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[实用新型]一种粉末成型机的粉料收集装置-CN201921599877.1有效
发明人： 吴伟豪;谢金林;祝熙熙 -专利权人：厦门奥星达粉末冶金有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： B30B11/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种粉末成型机的粉料收集装置，涉及粉末冶金设备技术领域，解决了粉料落在工作台上造成浪费的技术问题。其技术要点是：一种粉末成型机的粉料收集装置，包括成型机本体、送料盒和设置在成型机本体上的工作台，工作台的两侧设置有供送料盒滑移的滑轨，工作台上位于滑轨的两端均延伸有支撑板，支撑板靠近滑轨的位置设置有通孔，通孔上设置有过滤网，支撑板下表面设置位于通孔下方的接料斗，接料斗的下方出口通过管道连接有收集筒。本实用新型具有能够对漏在工作台上的粉料进行回收，减少粉料浪费的优点。
一种粉末成型收集装置

[发明专利]一种耐胆盐耐胃酸益生菌制剂及其制备方法和应用-CN202010371335.X在审
发明人：丁红莉;叶伟;郭炳其;刘祖辉;姜波;吴伟豪 -专利权人：永安康健药业（武汉）有限公司
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： A23L33/135 文献下载
摘要：本发明公开了一种耐胆盐耐胃酸益生菌制剂及其制备方法和应用，所述益生菌制剂包括四层结构，分别为核心多孔糊精结构、油包水结构、耐胆盐结构和耐胃酸结构，制备时，通过先制备益生菌乳化液，再制备益生菌油包水反胶束乳液，接着制备耐胆盐益生菌胶束乳液，最后制备耐胃酸益生菌胶束乳液；本发明制备的益生菌制剂稳定好，制备工艺简单，能够有效避免益生菌受到胆盐的破坏，延长胃酸分解效率，使益生菌能够提高存活率并到达肠道中，其活性和功能明显提高。
一种耐胆盐耐胃酸益生菌制剂及其制备方法应用

[实用新型]一种粉末冶金制齿轮矫正压力机的送料机构-CN201921597472.4有效
发明人： 吴伟豪;吴伟粼;肖永忠 -专利权人：厦门奥星达粉末冶金有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： B22F3/24 文献下载
摘要：本实用新型涉及齿轮矫正压力机，更具体地说，它涉及一种粉末冶金制齿轮矫正压力机，其技术方案要点是：包括用于设置在机台上表面一侧的放料板，所述放料板上表面开设有用于放置齿轮的放置槽，所述机台上设置有气缸，所述气缸的伸缩轴与放料板侧壁固定连接，用于推动放料板位于矫正工位处。本实用新型的一种粉末冶金制齿轮矫正压力机的送料机构具有提高工作人员工作安全系数的优点。
一种粉末冶金齿轮矫正压力机机构

[实用新型]一种光饰机-CN201921600213.2有效
发明人： 吴伟豪;吴伟粼 -专利权人：厦门奥星达粉末冶金有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： B24B31/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光饰机，属于工件抛光研磨技术领域。其技术要点包括机架，所述机架上转动设置有安装架，所述安装架与机架之间设置有卡位装置，所述安装架上设置有光饰桶，所述光饰桶的底部竖直设置有转动轴，所述机架侧面设置有与所述光饰桶侧面靠近开口位置相抵接的下料装置，所述光饰桶的开口位于所述下料装置上方。本实用新型具有减少工人劳动量，节省时间的优点。
一种光饰机

[实用新型]一种平面磨床-CN201921597664.5有效
发明人： 吴伟豪;吴伟粼;肖永忠 -专利权人：厦门奥星达粉末冶金有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： B24B7/07 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种平面磨床，涉及一种磨削加工设备。其技术要点包括工作台，所述工作台上设置有工件，所述工件的上端设置有打磨机构，所述工作台的上表面铰接有电磁铁，所述电磁铁外周侧与所述工作台的内壁相抵接，所述工作台的底部且靠近所述电磁铁与工作台铰接的位置设置有出水管，所述电磁铁上设置有与所述出水管相连通的通孔，所述通孔内设置有与所述电磁铁上表面相平齐的滤网，所述电磁铁靠近滤网的一侧延伸设置有导料板，所述导料板远离电磁铁一端的底部设置有收料桶。本实用新型具有将冷却液中铁屑回收，便于冷却液重复使用的优点。
一种平面磨床

[实用新型]一种用于喷砂机的可调节式喷嘴-CN201921600145.X有效
发明人： 吴伟豪;吴伟粼 -专利权人：厦门奥星达粉末冶金有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： B24C5/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于喷砂机的可调节式喷嘴，涉及喷砂机设备技术领域，解决了喷砂机在清理铸件表面不全面的技术问题。其技术要点包括：固定于喷砂机室体顶板上的机架，设置于机架上的转动组合件，转动组合件包括环形框架以及驱动装置，驱动装置驱动环形框架上的喷嘴组件，挂架上设置有第一滚轮轴承与第二滚轮轴承，驱动装置包括弧形齿条、齿轮、电机、和计时器。本实用新型具有多方位清理铸件表面的优点。
一种用于喷砂机调节喷嘴

[实用新型]一种用于金属工件的防锈油回收装置-CN201921600267.9有效
发明人： 吴伟豪;吴伟粼 -专利权人：厦门奥星达粉末冶金有限公司
申请日： 2019-09-24 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： C10M175/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于金属工件的防锈油回收装置，涉及金属工件防锈技术领域，解决了金属工件在涂防锈油时耗费时间较长，导致效率较低的技术问题。其技术要点是：一种用于金属工件的防锈油回收装置，包括起支撑作用的支撑架，支撑架上设置有用于放置过滤桶的支撑网，支撑架上设置有位于支撑网下方的接油槽，接油槽的底部设置有出油口，出油口连通有收集桶。本实用新型具有能够对浸涂完从油箱里取出后残留在金属工件和过滤桶表面的防锈油进行回收，提高涂油效率的优点。
一种用于金属工件防锈油回收装置

[实用新型]更换刀闸的辅助装置-CN201921056492.0有效
发明人：李学超;张锴;关宇斌;戴健新;孙登敏;黄金钊;罗育清;楚烺;郭俊健;吴增朗;吴伟豪 -专利权人：广州供电局有限公司
申请日： 2019-07-08 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： H02B3/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种更换刀闸的辅助装置，包括：底座；安装机构，所述安装机构连接所述底座；传动机构，所述传动机构安装于所述底座上；以及控制机构，所述控制机构安装于所述底座上，位于所述传动机构的侧边，并与所述传动机构配合使用。通过安装机构将更换刀闸的辅助装置固定在横担上，作业人员将绳索抵接传动机构并穿过控制机构，绳索的一段为自由段，没有绑刀闸，另一段绑扎了刀闸，作业人员拉动自由段，绳索通过传动机构的传动减少了人力，不需要两个人的配合工作，便能将刀闸吊起，然后将刀闸拉动升高到任意位置，通过控制机构将绳索固定，刀闸可以悬空于任意位置，提高了人力传输效率，减少人力物力，实现便于单人更换刀闸、提高更换效率。
更换辅助装置

[发明专利]集成电路的制造方法-CN201910922353.X在审
发明人：朱龙琨;黄懋霖;吴伟豪;江国诚 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： H01L21/8234 文献下载
摘要：一种集成电路的制造方法，包含露出多个通道区，所述通道区包含p型通道区和n型通道区；形成栅极介电层于露出的通道区上方；以及形成功函数金属结构于栅极介电层上方。功函数金属结构包含形成于p型通道区上方的p型功函数金属部分和形成于n型通道区上方的n型功函数金属部分，且p型功函数金属部分比n型功函数金属部分薄。此方法还包含形成填充金属层于功函数金属结构上方，使得填充金属层直接接触p型功函数金属部分和n型功函数金属部分两者。
集成电路制造方法

[发明专利]半导体装置-CN201910813498.6在审
发明人：林志昌;吴伟豪;余佳霓 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-08-30 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： H01L27/088 文献下载
摘要：本公开提供一种半导体装置，其包括第一装置鳍状物与第二装置鳍状物、第一虚置鳍状物与第二虚置鳍状物以及第三装置鳍状物与第四装置鳍状物。第一装置鳍状物与第二装置鳍状物其各自位于半导体装置的第一区中。第一区具有第一图案密度。第一虚置鳍状物位于第一区中。第一虚置鳍状物位于第一装置鳍状物与第二装置鳍状物之间。第一虚置鳍状物具有第一高度。第三装置鳍状物与第四装置鳍状物，各自位于半导体装置的第二区中。第二区具有第二图案密度，且第二图案密度大于第一图案密度。第二虚置鳍状物位于第二区中。第二虚置鳍状物位于第三装置鳍状物与第四装置鳍状物之间。第二虚置鳍状物具有第二高度，且第二高度大于第一高度。
半导体装置

[发明专利]集成电路的制作方法-CN201910822738.9在审
发明人：林志昌;吴伟豪;余佳霓;王志豪;江国诚 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： H01L21/8234 文献下载
摘要：本发明提供一种集成电路的制作方法，在一些例子中，包括接收工件，且工件包括基板与自基板延伸的多个鳍状物，形成第一层于鳍状物的每一者的侧表面上，使第一层界定的沟槽延伸于鳍状物之间，形成切割结构于沟槽中，形成第一栅极结构于鳍状物的第一鳍状物上，并形成第二栅极结构于鳍状物的第二鳍状物上，使切割结构位于第一栅极结构与第二栅极结构之间。
集成电路制作方法

[发明专利]半导体装置-CN201910894197.0在审
发明人：苏焕杰;徐崇威;林志昌;余佳霓;吴伟豪;林佑明;王志豪;江国诚 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-09-20 - 公布日： 2020-03-27 - 主分类号： H01L27/092 文献下载
摘要：半导体装置包括：半导体层。栅极结构位于半导体层上。间隔物位于栅极结构的侧壁上。间隔物的高度大于该栅极结构的高度。衬垫层位于栅极结构与间隔物上。间隔物与衬垫层的材料组成不同。
半导体装置

[发明专利]集成电路结构的制作方法-CN201910604290.3在审
发明人：朱龙琨;黄懋霖;吴伟豪 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-07-05 - 公布日： 2020-02-25 - 主分类号： H01L21/8234 文献下载
摘要：集成电路结构的制作方法包括：形成栅极沟槽，露出每一鳍状物的部分；以及形成调整临界电压的介电层于鳍状物上的栅极沟槽中。形成调整临界电压的介电层时调整其特性，以达每一鳍状物所用的不同临界电压。方法亦包括形成粘着金属层于调整临界电压的介电层上；以及形成填充金属层于粘着金属层上。填充金属层在鳍状物的上表面具有实质上一致的厚度。
集成电路结构制作方法

[发明专利]半导体元件制造方法-CN201910572254.3在审
发明人：叶雅雯;沈育佃;黄世钧;张博钦;林纬良;严永松;吴伟豪;林立德;林斌彦;刘如淦 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：一种半导体元件制造方法，在基板之上形成底层结构。在底层结构之上形成薄膜。测量薄膜的表面形貌，并将表面形貌存储为形貌数据。使用方向性蚀刻执行局部蚀刻，并扫描基板，使得薄膜的整个表面承受方向性蚀刻。根据形貌数据调整方向性蚀刻的电浆束强度。
方向性蚀刻表面形貌底层结构形貌数据薄膜半导体元件制造测量薄膜局部蚀刻扫描基板整个表面电浆束基板存储

[发明专利]半导体装置的制造方法-CN201910126403.3在审
发明人：林志昌;吴伟豪;余佳霓;苏焕杰;徐廷鋐;王志豪 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2019-02-20 - 公布日： 2020-01-07 - 主分类号： H01L29/78 文献下载
摘要：一种半导体装置的制造方法，包括在半导体元件上方形成遮罩层，其中半导体元件包含：栅极结构；第一层，设置于栅极结构上方；以及层间介电质，设置于第一层的侧壁上，且其中遮罩层定义开口暴露出第一层的一部分和层间介电质的一部分；进行第一蚀刻工艺，以通过开口蚀刻第一层的一部分和层间介电质的一部分；在进行第一蚀刻工艺之后，在开口中形成一衬垫层；在形成衬垫层之后，进行第二蚀刻工艺，其中第二蚀刻工艺使开口向下延伸而穿过第一层和穿过栅极结构；以及在进行第二蚀刻工艺之后，以第二层填充开口。
蚀刻工艺第一层层间介电栅极结构半导体元件开口衬垫层遮罩层穿过蚀刻半导体装置开口向下填充开口侧壁暴露延伸制造