[发明专利]一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备

权利要求书

1.一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，其特征在于，包括：

支架（1），所述支架（1）用于支撑设备的一端；

温度圈（17），所述温度圈（17）用于支撑设备另一端；所述温度圈（17）的一端设有前驱体输入组件，且温度圈（17）的另一端设有真空度调节组件；

所述前驱体输入组件包括前驱体输入斗（11）、挤压泵（18）和喷涂器（19），所述前驱体输入斗（11）的底端连接至挤压泵（18）的输入端上，所述喷涂器（19）的端部连接于挤压泵（18）的输出端上；

所述真空度调节组件包括真空泵（16）和真空度调节箱（15），所述真空泵（16）的端部通过管道连接至真空度调节箱（15），且真空度调节箱（15）的端部通过管道和温度圈（17）的内部相连接，所述真空调度箱（15）的内壁设有气压传感器和控制开关，且气压传感器和控制开关通过电性连接至真空泵（16）；

制备仓（14），所述制备仓（14）的底端连接至温度圈（17）的外壁中部，所述制备仓（14）的另一端连接有激光通道（5），所述制备仓（14）的底侧设有换热仓（25），且换热仓（25）的底端通过管道和温度圈（17）的内部相连通；

所述制备仓（14）的顶部外壁设有转动电机（13），且转动电机（13）的输出轴连接有液压缸（22），所述液压缸（22）的底端设有托板（23），且托板（23）的顶部外壁排布有至少一个基板夹（24）；

所述制备仓（14）靠近激光通道（5）的一侧延伸有气道（21），且气道（21）的端部设有镜片组件，所述镜片组件用于反射激光改变其激光路径；

狭缝式激光发生器（4），所述狭缝式激光发生器（4）的底端外壁固定连接有支撑台（2），且支撑台（2）的底端外壁固定连接在支架（1）的外壁上；

气体辅助组件，所述气体辅助组件包括氮气罐（6）和辅助气罐（10），且氮气罐（6）和辅助气罐（10）的输出端连接有安装座，所述安装座的端部通过管道连接有温度调节器（8），且温度调节器（8）的底侧通过管道连接至激光通道（5）的内壁中，所述温度调节器（8）、安装座均设有激光通道（5）的外壁上。

2.根据权利要求1所述的一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，其特征在于，所述激光通道（5）的内壁设有托架，且托架的顶部外壁固定连接有激光枪（27），所述激光枪（27）的端部连接至狭缝式激光发生器（4）的输出端上。

3.根据权利要求1所述的一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，其特征在于，所述氮气罐（6）和辅助气罐（10）与温度调节器（8）的连接处分别设有第一启闭电磁阀（7）和第二启闭电磁阀（9）。

4.根据权利要求3所述的一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，其特征在于，所述温度调节器（8）包括气压表、内加热线圈和半导体散热器，所述内加热线圈与半导体散热器平行设于温度调节器（8）的内部，所述气压表设于第一启闭电磁阀（7）和第二启闭电磁阀（9）所连接的管道上。

5.根据权利要求4所述的一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，其特征在于，所述温度调节器（8）的底侧设有温度传感器，且温度传感器与内加热线圈和半导体散热器之间通过电性连接。

6.根据权利要求1所述的一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，其特征在于，所述镜片组件包括转动轴（28）、反射镜（29）、传动电机（20）和传动结构，所述转动轴（28）的底端通过传动结构和传动电机（20）的输出轴相连接，所述反射镜（29）固定连接于转动轴（28）的外壁上。

7.根据权利要求6所述的一种在硅基材表面形成二氧化硅薄膜的制备设备，其特征在于，所述传动结构包括传动轮、从动轮和传动皮带，且传动轮通过传动皮带和从动轮之间形成传动配合，所述传动轮设于传动电机（20）的输出轴，且从动轮设于转动轴（28）的底端外壁上。