[发明专利]一种LDI曝光中实现图形裁边或者扩展的方法有效
申请号: | 201911372327.0 | 申请日: | 2019-12-27 |
公开(公告)号: | CN111028183B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 陈修涛 | 申请(专利权)人: | 合肥众群光电科技有限公司 |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06T7/187;G06T11/40;G06T1/20;H04N23/76 |
代理公司: | 合肥兴东知识产权代理有限公司 34148 | 代理人: | 王伟 |
地址: | 230088 安徽省合肥市蜀*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ldi 曝光 实现 图形 或者 扩展 方法 | ||
本发明涉及无掩模曝光领域,尤其涉及一种LDI曝光中实现图形裁边或者扩展的方法,该方法包括以下步骤:S1、设置多边形中每一个边缘裁边或扩展的像素数N,并区分裁边还是扩展;S2、将待处理的图像数据填充为点阵图,将点阵图发送到处理模块;S3、根据点阵图信息,获得每行每列的数据值;裁边是采用对应行列平移相与获得对应位置的像素点值,扩展是采用对应行列平移后相或来获得对应位置的像素点值,本发明将原始的多边形填充为点阵图,从而解决了图形公共边的问题。利用相邻两个点相与或者或操作,从而实现多边形向内部缩减一个像素或者向外部扩展一个像素的目的,为了实现多个像素的缩减或者扩展,只要将结果多次运算即可。
技术领域
本发明涉及无掩模曝光领域,尤其涉及一种LDI曝光中实现图形裁边或者扩展的方法。
背景技术
目前,LDI曝光技术分为步进式曝光,直扫式扫描曝光,倾斜式扫描曝光,其中,倾斜曝光技术兼具高曝光效率、高解析的特点,已经成为LDI的首选曝光方式。但是,倾斜式曝光存在一个问题:正极性曝光时,图形边缘展宽问题,并且曝光能量越大,展宽越明显;负极性曝光时,图形边缘缩减问题,并且曝光能量越大,缩减越明显。为了得到客户需要的尺寸的图形,需要对曝光的图形,在曝光之前进行一定的处理,保证图形最终的曝光尺寸大小与实际设计的一致。
传统的裁边算法是对多边形进行裁边,这个有成熟的算法函数,可以直接使用。但是问题在于,当两个存在公共边的图形使用多边形裁边算法时会出现我们不希望出现的裂缝。为了解决这个问题,可以对多边形进行合并,将图1中的图形合并为一个四边形。但是,当图形很复杂,数量庞大的时候,合并算法的数据处理量非常的庞大,处理效率很低,不利用数据的实时处理。
发明内容
为了解决现有技术中公共边的图像使用现有技术中多边形裁边算法时出现裂缝,并且数据处理量较小,为此,本发明提供一种LDI曝光中实现图形裁边或者扩展的方法。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种LDI曝光中实现图形裁边或者扩展的方法,包括以下步骤:
S1、设置多边形中每一个边缘裁边或扩展的像素数N,并区分裁边还是扩展;
S2、将待处理的图像数据填充为点阵图,将点阵图发送到处理模块;
S3、根据点阵图信息,获得每行每列的数据值;
a)、在行方向裁边时:分别将每一行的数据向前和向后平移1个像素,然后在空缺位置补0,将获得的两行数据中对应位置的像素值与原始像素三者相与,形成对应位置的像素值,即获得对应行行方向边缘缩减1个像素;重复N次获得行方向裁边N像素;
b)、在列方向裁边时:分别将将每一列数据向上和向下平移1个像素,然后在空缺位置补0,将获得的两列数据中对应位置的像素值与原始像素三者相与,形成对应位置的像素值,即获得对应列列方向边缘缩减1个像素;重复N次获得列方向裁边N像素;
c)、在行方向扩展时:分别将每一行的数据向前和向后平移1个像素,然后在空缺位置补0,将获得的两行数据中对应位置的像素值与原始像素三者相或,形成对应位置的像素值,即获得对应行行方向边缘扩展1个像素;重复N次获得行方向扩展N像素;
d)、在列方向扩展时:分别将每一列数据向上和向下平移1个像素,然后在空缺位置补0,将获得的两列数据中对应位置的像素值与原始像素三者相或,形成对应位置的像素值,即获得对应列列方向边缘扩展1个像素;重复N次获得列方向扩展N像素。
优化的,所述处理模块为FPGA。
优化的,步骤S2中填充的方法为任意多边形扫描线填充算法。
优化的,多个点之间的与操作和或或操作同时进行。
优化的,步骤S1中使用正负来区分裁边和扩展。
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