[发明专利]一种蒸镀掩膜版及其制作方法、蒸镀设备

说明书

本发明公开了一种蒸镀掩膜版及其制作方法、蒸镀设备，该蒸镀掩膜版包括：掩膜本体，所述掩膜本体具有贯穿厚度方向的多个通孔，一个通孔对应一个显示面板，所述掩膜本体与所述显示面板的衬底基板具有相同的热形变特性；限定掩膜层，设置在所述掩膜本体的一侧，所述限定层掩膜用于形成所述显示面板所需的蒸镀图形；所述衬底基板位于所述限定掩膜层远离所述掩膜本体的一侧，所述掩膜本体的厚度远大于所述限定掩膜层的厚度。

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种蒸镀掩膜版及其制作方法、蒸镀设备。

背景技术

有源矩阵有机发光二极体(Active Matrix Organic Light Emitting Diode，AMOLED)显示面板的发光器件中的各材料层，通常是采用真空蒸镀工艺制备而成的。

蒸镀工艺是在真空条件下，将有机材料放置于坩埚中，通过高温加热使镀膜材料蒸发或升华为气态粒子，气化的材料粒子通过蒸镀掩膜上限定的图形开孔沉积到基板上，并在基板表面相应的位置形成预设图形。由于基板与蒸镀掩膜在蒸镀机内受到坩埚热源辐射热及蒸镀材料的沉积热影响，会发生热膨胀变形，从而导致基板及掩膜开孔图形的位置偏差，发光材料蒸镀位置偏移，进而引起屏幕混色不良，边框处发生脱落不良，限制屏幕边框减小等问题。

鉴于此，如何减小蒸镀掩膜的工艺变形，成为一个亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供一种蒸镀掩膜版及其制作方法、蒸镀设备，用以解决现有技术中存在的上述问题。

第一方面，为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种蒸镀掩膜版，包括：

掩膜本体，所述掩膜本体具有贯穿厚度方向的多个通孔，一个通孔对应一个显示面板，所述掩膜本体与所述显示面板的衬底基板具有相同的热形变特性；

限定掩膜层，设置在所述掩膜本体的一侧，所述限定层掩膜用于形成所述显示面板所需的蒸镀图形；所述衬底基板位于所述限定掩膜层远离所述掩膜本体的一侧，所述掩膜本体的厚度远大于所述限定掩膜层的厚度。

一种可能的实施方式，所述通孔的横截面在所述厚度方向上逐渐增大。

一种可能的实施方式，所述掩膜本体具有平行的第一表面和第二表面；

所述通孔，包括：相对设置的第一开口和第二开口，所述第一开口位于所述第一表面，所述第二开口位于所述第二表面，所述第一开口的面积大于所述第二开口的面积；所述限定掩膜层位于所述第二表面。

一种可能的实施方式，所述第二开口完全覆盖所述衬底基板的有效显示区。

一种可能的实施方式，所述第一开口和所述第二开口在所述第一表面的正投影的边缘间距大于2mm。

一种可能的实施方式，所述限定掩膜层，包括：

多个掩膜单元，所述掩膜单元与至少一个通孔对应；

多个间隙，所述间隙位于相邻的两个掩膜单元之间。

一种可能的实施方式，所述掩膜单元包括呈阵列排布的多个像素开口，或与所述衬底基板的有效显示区对应的显示开口。

一种可能的实施方式，还包括：

多个支撑结构，所述多个支撑结构围绕所述多个掩膜单元。

一种可能的实施方式，还包括：

至少一个间隔结构，所述间隔结构位于至少部分相邻两个掩膜单元之间。

一种可能的实施方式，所述通孔的形状，包括：

长方形、正方形、圆形、异形。

一种可能的实施方式，不同形状的通孔设置在于不同区域。