[发明专利]芯片背面连接的封装基板及其制作方法在审
| 申请号: | 202210089763.2 | 申请日: | 2022-01-25 |
| 公开(公告)号: | CN114628256A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
| 发明(设计)人: | 陈先明;冯磊;黄本霞;董艳林;冯进东;黄高;洪业杰 | 申请(专利权)人: | 珠海越亚半导体股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/498 |
| 代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 李翔;鲍胜如 |
| 地址: | 519175 广东省珠海*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 芯片 背面 连接 封装 及其 制作方法 | ||
1.一种芯片背面连接的封装基板的制作方法,包括如下步骤:
(a)准备聚合物支撑框架,所述聚合物支撑框架包括沿高度方向贯穿所述聚合物支撑框架的器件放置口框;
(b)在所述器件放置口框的底部贴装芯片,并在所述芯片与所述器件放置口框的间隙内及所述聚合物支撑框架的上表面上形成封装层;
(c)在所述封装层的表面上施加补强板;
(d)在所述聚合物支撑框架的下表面上形成第一绝缘层,在所述第一绝缘层的下表面上形成第一铜箔,其中所述第一绝缘层包括位于所述第一绝缘层上表面内的第一线路层,所述第一线路层与所述芯片的第一端子面连通;
(e)移除所述补强板;
(f)去除所述芯片的第二端子面或背面需要开窗的区域内的部分封装层形成凹槽,且所述凹槽的底部至所述芯片的第二端子面或背面的距离,与所述聚合物支撑框架的上表面上的封装层的厚度相同;
(g)通过等离子蚀刻减薄所述聚合物支撑框架的上表面的封装层暴露所述聚合物支撑框架内的第一导通铜柱层,并减薄所述凹槽底部和侧壁的封装层形成暴露所述芯片的第二端子面或背面的开窗;
(h)在所述第一绝缘层内形成导通孔,在所述第一铜箔的表面上形成第二线路层,在所述聚合物支撑框架的上表面上及所述开窗的底部和侧壁上形成第三线路层,所述第一线路层和所述第二线路层通过所述导通孔连通,所述芯片的第二端子面或背面与所述第三线路层连通。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其中所述凹槽侧壁的封装层减薄的厚度,与所述凹槽的底部至所述芯片的第二端子面或背面的距离相同。
3.根据权利要求1所述的制作方法,其中所述补强板包括至少一面覆有双层铜箔的覆铜板,其中所述覆铜板包括核心层、在所述核心层表面上的第一铜层和在所述第一铜层上的第二铜层,其中所述第一铜层和所述第二铜层通过物理压合附着在一起。
4.根据权利要求3所述的制作方法,其中步骤(e)包括通过将所述第一铜层和所述第二铜层物理分离,以移除所述补强板。
5.根据权利要求4所述的制作方法,其中步骤(f)包括首先蚀刻部分第二铜层暴露所述芯片的第二端子面或背面需要开窗的区域,然后去除所述区域内暴露的部分封装层形成凹槽。
6.根据权利要求5所述的制作方法,其中步骤(g)包括首先蚀刻残留的第二铜层,然后采用等离子蚀刻减薄所述聚合物支撑框架的上表面的封装层暴露所述聚合物支撑框架内的第一导通铜柱层的端部,并减薄所述凹槽底部和侧壁的封装层形成暴露所述芯片的第二端子面或背面的开窗。
7.根据权利要求4所述的制作方法,其中步骤(c)包括首先在所述封装层的表面上形成临时绝缘层,然后在所述临时绝缘层的表面上施加补强板。
8.根据权利要求7所述的制作方法,其中步骤(f)包括首先蚀刻部分第二铜层暴露所述芯片的第二端子面或背面需要开窗的区域,然后去除所述区域内暴露的临时绝缘层和部分封装层形成凹槽。
9.根据权利要求8所述的制作方法,其中步骤(g)包括首先蚀刻残留的第二铜层并移除临时绝缘层,然后采用等离子蚀刻减薄所述聚合物支撑框架的上表面的封装层暴露所述聚合物支撑框架内的第一导通铜柱层的端部,并减薄所述凹槽底部和侧壁的封装层形成暴露所述芯片的第二端子面或背面的开窗。
10.根据权利要求1所述的制作方法,其中步骤(b)包括通过在所述聚合物支撑框架的下表面上施加粘合层,然后将所述芯片的第一端子面附着在所述器件放置口框内暴露的粘合层上,以在所述器件放置口框的底部贴装芯片。
11.根据权利要求10所述的制作方法,其中所述粘合层包括单面胶带。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于珠海越亚半导体股份有限公司,未经珠海越亚半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210089763.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





