[发明专利]一种掩膜版、制作方法及制作夹具在审
| 申请号： | 202210105205.0 | 申请日： | 2022-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN114411091A | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 刘鑫;郑庆靓;李博;吴义超;赵阳;周俊吉 | 申请（专利权）人： | 成都拓维高科光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 成都蓉创智汇知识产权代理有限公司 51276 | 代理人： | 朱彬 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 制作方法 制作 夹具 | ||
1.一种掩膜版，其特征在于，包括掩膜版本体(1)，所述掩膜版本体(1)的工作面上拱。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本体(1)的工作面覆有张应力涂层。
3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述张应力涂层中部的厚度大于两端的厚度。
4.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述张应力涂层为氧化铝涂层和类金刚石涂层中的一种。
5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本体(1)的结构面覆有压应力涂层。
6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述压应力涂层中部的厚度大于两端的厚度。
7.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述压应力涂层为氧化铝涂层和类金刚石涂层中的一种。
8.一种掩膜版制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、获得掩膜版本体(1)；
S2、在所述掩膜版本体(1)工作面涂覆张应力涂层或在所述掩膜版本体(1)结构面涂覆压应力涂层。
9.根据权利要求8所述的掩膜版制作方法，其特征在于，步骤S2包括子步骤：
S21、清洗掩膜版本体(1)；
S22、将清洗后的掩膜版本体(1)移入涂层设备，并对喷涂腔抽真空、对掩膜版本体(1)加热；
S23、清洁掩膜版本体(1)待涂层面；
S24、对掩膜版本体(1)清洁后的表面涂层；
S25、掩膜版本体(1)降至室温后，给喷涂腔充入保护气。
10.一种掩膜版制作夹具，用于制作权利要求1-7中任意一项所述的掩膜版，包括用于装载掩膜版边框(3)的装载框(2)，其特征在于，所述装载框(2)上端设有支撑板(5)，所述支撑板(5)用于支撑掩膜版本体(1)，所述支撑板(5)各侧与所述装载框(2)对应的侧壁连接，且所述支撑板(5)到所述装载框(2)间的投影距离可调。
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