e)组成的组中的至少一者的序列：(a)编码融合蛋白(A)的序列，所述融合蛋白(A)包含抗原呈递MHC分子，能够将该抗原呈递MHC分子呈递至细胞外囊泡的膜外；(b)编码融合蛋白(B)的序列，所述融合蛋白(B)包含至少一种T细胞刺激细胞因子或其亚基，能够将该T细胞刺激细胞因子呈递至细胞外囊泡的膜外；(c)编码融合蛋白(C)的序列，所述融合蛋白(C)包含T细胞共刺激分子，能够将该T细胞共刺激分子呈递至细胞外囊泡的膜外；(d)编码融合蛋白(D)的序列，所述融合蛋白(D)包含：抗原呈递MHC分子；和至少一种T细胞刺激细胞因子或其亚基，所述融合蛋白(D)能够将该抗原和该T细胞刺激细胞因子呈递至细胞外囊泡的膜外；及(e)编码融合蛋白(E)的序列，所述融合蛋白(E)包含：抗原呈递MHC分子；至少一种T细胞刺激细胞因子或其亚基；及T细胞共刺激分子，所述融合蛋白(E)能够将该抗原、该T细胞刺激细胞因子、和该T细胞共刺激分子呈递至细胞外囊泡的膜外。
免疫调节核酸组合及其用途

[发明专利]微粒子的制造装置及微粒子的制造方法-CN202080039502.9在审
发明人：田中康规;儿玉直人;隐田一辉;渡边周;中村圭太郎;末安志织 -专利权人： 国立大学法人金泽大学;日清制粉集团本社股份有限公司
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B01J19/08 文献下载
摘要：本发明提供一种微粒子的制造装置及微粒子的制造方法，可控制微粒子的粒径，且能效率良好地大量制造粒径均一性良好的微粒子。本发明具有：原料供给部，将微粒子制造用的原料供给至热等离子体火焰中；等离子体炬，在其内部产生热等离子体火焰，利用热等离子体火焰使由原料供给部供给的原料蒸发而成为气相状态的混合物；等离子体产生部，在等离子体炬的内部产生热等离子体火焰。等离子体产生部具有：包围等离子体炬的周围的第1线圈、沿着等离子体炬的长度方向排列设置在第1线圈的下方且包围等离子体炬的周围的第2线圈、对第1线圈供给振幅调变后的第1高频电流的第1电源部、及对第2线圈供给振幅调变后的第2高频电流的第2电源部。第1高频电流的调变度比第2高频电流的调变度小。
微粒子制造装置方法

[发明专利]安装用衬套-CN201910896731.1有效
发明人：井上敏郎;小松崎俊彦 -专利权人：本田技研工业株式会社;国立大学法人金泽大学
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： F16F9/53 文献下载
摘要：提供能够与通电状态及无通电状态无关地得到期望的衰减特性及刚性的安装用衬套。安装用衬套具备：筒构件；轴构件，其在所述筒构件的内侧同轴地配置，且具有线圈；永久磁铁，其设置于所述筒构件及所述轴构件中的任一方；磁粘弹性流体，其填充于内部空间；第一液室，其位于所述内部空间的一侧；第二液室，其与所述第一液室连通；以及第三液室，其与所述第二液室连通，所述线圈配置为通过通电而形成在沿着所述轴向及与所述轴向正交的径向中的任一方的方向上通过所述第二液室的磁路，所述永久磁铁配置为磁化方向沿着所述磁路。
安装衬套

[发明专利]安装用衬套-CN201910897774.1有效
发明人：井上敏郎;小松崎俊彦 -专利权人：本田技研工业株式会社;国立大学法人金泽大学
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： F16F9/53 文献下载
摘要：提供对磁粘弹性流体所包含的磁性粉体的沉淀进行了抑制的高性能的安装用衬套。安装用衬套具备：筒构件；轴构件，其与所述筒构件同轴配置，且具有线圈；第一液室，其位于所述筒构件与所述轴构件之间的内部空间的上方侧；第二液室，其与所述第一液室的下方侧连通，且具有磁粘弹性流体；以及第三液室，其与所述第二液室的下方侧连通，且具有多孔质体，所述线圈配置为通过通电而能够形成在沿着轴向及径向中的至少一方的方向上通过所述第二液室的磁路。
安装衬套

[发明专利]用于判定危险期的肾损伤的标志物-CN201980083304.X在审
发明人：三田真史;和田隆志;古市贤吾;坂井宣彦;岩田恭宜;北岛信治;中出祐介 -专利权人：镜株式会社;国立大学法人金泽大学
申请日： 2019-10-17 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： G01N33/68 文献下载
摘要：本发明提供用于通过基于血液中的D‑丙氨酸量、或D‑丙氨酸量和L‑丙氨酸量的指标值来判定危险期的肾损伤的标志物、以及在接受手术和/或重症监护治疗的患者中使用该标志物的血液分析方法、及用于判定接受手术和/或重症监护治疗的患者中的危险期的肾损伤的血液分析系统。
用于判定危险期损伤标志

[发明专利]金刚石衬底及其制造方法-CN202011286501.2在审
发明人：野口仁;德田规夫;松本翼 -专利权人：信越化学工业株式会社;国立大学法人金泽大学
申请日： 2020-11-17 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： C23C16/27 文献下载
摘要：本发明为一种形成具有氮空位中心的金刚石晶体层的金刚石衬底的制造方法，其为利用CVD法并使用包含烃气与氢气的原料气体而在基底衬底上形成金刚石晶体的方法，该方法中，为了在所述金刚石晶体的至少一部分形成所述具有氮空位中心的金刚石晶体层，在将氮气或氮化物气体混入所述原料气体的同时，对于所述原料气体所包含的各种气体的量，将烃气的量设为0.005体积％以上且6.000体积％以下；将氢气的量设为93.500体积％以上且小于99.995体积％；将氮气或氮化物气体的量设为5.0×10‑5体积％以上且5.0×10‑1体积％以下。由此，提供一种金刚石衬底的制造方法，其通过以规定的条件进行CVD，能够在基底衬底上形成一种NV轴为[111]高度取向且具有高密度的氮‑空位中心(NVC)的金刚石晶体。
金刚石衬底及其制造方法

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