专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果105个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]含硅膜的成膜方法以及成膜装置-CN201610465904.0有效
  • 佐藤润;菊地宏之;村田昌弘;三浦繁博 - 东京毅力科创株式会社
  • 2016-06-23 - 2019-11-05 - C23C16/40
  • 本发明提供一种含硅膜的成膜方法和成膜装置。在该含硅膜的成膜方法中,向形成于基板的表面的凹坑填充含硅膜,该含硅膜的成膜方法包含第1成膜循环,所述第1成膜循环包括:第1硅吸附工序,在该第1硅吸附工序中,向所述基板供给含硅气体,使所述含硅气体吸附于所述凹坑内;硅蚀刻工序,在该硅蚀刻工序中,向所述基板供给蚀刻气体,对吸附于所述凹坑内的所述含硅气体的硅成分的一部分进行蚀刻;以及第1含硅膜堆积工序,在该第1含硅膜堆积工序中,向所述基板供给与所述硅成分反应的反应气体,使该反应气体与在蚀刻后以吸附于所述凹坑内的状态残留的所述硅成分反应而生成反应生成物,在所述凹坑内堆积含硅膜。
  • 含硅膜方法以及装置
  • [发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201610512071.9有效
  • 三浦繁博;佐藤润 - 东京毅力科创株式会社
  • 2016-06-30 - 2019-08-13 - C23C16/455
  • 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法是使用了处理室的基板处理方法,该处理室具有:第1处理气体供给区域;为了对供给于该第1处理气体供给区域的第1处理气体进行排气而设置的第1排气口;第2处理气体供给区域;为了对供给于该第2处理气体供给区域的第2处理气体进行排气而设置的第2排气口;将所述第1排气口和所述第2排气口连通的连通空间,在该基板处理方法中,使所述第1排气口的排气压力比所述第2排气口的排气压力高出规定压力,防止所述第2处理气体混入所述第1排气口来进行基板处理。
  • 处理方法以及装置
  • [发明专利]电子设备-CN201610217810.1有效
  • 岩本彰;松延忠;古轴优;佐藤润 - 松下电器产业株式会社
  • 2013-12-23 - 2019-04-09 - G06F1/16
  • 本发明提供一种电子设备,具备:壳体;以及能够相对于所述壳体装卸的电池,所述壳体形成供所述电池安装的电池安装部,所述电池安装部具有:承受所述电池的电池承受面;以及与所述电池承受面垂直形成且与所述电池的表面对置的壁部,在所述壁部上配置有与安装于所述电池安装部的所述电池的电池端子电连接的连接器,突出部朝向所述电池突出且绕所述连接器的周缘延伸,所述突出部从所述电池承受面和所述壁部延伸,所述电池具备弹性的密封构件,该弹性的密封构件绕所述电池端子的周缘延伸,且在所述电池安装于所述电池安装部时密封所述电池安装部,在所述电池安装于所述电池安装部时,所述电池端子与所述连接器电连接。
  • 电子设备
  • [发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201510552744.9有效
  • 三浦繁博;加藤寿;佐藤润;菊地宏之 - 东京毅力科创株式会社
  • 2015-09-01 - 2019-04-05 - H01L21/02
  • 本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置。其中,将基板载置在设于处理室内的旋转台上,沿着所述旋转台的旋转方向该处理室划分为被供给蚀刻气体的处理区域和不被供给所述蚀刻气体而被供给吹扫气体的吹扫区域。向所述处理区域供给蚀刻气体,向所述吹扫区域供给吹扫气体。使旋转台旋转,在使所述旋转台旋转1圈时使所述基板通过所述处理区域和所述吹扫区域各1次。在所述基板通过所述处理区域时对形成于所述基板的表面的膜进行蚀刻。通过使所述旋转台的旋转速度变化来控制对所述膜进行蚀刻的蚀刻速率或蚀刻后的所述膜的表面粗糙度。
  • 处理方法装置
  • [发明专利]自动驾驶控制装置-CN201610421375.4有效
  • 佐藤润;松永昌树;熊井雄一 - 丰田自动车株式会社
  • 2016-06-14 - 2019-03-29 - B60W10/06
  • 提供一种自动驾驶控制装置,该自动驾驶控制装置即使在自动驾驶控制期间也能实现按照驾驶员的意图的车辆的行驶,并且当车辆大幅偏离基准行驶轨迹时针对车辆的行驶向驾驶员进行注意唤起。一种自动驾驶控制装置,进行使车辆沿着对车道预先设定的基准行驶轨迹而行驶的自动驾驶控制,该自动驾驶控制装置在自动驾驶控制期间检测到驾驶员的操舵的情况下,当车辆的车道宽度方向上的位置包含于容许范围时,将自动驾驶控制期间的驾驶员的操舵反映于车辆的行驶,在检测到驾驶员的操舵且判定为车辆的车道宽度方向上的位置包含于第二范围的情况下,针对车辆的行驶向驾驶员进行注意唤起。
  • 自动驾驶控制装置
  • [发明专利]等离子体处理方法及等离子体处理装置-CN201510250345.7有效
  • 三浦繁博;加藤寿;佐藤润;中坪敏行;菊地宏之 - 东京毅力科创株式会社
  • 2015-05-15 - 2019-01-22 - H01L21/205
  • 本发明提供一种等离子体处理方法及等离子体处理装置。向预定的等离子体处理区域内供给处理气体,在等离子体产生区域使所述处理气体等离子体化而对已形成在基板(W)上的膜实施等离子体处理。获取已形成在基板上的膜的基于等离子体处理的面内处理量的分布。接着,根据获取的所述面内处理量的分布,以这样的方式调整所述处理气体的流速:使向欲增加所述等离子体处理的处理量的区域供给的所述处理气体的流速相对升高,或者,使向欲减少所述等离子体处理的处理量的区域供给的所述处理气体的流速相对降低。然后,向所述预定的等离子体处理区域内供给流速被调整了的所述处理气体,对已形成在所述基板上的膜实施所述等离子体处理。
  • 等离子体处理方法装置
  • [发明专利]车辆行驶控制装置-CN201610489175.2有效
  • 熊井雄一;佐藤润;松永昌树 - 丰田自动车株式会社
  • 2016-06-28 - 2019-01-15 - B60W30/00
  • 一种装置进行速度控制,判定介入操作的开始和结束,当开始介入操作时中断速度控制,基于在前车辆的存在和车辆与在前车辆之间的速度差,从目标速度和目标车间距离之中选择修正候补,判定在判定时段内是否存在车辆速度或者车间距离的变化,判定目标速度与当介入结束时的车辆速度之间或目标车间距离与当介入结束时的车间距离之间是否存在差异,并且在预定条件下修正目标速度或目标车间距离。在介入操作结束之后,该装置使用修正的目标速度或修正的目标车间距离重启速度控制。
  • 车辆行驶控制装置
  • [发明专利]驾驶支援装置-CN201610037476.1有效
  • 佐藤润;岩崎正裕 - 丰田自动车株式会社
  • 2016-01-20 - 2018-11-02 - G05B19/042
  • 本发明提供一种驾驶支援装置,使车辆中的从自动驾驶向手动驾驶的驾驶切换在切换完成地点完成。驾驶支援装置具备:到达延缓时间计算部,基于车辆的当前的位置及速度,算出到车辆到达切换完成地点为止的到达延缓时间;驾驶集中度推定部,在到达延缓时间为预先设定的预定时间以下时,基于车辆的驾驶员的状态来推定该驾驶员的驾驶集中度;及刺激赋予部,向驾驶员赋予与驾驶集中度对应的刺激。在驾驶集中度为预先设定的阈值以下的情况下,与驾驶集中度大于阈值的情况相比刺激赋予部向驾驶员赋予更强的刺激,或者驾驶集中度越小,则向驾驶员赋予越强的刺激。
  • 驾驶支援装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top