[发明专利]一种图形化蓝宝石衬底及其制备方法

权利要求书

1.一种图形化蓝宝石衬底，其特征在于，包括蓝宝石平片和在其表面形成的图形化的含硅有机涂层；

所述含硅有机涂层中硅含量为20-45%；

所述含硅有机涂层的折射率≤1.7;

所述含硅有机涂层主要由含硅树脂和固化剂加热固化而成；

所述含硅有机涂层的主要成分为聚硅氧烷树脂、聚倍半硅氧烷树脂、改性硅氧烷树脂等中的一种或几种的混合物溶液；

所述图形化蓝宝石衬底的制备方法，包括如下步骤：

（a）在蓝宝石平片表面涂覆形成含硅有机涂层；

（b）在含硅有机涂层表面涂覆光刻胶形成光刻胶层，光刻形成掩膜图形；

（c）在光刻胶层的保护下刻蚀含硅有机涂层，将图形转移至含硅有机涂层，去除光刻胶，得到所述图形化蓝宝石衬底；

步骤（a）中，将含硅有机材料涂覆于蓝宝石平片表面，加热固化形成含硅有机涂层；

所述步骤（b）中，先在含硅有机涂层表面涂覆耐刻蚀涂层，然后在耐刻蚀涂层表面涂覆光刻胶层，在光刻胶层光刻形成掩膜图形；

通过烘烤、曝光和显影，在光刻胶层上形成掩膜图形；

所述耐刻蚀涂层为有机耐刻蚀材料；

所述光刻胶层为高含硅光刻胶层；

所述步骤（c）中，在光刻胶层的保护下先刻蚀耐刻蚀涂层，然后刻蚀光刻胶层、耐刻蚀涂层和含硅有机涂层，将图形转移至含硅有机涂层，得到所述图形化蓝宝石衬底；

所述步骤（c）中通过等离子体刻蚀含硅有机涂层，将图形转移至含硅有机涂层。

2.根据权利要求1所述的图形化蓝宝石衬底，其特征在于，所述含硅有机涂层的折射率为1.3-1.7。

3.根据权利要求1所述的图形化蓝宝石衬底，其特征在于，所述耐刻蚀涂层的厚度为1-3μm。

4.根据权利要求1所述的图形化蓝宝石衬底，其特征在于，所述耐刻蚀涂层的厚度为1.5-2.5μm。

5.根据权利要求1所述的图形化蓝宝石衬底，其特征在于，所述光刻胶层的厚度为0.1-1um。

6.根据权利要求1所述的图形化蓝宝石衬底，其特征在于，所述光刻胶层的厚度为0.2-0.5um。

7.根据权利要求1所述的图形化蓝宝石衬底，其特征在于，所述含硅有机涂层的厚度为2.3±1μm。

8.根据权利要求1所述的图形化蓝宝石衬底，其特征在于，所述含硅有机涂层的厚度为2.3±0.5μm。

9.根据权利要求1所述的图形化蓝宝石衬底，其特征在于，所述步骤（c）中通过等离子体刻蚀含硅有机涂层，将图形转移至含硅有机涂层，至露出蓝宝石平片即可。