专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种全光谱探测场效应晶体管及制备方法-CN202210209621.5有效
  • 李冲;关锴;徐港;杨帅;李占杰;李巍泽 - 北京工业大学
  • 2022-03-04 - 2023-10-13 - H01L31/112
  • 本发明公开了一种全光谱探测场效应晶体管及制备方法,在p型硅衬底的顶部间隔预设距离形成有两个高掺杂N+型区;在两个高掺杂N+型区之间的p型硅衬底顶部刻蚀有周期性的空气光子晶体,在所有空气光子晶体内生长吸收红外光波段的半导体光子晶体;p型硅衬底上形成有抗反射薄膜绝缘层;抗反射薄膜绝缘层上形成有表面等离子激元、与一高掺杂N+型区相连的源极、栅极和与另一高掺杂N+型区相连的漏极,栅极形成在源极与漏极之间,等离子激元形成在源极与栅极以及栅极与漏极之间。本发明的场效应晶体管具有全光谱覆盖、强感光性能、高响应度和高集成度等优点,适用波长范围为可见光和红外光波段,且制造工艺简单,以硅作为器件主要材料成本较低。
  • 一种光谱探测场效应晶体管制备方法
  • [发明专利]双PN结结构的垂直入射光电探测器及半导体设备-CN202310065550.0在审
  • 崔积适 - 三明学院
  • 2023-01-16 - 2023-10-03 - H01L31/11
  • 本发明提供了一种双PN结结构的垂直入射光电探测器及半导体设备,光电探测器包括:衬底层;吸收层,其形成在所述衬底层上;两个n型掺杂区,通过对所述衬底层进行n掺杂形成,并位于所述吸收层相对的两侧;两个p型掺杂区,通过对所述衬底层进行p掺杂形成,并位于所述吸收层相对的另两侧;其中,相邻的n型掺杂区和p型掺杂区均形成pn结四个电极,分别设置在4个掺杂区上。本发明由于采用四个电极结构,增强了在吸收层上的电场的分布,同等电场下减小了供电电压,同时相邻的n型掺杂区和p型掺杂区均形成pn结,增加了结面积,即增加了吸收层的有效吸收区域的面积。
  • pn结构垂直入射光电探测器半导体设备
  • [发明专利]一种提升太赫兹探测器响应度的器件-CN202310584822.8在审
  • 孙云飞;阙妙玲;陈丽香;孙佳惟 - 苏州科技大学
  • 2023-05-23 - 2023-09-12 - H01L31/112
  • 本发明涉及电子器件技术领域,具体涉及一种提升太赫兹探测器响应度的器件,包括衬底,在衬底上为AlN成核层,在AlN成核层上为第一n+GaN欧姆接触层,作为器件的源极和漏极,在第一n+GaN欧姆接触层上是外延生长的InAlN电子发射层,在InAlN电子发射层上外延生长nGaN有源层和第二n+GaN欧姆接触层,构成器件的栅极,第一n+GaN欧姆接触层上穿出鳍式电子气沟道,鳍式电子气沟道从衬底生长且贯穿栅极与源极和漏极相连;本发明器件实现栅极对二维电子气的立体调控,从而增强栅极了对沟道的调制能力,降低栅极长度,提高了器件响应太赫兹波的速度。
  • 一种提升赫兹探测器响应器件

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