[发明专利]PCB板图形转移对位标靶方法在审
申请号: | 202110474572.3 | 申请日: | 2021-04-29 |
公开(公告)号: | CN113411991A | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 张声芹;姚晓建;钮荣杰;王宏业 | 申请(专利权)人: | 广州美维电子有限公司 |
主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 王忠浩 |
地址: | 510663 广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | pcb 图形 转移 位标 方法 | ||
本发明公开了一种PCB板图形转移对位标靶方法,包括以下步骤:在PCB板上钻出对位标靶孔;沿对位标靶孔的外侧边沿连续加工分流孔;在PCB板上加工镭射通孔;在PCB板上镀铜,将对位标靶孔位置处多余的铜分流到分流孔中;使用该对位标靶孔进行图形转移的对位,生成PCB板的线路导电图形。在镀铜过程中,采用对位标靶孔周围设计分流孔进行保护,在复杂波形脉冲电镀过程中起到分流电镀密度、增加电镀面积的作用,可有效保护对位标靶孔直径一致性并提高稳定性,减少铜厚凸起的影响,改善了对位标靶孔的孔内铜厚的均匀性,避免在图形转移过程中出现拒曝、图形PAD与镭射孔偏移等产品问题,提升生产效率、提高图形PAD与镭射孔的对准度。
技术领域
本发明涉及线路板领域,尤其涉及一种PCB板图形转移对位标靶方法。
背景技术
目前,随着PCB板朝轻、薄、短、小的方向发展,镭射孔的设计越来越小,极容易造成镭射孔崩孔,近期镭射盲孔设计已经发展到镭射钻通孔设计的级别(即X-via)。
但是,现有的图形转移对位标靶方法存在以下缺陷:
在针对对位标靶孔的镀铜过程中,由于镀铜均匀会在对位标靶孔周围形成铜厚凸起,严重影响对位标靶孔的直径的准确度,经常出现对位标靶直径大小的不一问题,降低了生产效率,造成了图形PAD与镭射孔偏移的不良缺陷。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明的目的之一在于提供一种PCB板图形转移对位标靶方法,其能解决对位标靶直径大小不一、生产效率降低的问题。
本发明的目的之一采用如下技术方案实现:
一种PCB板图形转移对位标靶方法,包括以下步骤:
孔位加工步骤:在PCB板上钻出对位标靶孔;
分流加工步骤:沿对位标靶孔的外侧边沿连续加工分流孔;
镭射步骤:在PCB板上加工镭射通孔;
镀铜步骤:在PCB板上镀铜,将对位标靶孔位置处多余的铜分流到分流孔中;
对位步骤:使用该对位标靶孔进行图形转移的对位,生成PCB板的线路导电图形。
进一步地,在所述孔位加工步骤中,对位标靶孔加工为圆形。
进一步地,在所述分流加工步骤中,在圆形的对位标靶孔周围加工一圈直径相同的分流孔。
进一步地,在所述分流加工步骤中,将分流孔的直径限定为对位标靶孔直径的十分之一到五分之一之间。
进一步地,在所述分流加工步骤中,分流孔的直径限定为对位标靶孔直径的0.15倍。
进一步地,在所述镀铜步骤中,检验是否出现铜厚凸起并对应标记。
进一步地,在所述镀铜步骤中,检验铜厚凸起是否符合要求,若是,执行下一步,若否,报废处理。
进一步地,在所述镀铜步骤中,识别对位标靶孔处的图形,生成对位标靶图。
进一步地,在所述镀铜步骤中,将对位标靶图标号并与相应的对位标靶孔对应。
进一步地,还包括换板步骤:更换另外一块PCB板,重复加工步骤。
相比现有技术,本发明的有益效果在于:
在镀铜过程中,采用对位标靶孔周围设计分流孔进行保护,在复杂波形脉冲电镀过程中起到分流电镀密度、增加电镀面积的作用,可有效保护对位标靶孔直径一致性并提高稳定性,减少铜厚凸起的影响,改善了对位标靶孔的孔内铜厚的均匀性,避免在图形转移过程中出现拒曝、图形PAD与镭射孔偏移等产品问题,提升生产效率、提高图形PAD与镭射孔的对准度。
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