[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置

说明书

本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，用以在阵列基板制备过程中对刻蚀残留进行检测，提高产能，节约成本。本申请实施例提供的阵列基板包括：衬底基板，位于衬底基板之上的至少一层导电层；阵列基板划分为显示区以及显示区之外的周边区；导电层在周边区包括至少一组检测电路；检测电路包括：相互绝缘的第一检测电极部和第二检测电极部；第一检测电极部包括：第一检测端，第二检测端，以及连接第一检测端和第二检测端的第一连接线；第二检测电极部包括：第三检测端，第四检测端，以及连接第三检测端和第四检测端的第二连接线；第一连接线与第二连接线相邻，且第一连接线与第二连接线之间的距离小于预设值。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置。

背景技术

目前，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示产品具有屏幕亮度大、色域广、耗电量低、可视角度大等优势而得到大力发展。目前，在大尺寸OLED面板制作时，栅极、源漏极均需要沉积厚金属层，大尺寸OLED面板显示区(AA区)和周边区的金属图案分布差异较大，AA区之外的区域待刻蚀面积比AA区待刻蚀面积大，在对厚金属层进行刻蚀工艺时存在负载效应，即由于被蚀刻材质裸露在反应蚀刻液时，反应刻蚀液在待刻蚀面积较大的区域中被消耗掉的程度比在待刻蚀面积较小的区域中被消耗掉的程度大，反应刻蚀液在待刻蚀面积较大的区域中的酸浓度比在待刻蚀面积较小的区域中的酸浓度低，而蚀刻速率与反应酸浓度成正比关系，因此，待刻蚀面积较大的区域蚀刻速率比待刻蚀面积较小的区域刻蚀速率慢，待刻蚀面积较大的区域即AA区之外的区域容易出现刻蚀残留。当形成对位标记的图案存在刻蚀残留时，实际形成的对位标记图案与预设图案不一致，在后续利用掩膜板的工艺中无法完成对位标记的识别导致掩膜板无法对位，导致设备异常。或者，存在刻蚀残留的情况在产品制备完成后的检测工序中有几率被检测出来，但是当通过检测确定存在刻蚀残留时，产品只能进行报废。

综上，现有技术在显示产品的制备过程中无法对刻蚀残留进行检测，无法避免由于刻蚀残留导致的产能降低以及材料浪费。

发明内容

本申请实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，用以在阵列基板制备过程中对刻蚀残留进行检测，提高产能，节约成本。

本申请实施例提供的一种阵列基板，所述阵列基板包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的至少一层导电层；所述阵列基板划分为显示区以及所述显示区之外的周边区；所述导电层在所述周边区包括至少一组检测电路；所述检测电路包括：相互绝缘的第一检测电极部和第二检测电极部；

所述第一检测电极部包括：第一检测端，第二检测端，以及连接所述第一检测端和所述第二检测端的第一连接线；

所述第二检测电极部包括：第三检测端，第四检测端，以及连接所述第三检测端和所述第四检测端的第二连接线；

所述第一连接线与所述第二连接线相邻，且所述第一连接线与所述第二连接线之间的距离小于预设值。

可选地，所述第一连接线和所述第二连接线为折线。

可选地，所述导电层在所述显示区包括至少一组所述检测电路。

可选地，所述导电层包括下列之一或其组合：阳极层、公共电极层、薄膜晶体管的栅极层、源漏极层。

本申请实施例提供的一种阵列基板的制备方法，所述方法包括：

提供衬底基板；所述衬底基板划分为显示区和所述显示区之外的周边区；

在衬底基板之上形成导电层的图案，其中，所述导电层在所述周边区包括至少一组检测电路，所述检测电路包括第一检测电极部和第二检测电极部，所述第一检测电极部包括：第一检测端，第二检测端，以及连接所述第一检测端和所述第二检测端的第一连接线，所述第二检测电极部包括：第三检测端，第四检测端，以及连接所述第三检测端和所述第四检测端的第二连接线；