[实用新型]一种掩膜版组件以及蒸镀装置有效
申请号: | 201920182080.5 | 申请日: | 2019-02-01 |
公开(公告)号: | CN209722271U | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 邱少亚;陈凯凯;卢贝贝 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人: | 孟金喆<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 201506 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种掩膜版组件以及蒸镀装置。该掩膜版组件包括:框架、支撑片、掩膜版以及遮蔽片,支撑片设置在框架靠近掩膜版的一侧,遮蔽片设置在支撑片远离框架的一侧,支撑片用于支撑掩膜版和遮蔽片,掩膜版包括至少一个开口区,开口区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区,遮蔽片包括至少一个有效遮蔽区,有效遮蔽区在掩膜版上的垂直投影与无效蒸镀区重合,其中,掩膜版的开口区的无效蒸镀区与遮蔽片的有效遮蔽区一一对应。本实用新型提供的技术方案可以减小遮蔽片由于重力作用带来的下垂量,进而缓解蒸镀过程中的阴影效应,提高蒸镀精度。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 遮蔽片 蒸镀 支撑片 开口区 遮蔽区 本实用新型 垂直投影 阴影效应 蒸镀装置 重力作用 组件包括 下垂量 重合 减小 缓解 支撑 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜版组件,其特征在于,包括:框架、支撑片、掩膜版以及遮蔽片;/n所述支撑片设置在所述框架靠近所述掩膜版的一侧;所述遮蔽片设置在所述支撑片远离所述框架的一侧;/n所述支撑片用于支撑所述掩膜版和所述遮蔽片;/n所述掩膜版包括至少一个开口区,所述开口区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区,所述遮蔽片包括至少一个有效遮蔽区,所述有效遮蔽区在所述掩膜版上的垂直投影与所述无效蒸镀区重合;/n其中,所述掩膜版的开口区的无效蒸镀区与所述遮蔽片的有效遮蔽区一一对应。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司,未经上海和辉光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920182080.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于手机TYPE-C充电接口的PVD治具
- 下一篇:一种光学玻璃镀膜工装
- 同类专利
- 有源矩阵有机发光二极管精细荫罩组件及其制造方法-201810637584.1
- 曹绪文 - 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
- 2018-06-20 - 2020-02-14 - C23C14/04
- 一种有源矩阵有机发光二极管精细荫罩组件,其特征在于包括:一荫罩框架、多个纵支撑杆、多个横间隙板及多个荫罩板。该多个纵支撑杆设置在所述荫罩框架上并且相间隔排列,各所述纵支撑杆具有一圆杆部以及两扁平部。该多个横间隙板设置在所述多个纵支撑杆的所述多个圆杆部上,被所述多个纵支撑杆所支撑,并且相间隔排列。该多个荫罩板设置在所述多个横间隙板上,被所述多个纵支撑杆所支撑,并且平行所述多个横间隙板。各所述横间隙板是位于两相邻的荫罩板之间的间隙的下方,接触两相邻的荫罩板,并且封闭所述间隙。直接接触荫罩板的横间隙板可有效封闭相邻荫罩板之间的间隙,避免后续程中有机材料从荫罩板泄漏到下方的玻璃基板上。
- 一种掩膜版、蒸镀系统及掩膜版的制备方法-201911151364.9
- 韩冰;张志远;李伟丽;刘明星 - 昆山国显光电有限公司
- 2019-11-21 - 2020-02-11 - C23C14/04
- 本申请提供了一种掩膜版、蒸镀系统及掩膜版的制备方法,所述掩膜版包括:多个掩膜条,所述掩膜条上设置有至少一组有效蒸镀区以及位于所述有效蒸镀区周围的过渡区;其中,所述掩膜条由至少两个掩膜主体层叠设置形成,至少部分所述掩膜主体对应所述过渡区的位置设置有通孔,至少两个相邻所述掩膜主体上的所述通孔之间错位设置,以使蒸镀材料无法通过所述过渡区。通过上述方式,本申请能够对掩膜版过渡区内的通孔进行遮挡。
- 一种镀膜装置-201710249337.X
- 孙中元;薛金祥;刘文祺 - 京东方科技集团股份有限公司
- 2017-04-17 - 2020-02-11 - C23C14/04
- 本发明提供了一种镀膜装置,该镀膜装置包括:成膜辊,成膜辊的外周面上包括一预定区域,柔性基板的当前待镀膜部位能够卷绕在预定区域处;靶材,靶材设置在成膜辊一侧,并与成膜辊的预定区域位置对应;掩膜版,设置在靶材与成膜辊之间,掩膜版为曲面掩膜版,其曲面曲度与成膜辊的预定区域处的曲面曲度相同,掩膜版上设有第二对位标记;复眼摄像机,用于获取掩模版的第二对位标记及柔性基板的第一对位标记的位置信息;以及,控制机构,用于根据复眼摄像机获取的所述位置信息,控制掩膜版移动,以将掩膜版与柔性基板进行对位。本发明所提供的镀膜装置可直接利用曲面掩膜版在柔性基板上沉积图形化的薄膜。
- 可移动掩蔽元件-201780092451.4
- 拉尔夫·林登贝格;于尔根·格里尔迈尔;岭·灿;约翰·M·怀特;马库斯·哈尼卡 - 应用材料公司
- 2017-06-26 - 2020-02-11 - C23C14/04
- 提供了一种沉积设备。沉积设备包括第一沉积源和第二沉积源,经构造为用于在基板接收面积中沉积材料。沉积设备包括掩蔽元件。掩蔽元件经构造为用于掩蔽在第一方向上延伸的基板边缘区域。掩蔽元件经构造以在至少第一方向上移动以补偿沉积材料在掩蔽元件上的积累。
- 针对较好的均匀性和增加的边缘寿命的平坦边缘设计-201480079601.4
- S·劳;R·林德伯格;M·哈尼卡 - 应用材料公司
- 2014-06-13 - 2020-02-11 - C23C14/04
- 描述一种用以在基板上沉积层的边缘排除掩模。边缘排除掩模包括具有边缘的边缘区域,其中边缘适于具有20°或更小的相对于基板的倾斜角。
- 掩膜板及掩膜组件-201910153400.9
- 李加伟 - 云谷(固安)科技有限公司
- 2019-02-28 - 2020-02-07 - C23C14/04
- 本申请提供了一种掩膜板及掩膜组件。所述掩膜板包括第一蒸镀区域和第二蒸镀区域,所述第一蒸镀区域及所述第二蒸镀区域内分别设有多个蒸镀开口,所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度,所述第一蒸镀区域的厚度大于所述第二蒸镀区域的厚度。所述掩膜组件包括掩膜板框架、支撑条及至少一个所述掩膜板,所述支撑条固定设置在所述掩膜板框架上,至少一个所述掩膜板设置在所述支撑条上,且与所述掩膜板框架固定连接。
- 掩膜板及掩膜组件-201910153513.9
- 李加伟 - 云谷(固安)科技有限公司
- 2019-02-28 - 2020-02-07 - C23C14/04
- 本申请提供了一种掩膜板及掩膜组件。所述掩膜板包括第一蒸镀区域和第二蒸镀区域,所述第一蒸镀区域及所述第二蒸镀区域内分别设有多个蒸镀开口,所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度,所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的横截面的面积小于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的横截面的面积。
- 一种硅基对位方法-201911095593.3
- 孙晨;吕磊;晋芳铭 - 安徽熙泰智能科技有限公司
- 2019-11-11 - 2020-02-07 - C23C14/04
- 本发明公开了一种硅基对位方法,其特征在于,包括如下步骤:在硅基基板上制作对位标记;在掩膜板上开设掩膜板开孔;对位光源由上方照射,进行硅基基板上对位标记与下方掩膜板开孔对应抓取对位。本发明硅基对位方法,结构简单,可大大简化蒸镀结构,可实现精确的硅基对位,具有较好的应用前景。
- 沉积掩膜-201911112607.8
- 卢健镐;曹守铉;黄周炫;金南昊;李相范;林正龙;韩太勋;文炳律;朴宰奭;孙晓源 - LG伊诺特有限公司
- 2015-08-25 - 2020-02-07 - C23C14/04
- 本发明的实施方式涉及一种可适用于有机发光器件等的沉积工艺的掩膜结构,并且允许提供一种沉积掩膜,该沉积掩膜包括:第一表面和第二表面,该第一表面和第二表面在金属板的厚度方向正交并且彼此面对;以及多个单位孔,多个单位孔具有穿过第一表面和第二表面并且彼此连通的第一表面孔和第二表面孔,其中,基于在任选的单位孔之间的尺寸变化将在相邻单位孔之间的第一表面孔或第二表面孔的尺寸变化控制在2%至10%之内,或者基于第一表面的表面将第一表面孔的中心和第二表面孔的中心布置在中心彼此不重合的位置。
- 掩膜板及其制作方法-201911146470.8
- 王亚玲;刘亚伟;肖志慧;宋平;单为健;杨志业 - 云谷(固安)科技有限公司
- 2019-11-21 - 2020-02-07 - C23C14/04
- 本发明涉及一种掩膜板及其制作方法。掩膜板包括掩膜区,具有多个沉积开口;夹持区,位于所述掩膜区的两侧,所述夹持区的厚度大于所述掩膜区的厚度;及过渡区,位于所述夹持区与所述掩膜区之间,所述过渡区的厚度自所述夹持区向所述掩膜区趋于减小;其中,所述掩膜板具有平行于第一方向的第一对称平面、平行于第二方向的第二对称平面,以及平行于第三方向的第三对称平面,所述第一方向、所述第二方向和所述第三方向两两垂直。本发明提供的掩膜板及其制作方法,在掩膜板的掩膜区减薄的同时,增加了夹持区的固定能力,且避免了在掩膜板拉平焊接时产生褶皱,整体提高了掩膜板的蒸镀精度。
- 一种渐变镀膜排版方式及其应用方法-201911222091.2
- 陈浩;王贵生;曾德洪 - 泰州光丽光电科技有限公司
- 2019-12-03 - 2020-02-07 - C23C14/04
- 本发明提供一种渐变镀膜排版方式,包括0°上下渐变排版,45°斜向渐变排版,90°左右渐变排版,135°斜向渐变排版和180°上下渐变排版;该渐变镀膜排版方式的应用方法,具体步骤包括镀膜基材的表面处理;镀膜靶材的选择;渐变镀膜排版的设计和光学渐变镀膜;本发明提供的渐变镀膜排版方式,可实现渐变镀膜成品0°~180°任意渐变效果变化,使渐变镀膜效果更加灵活,更易实现,对比现有的排版方式,更加直观高效,减少了排版和夹具设计的不断摸索调试时间,给设计排版和工装夹具设计工作,提供了高效的解决方案。
- 一种掩膜板-201710649786.3
- 蒋谦;陈永胜 - 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
- 2017-08-01 - 2020-02-07 - C23C14/04
- 本发明提供了一种掩膜板,该掩膜板包括对位区,该对位区用于在一定强度光照下获得预设反射率以进行对位;对对位区进行反射处理,以使得掩膜板具有与该预设反射率相同范围的反射率。通过这种反射处理,使得不同类型的掩膜板在对位时,不需要调整光源强度或画面对比度也能获得相同且适合相应掩膜板的画面清晰度,减少了人工作业,提高了生产效率。
- 电子设备、电子设备的壳体及其加工方法-201911193692.5
- 莫博宇;王坤 - 维沃移动通信有限公司
- 2019-11-28 - 2020-02-04 - C23C14/04
- 本发明公开一种电子设备的壳体制备方法,包括:在壳体基材上设置膜层,膜层包括逐层叠置的至少三层子膜层,相邻的两层子膜层的折射率不同,且低折射率的子膜层与高折射率的子膜层交替层叠设置;根据壳体的目标颜色组合,将相同颜色的图形制备成单色设计图样;制备与每个单色设计图样相匹配的遮蔽光罩,每个遮蔽光罩上与相对应的单色设计图样的图形相对的位置开设通孔;依次通过遮蔽光罩在膜层上与通孔相对的区域进行开孔,每次开孔的深度对应一种目标颜色;在膜层进行开孔后,依据设置有膜层的壳体基材制备壳体。上述方案能解决目前的电子设备存在美观性较差的问题。本发明公开一种电子设备的壳体及电子设备。
- 掩膜板、掩膜板的制造方法和蒸镀装置-201710525273.1
- 张文畅;马超;靳福江;杨文斌;曾望明;王永茂;黄世花 - 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
- 2017-06-30 - 2020-02-04 - C23C14/04
- 本发明公开了一种掩膜板、掩膜板的制造方法和蒸镀装置,掩膜板包括:掩膜框架和掩膜条,掩膜框架具有第一表面和第二表面,第一表面和第二表面在掩膜框架的厚度方向上相对设置,第一表面上设有过渡层;掩膜条设在掩膜框架上且与过渡层相连,过渡层的材质与掩膜条的材质相同。根据本发明实施例的掩膜板,通过在掩膜框架上设置过渡层,并使得过渡层的材质与掩膜条的材质相同,在焊接过程中,可以将材质相同的两种物质焊接在一起,从而可以方便、牢靠地将掩膜条焊接在掩膜框架上,降低了焊接难度,且提高了焊接效果,进而提高了掩膜板的质量,有效地避免了焊接瑕疵对掩膜板的使用寿命造成影响。
- 掩膜版-201911180859.4
- 叶建波;徐鹏;马国强;邓江涛;梅菊;丁渭渭 - 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
- 2019-11-27 - 2020-01-31 - C23C14/04
- 本申请涉及显示技术领域,公开了一种掩膜版,包括框架,所述框架具有开口区,所述开口区为阶梯孔,所述阶梯孔开口大的一端内固定连接有支撑件及掩膜,所述支撑件及所述掩膜分别与所述框架固定连接,所述掩膜支撑于所述支撑件上。上述方案,在开口区设置了支撑件,掩膜支撑于支撑件上,支撑件用于消除掩膜的下垂,使得掩膜在张网过程中,不需要通过增大张力的方式来克服下垂的问题,因此可以采用较小的张力进行张网,随着张力的降低,克服了因大张力所带来的掩膜褶皱的问题,相应地还降低了掩膜焊接于框架上的焊接难度,因此提高了张网精度,克服了因张网精度差而造成的蒸镀混色的问题。
- 蒸镀掩模-201880039459.9
- 观田康克;大河原健;为川贡 - 株式会社日本显示器
- 2018-03-29 - 2020-01-31 - C23C14/04
- 蒸镀掩模包括框架和被所述框架保持的金属膜,所述金属膜具有第一开口部和配置在所述第一开口部的周围的多个第二开口部,所述第二开口部的最大宽度小于所述第一开口部的最大宽度。所述多个第二开口部沿着所述第一开口部的轮廓配置。第一开口部的轮廓可以为圆形。
- 拼版蒸镀掩模、图案的制造方法及有机半导体元件的制作方法-201510679144.9
- 广部吉纪;松元丰;牛草昌人;武田利彦;小幡胜也;西村佑行 - 大日本印刷株式会社
- 2013-01-11 - 2020-01-24 - C23C14/04
- 本发明提供一种即使在大型化的情况下也能够满足高精细化和轻量化二者的拼版蒸镀掩模的制造方法。配置于框体内的开口空间的多个掩模分别由设有缝隙的金属掩模、和位于该金属掩模的表面且纵横配置多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部的树脂掩模构成,在其形成上,在所述框体上安装了各金属掩模及用于制作所述树脂掩模的树脂薄膜材料之后,通过对所述树脂薄膜材料进行加工,纵横地形成多个与要蒸镀制作的图案对应的开口部,制造上述构成的拼版蒸镀掩模。
- 蒸镀用金属掩模-201780023714.6
- 石渡宏平;西刚广 - 凸版印刷株式会社
- 2017-04-13 - 2020-01-24 - C23C14/04
- 一种蒸镀用金属掩模,对各掩模孔进行划分的蒸镀用金属掩模的要素由在第一方向上相互对置的2个第一掩模要素以及在第二方向上相互对置的2个第二掩模要素构成。在与第一方向正交的截面中,第一掩模要素的厚度的极小值与第二掩模要素的厚度的极大值之比为70%以上。在各掩模孔中,与第一方向正交的截面中的掩模孔的宽度为掩模孔宽度,第二掩模要素的厚度的极大值与从第一开口到第二开口之间的掩模孔宽度的最小值之比为41%以上。
- 掩膜版的张网设备和张网方法-201911195364.9
- 李露露;王亚;卓林海 - 云谷(固安)科技有限公司
- 2019-11-28 - 2020-01-17 - C23C14/04
- 本发明公开了一种掩膜版的张网设备和张网方法。该张网设备包括移动机构和框架夹具;移动机构包括移动单元和支撑单元,移动单元与支撑单元连接,框架夹具固定于移动单元上,框架夹具用于夹持掩膜版框架上相对设置的夹持区域,移动机构用于驱动框架夹具产生作用于掩膜版框架上的推力,以使掩膜版框架产生预设形变;推力的方向沿第一方向朝向掩膜版框架的中心;其中,第一方向为固定于掩膜版框架上的掩膜条的长度方向。因此不会在张网结束后产生形变,从而保证了掩膜版的张网精度,进而提高了掩膜版的精度。同时简化了张网设备的复杂度,避免了气浮气压无法使掩膜版框架悬浮时,掩膜版框架与平台之间的摩擦力导致的张网精度降低的问题。
- 金属板、金属板的制造方法、以及利用金属板制造掩模的方法-201580024875.8
- 池永知加雄 - 大日本印刷株式会社
- 2015-04-28 - 2020-01-17 - C23C14/04
- 本发明提供一种金属板,其能够制作抑制了贯通孔的尺寸偏差的蒸镀掩模。长度方向的金属板的板厚的平均值为规定值±3%的范围内。另外,在将长度方向的金属板的板厚的平均值设为A,将长度方向的金属板的板厚的标准偏差乘以3而得到的值设为B时,(B/A)×100(%)为5%以下。此外,在将宽度方向的金属板的板厚的标准偏差乘以3而得到的值设为C,将为了计算出宽度方向的金属板的板厚的标准偏差而沿着宽度方向测定金属板的板厚时得到的、宽度方向的中央部的金属板的板厚的值设为X时,(C/X)×100(%)为3%以下。
- 带遮挡的溅射沉积装置及方法-201910606616.6
- 蒂莫西·内格尔;托马斯·黑克尔 - 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
- 2019-07-05 - 2020-01-14 - C23C14/04
- 一种带遮挡的溅射沉积系统和方法,该系统包括一个工艺模块,该工艺模块包括一个配置为接收一个移动衬底的真空外壳,设置在该真空外壳中的多个溅射靶,每个溅射靶包括一种靶材,以及一个设置在该衬底和相邻溅射靶的间隙空间之间的外部遮蔽件。该外部遮蔽件可以构造为至少部分地阻挡溅射靶材间接沉积在该衬底上,并允许溅射靶材直接沉积在该衬底上。
- 掩模单元及具有该掩模单元的掩模板组件-201910021082.0
- 王志祥;沈阳;王国兵;康梦华;叶訢 - 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司
- 2019-01-09 - 2020-01-14 - C23C14/04
- 本发明提供了一种掩模单元及具有该掩模单元的掩模组件,其中所涉及的掩模单元包括镀膜区,镀膜区具有多个供蒸镀成型像素的蒸镀开口,掩模单元还包括第一辅助区,第一辅助区具有邻接镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部,每一第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口,第一开口于其延伸形成方向上的宽度尺寸逐渐减小;本发明掩模单元中的镀膜区通过第一辅助区与其周边区域连接,基于第一辅助区中第一开口的渐变形态,可以有效降低掩模单元镀膜区与其周边区域交界位置处的折伤概率;且由于第一辅助区的应力释放作用,在掩模单元张紧过程中能够有效减少镀膜区内蒸镀开口的位置偏移量,从而提高蒸镀开口的整体精度。
- 一种母版芯模、掩膜板及其制作方法-201810719991.7
- 刘盛娟 - 上海和辉光电有限公司
- 2018-07-03 - 2020-01-10 - C23C14/04
- 本发明实施例公开了一种母版芯模、掩膜板及其制作方法。其中,母版芯模包括:导电芯模主板和绝缘底板;所述导电芯模主板贴附于所述绝缘底板上;所述导电芯模主板上设置有掩膜图形;所述掩膜图形与通过所述母版芯模制备的掩膜板的遮光图形相同。本发明实施例提供的技术方案,可解决现有掩膜板开口密度较低或者精度较差的问题。
- 用于激光诱导向前转移且高产量的重复方法、以及供体材料回收-201910773013.5
- T.桑德斯特伦;G.马滕森;M.罗斯林 - 迈康尼股份公司
- 2016-02-04 - 2020-01-10 - C23C14/04
- 本发明涉及用于激光诱导向前转移且高产量的重复方法、以及供体材料回收。本发明所公开的技术涉及供体材料在使用激光诱导向前转移的写入过程中的高的利用。具体地,所述技术涉及:在使用靶基材实施写入过程后,通过以供体材料再涂覆所述靶基材来重新使用或回收未用过的供体材料。此外,所述技术涉及这样的靶基材,其包括待使用LIFT从靶基材单独排出的分离离散点的图案。
- 掩膜板及蒸镀装置-201810843949.6
- 吕孝鹏;李伟丽;张璐;赵晶晶;王亚;甘帅燕 - 云谷(固安)科技有限公司
- 2018-07-27 - 2020-01-10 - C23C14/04
- 本发明涉及一种掩膜板及蒸镀装置。掩膜板包括:第一区域,第一区域内设置有多个第一开口;第二区域,位于第一区域沿预定方向的两侧,其中至少一个第二区域内设置有与第一区域的多个第一开口相继分布的多个冗余的第一开口;在第一状态中,多个第一开口的至少一部分用于形成第一种子像素,在第二状态中,将掩膜板沿预定方向移动预定距离,多个冗余的第一开口的至少一部分和多个第一开口一起用于形成与第一种子像素相异的一种子像素。本发明通过在掩膜板上沿预定方向设置冗余的多个第一开口,将掩膜板移动预定距离即可实现至少两种颜色子像素的蒸镀,提高了蒸镀效果和蒸镀效率。
- 掩模及其制造方法-201710564283.6
- 俞明在;林玄泽;黄周焕;柳熙晟 - 乐金显示有限公司
- 2017-07-12 - 2020-01-10 - C23C14/04
- 掩模及其制造方法。实施方式公开了沉积掩模及其制造方法。所公开的沉积掩模可包括:沉积部分,所述沉积部分包括多个沉积图案;以及边界部分,所述边界部分包围所述沉积部分并且包括第一区域和从所述第一区域延伸的第二区域。所述边界部分可具有比所述沉积部分厚的厚度。据此,可以防止当掩模和掩模框架彼此焊接时可能出现掩模的热变形。
- 蒸镀掩模的制造方法、用于制作蒸镀掩模的金属板及其制造方法-201680001423.2
- 池永知加雄;中山浩明;池田和成;初田千秋;大内诗子 - 大日本印刷株式会社
- 2016-02-05 - 2020-01-10 - C23C14/04
- 本发明提供一种金属板,其能够在第1面上稳定地设置宽度窄的抗蚀剂图案。金属板的制造方法具备准备由包含镍的铁合金构成的板材的准备工序。利用X射线光电子分光法实施了由板材得到的金属板的第1面的组成分析,在将作为结果得到的镍氧化物的峰面积值与镍氢氧化物的峰面积值之和设为A1、将铁氧化物的峰面积值与铁氢氧化物的峰面积值之和设为A2的情况下,A1/A2为0.4以下。
- 掩膜条及其制备方法、掩膜板-201710742464.3
- 张健;黄俊杰;林治明;张新建;王琦;郝志元;张德;刘德健;王震;孙朴 - 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 2017-08-25 - 2020-01-07 - C23C14/04
- 本发明公开了一种掩膜条及其制备方法、掩膜板,包括:掩膜条主体包括:沿预设拉伸方向排布的若干个掩膜单元,掩膜单元包括:掩膜区域和非掩膜区域,非掩膜区域上与掩膜条主体的边缘的距离小于等于第一预设距离的点所构成的区域为边侧区域,边侧区域内与对应的掩膜区域之间的距离小于等于第二预设距离的点所构成的区域为原始应力集中区域,边侧区域内除原始应力集中区域之外的其他区域内至少部分位置设置有应力集中结构。本发明的技术方案通过在边侧区域内除原始应力集中区域之外的其他区域内至少部分位置设置应力集中结构,可使得掩膜条在被拉伸时,边侧区域的应力分布更为均匀,从而能有效减小边侧区域的褶皱的幅度,提升蒸镀效果。
- 掩模板及显示面板的制作方法-201510439851.0
- 黄俊杰 - 上海和辉光电有限公司
- 2015-07-24 - 2020-01-07 - C23C14/04
- 本发明提供一种掩模板及显示面板的制作方法,所述掩模板包括:本体,所述本体上设置有多个开口部和间隔区,所述开口部定义像素图形,所述间隔区位于相邻所述开口部之间;以及间隔件,设置于所述本体的间隔区上。本发明提供的掩模板及显示面板的制作方法,能减少像素混色问题。
- 用于在柱型基片上均匀蒸镀材料的镀膜机的上法兰盘-201810250307.5
- 赵毅;孙影;刘立宁 - 吉林大学
- 2018-03-26 - 2020-01-07 - C23C14/04
- 本发明旨在解决传统真空镀膜机不能实现在光纤等柱型基片上均匀生长材料的问题,公开了一种用于在柱型基片上均匀蒸镀材料的镀膜机的上法兰盘,包括一个圆盘状的法兰盘主体,法兰盘主体上有一个放气阀,还包括转动机构、组合夹具机构和掩膜机构,一个电源与转动机构中的电机连接,电机固定在法兰盘主体的上表面上;组合夹具机构用于固定柱型基片的位置,通过电机带动夹具旋转,进而实现柱型基片的匀速旋转,通过旋转旋钮来调节掩模板的位置,选择需要的掩膜,本发明的转动机构可以使柱型基片绕其中心轴旋转,包含多个掩膜的掩膜板可以制备出完整并均匀的器件,并且避免了开仓对器件造成的污染和多次抽真空带来的时间上的浪费。
- 专利分类