[发明专利]检测对象缺陷图案的优先级排序装置、排序方法及存储介质

权利要求书

1.一种检测对象缺陷图案的优先级排序装置，所述检测对象由至少一个基本单元或者至少一个伪单元组成；其特征在于，包括：

缺陷检测结果读取模块，用于读取检测对象的缺陷图案；

缺陷检测结果解析模块，接收所述缺陷检测结果读取模块发送的所述缺陷图案，并读取所述缺陷图案信息，所述缺陷图案信息至少包括缺陷图案的缺陷坐标、缺陷对象层和缺陷种类；

布图数据读取模块，接收所述检测对象的原始设计布图数据；

布图数据解析模块，接收所述原始设计布图，并读取所述缺陷对象层的构造和布图坐标；

布图数据单元解析模块，对于所述原始设计布图数据，对于具有多层级构造的所述原始设计布图数据提取所有的种类和各个基本单元的配置数，对于不具有层级构造的所述原始设计布图数据，提取重复布图图案组合，将重复图案组合构成为一个新的伪单元，将所有伪单元被配置在原始设计布图数据中的数量作为配置数提取，并记录所有基本单元和伪单元的配置数；

数据处理解析模块，基于所述检测对象的缺陷图案，对于多层级构造的所述原始设计布图数据，依次判定每个所述基本单元位置区域是否有相应的缺陷图案影响，如果有，则标识所述基本单元为有缺陷图案影响的基本单元；对于不具有层级构造的所述原始设计布图数据，依次判定每个所述伪单元位置区域是否有相应的缺陷图案影响，如果有，则标识所述伪单元为有缺陷图案影响的伪单元；以及将有缺陷图案影响的基本单元和伪单元判定为缺陷风险单元；

缺陷位置重要度判定模块，根据所述数据处理解析模块输出的缺陷风险单元与从所述布图数据解析模块输出的基本单元的配置数和伪单元的配置数，对从与缺陷风险单元中的且在原始设计布图数据中配置的配置数多的单元相对应的缺陷图案开始进行重要度排序，其中，所述配置数越多，所述重要度排序越高。

2.根据权利要求1所述的检测对象缺陷图案的优先级排序装置，其特征在于，根据所述重要度排序结果，将重要度较高的判定为检测优先级较高，从优先级较高的缺陷图案开始依次进行检测。

3.根据权利要求1所述的检测对象缺陷图案的优先级排序装置，其特征在于，还包括存储模块，与所述数据处理解析模块相连，用于存储所有的所述缺陷图案、所述缺陷风险单元和所述重要度。

4.根据权利要求1所述的检测对象缺陷图案的优先级排序装置，其特征在于，还包括修正警报模块，对于每一个构成所述缺陷风险单元的基本单元和伪单元，当其被配置在原始设计布局数据中的配置数达到预定的数量或者超过预定的数量时，所述修正警报模块报警。

5.一种检测对象缺陷图案的优先级排序方法，所述检测对象由至少一个基本单元或者至少一个伪单元组成；其特征在于，包括如下步骤：

接收检测对象设计时的原始设计布图数据的步骤；

接收所述原始设计布图数据，读取所述原始设计布图数据的对象层信息，所述对象层信息至少包括对象层构造和对象层布图坐标的步骤；

对于配置多个基本电路、特定功能的基本单元而设计的多层级构造的所述原始设计布图数据，提取所有基本单元的配置数，对于不具有层级构造的所述原始设计布图数据，提取重复布图图案组合，将重复图案组合构成为一个新的伪单元，提取所有伪单元被配置在原始设计布图数据中的配置数，并记录所有基本单元和伪单元进行配置数的步骤；

从检测对象的缺陷检测结果接收缺陷图案，读取所述缺陷图案的缺陷坐标、对象层和缺陷种类的步骤；

根据从半导体检测装置输出的缺陷图案，对于多层级构造的所述原始设计布图数据，依次判定每个所述基本单元位置区域是否有相应的缺陷图案影响，如果有，则标识所述基本单元为有缺陷图案影响的基本单元；对于不具有层级构造的所述原始设计布图数据，依次判定是否有每个所述伪单元位置区域是否有相应的缺陷图案影响，如果有，则标识所述伪单元为有缺陷图案影响的伪单元；并且将有缺陷图案影响的基本单元和伪单元判定为缺陷风险单元的步骤；以及

根据在上述步骤中确定的缺陷风险单元和基本单元的配置数量、伪单元的配置数量，从与缺陷风险单元中的、被配置在原始设计布图数据中的配置数多的单元相对应的缺陷图案开始进行重要度排序的步骤，其中，配置数越多，所述重要度排序越高。