[发明专利]半导体封装装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110973883.4 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN113725105A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 林咏胜;高金利;洪志斌 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 北京植德律师事务所 11780 代理人: 唐华东
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体封装装置,包括:

第一上部封装结构,包括第一上线路层和第二上线路层,所述第一上线路层和所述第二上线路层水平并排设置,所述第一上线路层包括从上到下依次设置的第一上介电层、第一上焊盘和第一上焊垫,所述第二上线路层包括从上到下依次设置的第二上介电层和第二上焊盘;

第一下部封装结构,包括第一下线路层和第二下线路层,所述第一下线路层和所述第二下线路层水平并排设置,所述第一下线路层包括从下到上依次设置的第一下介电层、第一下焊盘和第一下焊垫,所述第二下线路层包括从下到上依次设置的第二下介电层和第二下焊盘;

所述第一上焊垫电连接所述第二下焊盘,所述第一下焊垫电连接所述第二上焊盘。

2.根据权利要求1所述的半导体封装装置,其中,所述第一上焊垫设置于第二下焊盘上表面,所述第二上焊盘设置于所述第一下焊垫上表面。

3.根据权利要求2所述的半导体封装装置,其中,所述半导体封装装置还包括:

第一非电镀金属层,设于所述第一上焊垫的侧壁、所述第二下焊盘的侧壁以及所述第一上焊垫和所述第二下焊盘之间;

第二非电镀金属层,设于所述第一下焊垫的侧壁、所述第二上焊盘的侧壁以及所述第一下焊垫和所述第二上焊盘之间。

4.根据权利要求3所述的半导体封装装置,其中,所述第一非电镀金属层位于所述第一上焊垫和所述第二下焊盘之间的部分侧壁向内凹陷,所述第二非电镀金属层位于所述第一下焊垫和所述第二上焊盘之间的部分侧壁向内凹陷。

5.根据权利要求3所述的半导体封装装置,其中,所述第二下焊盘的最大外径小于所述第一上焊垫的最大外径,所述第二上焊盘的最大外径小于所述第一下焊垫的最大外径。

6.根据权利要求5所述的半导体封装装置,其中,所述第一非电镀金属层延伸至所述第二下介电层的上表面和/或侧表面,所述第二非电镀金属层延伸至所述第二上介电层的下表面和/或侧表面。

7.根据权利要求1所述的半导体封装装置,其中,所述第一上焊垫位于所述第二下焊盘的侧面,所述第一下焊垫位于所述第二上焊盘的侧面。

8.根据权利要求7所述的半导体封装装置,其中,所述半导体封装装置还包括:

第三非电镀金属层,设于所述第一上焊垫的侧壁和下表面;

第四非电镀金属层,设于所述第一下焊垫的侧壁和上表面。

9.根据权利要求8所述的半导体封装装置,其中,所述第三非电镀金属层接触所述第二下焊盘的部分上表面。

10.根据权利要求9所述的半导体封装装置,其中,所述第二下介电层延伸至所述第二下焊盘的上表面以及所述第二下焊盘未接触所述第三非电镀金属层的侧壁。

11.根据权利要求10所述的半导体封装装置,其中,所述第三非电镀金属层延伸至所述第二下介电层设于所述第二下焊盘上表面部分的侧壁。

12.根据权利要求11所述的半导体封装装置,其中,所述第三非电镀金属层延伸至所述第二下介电层设于所述第二下焊盘上表面部分的上表面。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110973883.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top