[发明专利]一种蒸镀掩膜版及其制作方法、蒸镀设备

权利要求书

1.一种蒸镀掩膜版，其特征在于，包括：

掩膜本体，所述掩膜本体具有贯穿厚度方向的多个通孔，一个通孔对应一个显示面板，所述掩膜本体与所述显示面板的衬底基板具有相同的热形变特性；

限定掩膜层，设置在所述掩膜本体的一侧，所述限定层掩膜用于形成所述显示面板所需的蒸镀图形；所述衬底基板位于所述限定掩膜层远离所述掩膜本体的一侧，所述掩膜本体的厚度远大于所述限定掩膜层的厚度。

2.如权利要求1所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述通孔的横截面在所述厚度方向上逐渐增大。

3.如权利要求2所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述掩膜本体具有平行的第一表面和第二表面；

所述通孔，包括：相对设置的第一开口和第二开口，所述第一开口位于所述第一表面，所述第二开口位于所述第二表面，所述第一开口的面积大于所述第二开口的面积；所述限定掩膜层位于所述第二表面。

4.如权利要求3所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述第二开口完全覆盖所述衬底基板的有效显示区。

5.如权利要求3所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口在所述第一表面的正投影的边缘间距大于2mm。

6.如权利要求1所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述限定掩膜层，包括：

多个掩膜单元，所述掩膜单元与至少一个通孔对应；

多个间隙，所述间隙位于相邻的两个掩膜单元之间。

7.如权利要求6所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述掩膜单元包括呈阵列排布的多个像素开口，或与所述衬底基板的有效显示区对应的显示开口。

8.如权利要求6所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，还包括：

多个支撑结构，所述多个支撑结构围绕所述多个掩膜单元。

9.如权利要求8所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，还包括：

至少一个间隔结构，所述间隔结构位于至少部分相邻两个掩膜单元之间。

10.如权利要求1-9任一项所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述通孔的形状，包括：

长方形、正方形、圆形、异形。

11.如权利要求10所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，不同形状的通孔设置在于不同区域。

12.如权利要求1-9任一项所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述限定掩膜层的材料，包括：

金属材料或聚酰亚胺。

13.如权利要求12所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述限定掩膜层的材料为所述金属材料时，所述蒸镀掩膜版还包括：

导电层，位于所述掩膜本体与所述限定掩膜层之间，所述导电层与所述限定掩膜层的图形一致。

14.如权利要求13所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述限定掩膜层完全覆盖所述导电层。

15.如权利要求14所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述限定掩膜层的边缘为弧面。

16.如权利要求13所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述金属材料，包括：

铁、镍、钴中的任一个或任意组合；所述导电层的材料，包括：

氧化铟锡、钛、铂、银中的任一个。

17.如权利要求1-9任一项所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述掩膜本体的厚度与所述衬底基板的厚度相同；

所述掩膜本体与所述衬底基板采用的材料相同。