[发明专利]一种走线结构及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201810928918.0 | 申请日： | 2018-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN109087902B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 李海旭;曹占锋;王珂;汪建国 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/49 | 分类号： | H01L23/49;H01L21/48 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张京波;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 结构 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种走线结构，包括基体，其特征在于，还包括形成于所述基体上的预布置层，形成于所述基体和所述预布置层上的种子层，以及形成于所述种子层上的电极走线，所述电极走线覆盖所述预布置层，所述预布置层的两侧与所述基体的夹角为15-60°，以使所述预布置层引导所述电极走线的形成。
2.根据权利要求1所述的走线结构，其特征在于，所述预布置层的宽度不大于所述电极走线的宽度。
3.根据权利要求1所述的走线结构，其特征在于，所述预布置层的横截面为梯形。
4.根据权利要求1-3任一所述的走线结构，其特征在于，所述预布置层的材料为金属材料、有机材料或无机材料。
5.根据权利要求1-3任一所述的走线结构，其特征在于，所述预布置层的厚度大于0.01um，并小于所述种子层厚度的1/2。
6.根据权利要求1-3任一所述的走线结构，其特征在于，所述电极走线为金属电极走线。
7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-6任一所述的走线结构。
8.一种走线结构的制备方法，其特征在于，包括：
确定在基体上形成电极走线的走线位置；
在基体的走线位置上形成预布置层，所述预布置层的两侧与所述基体的夹角为15-60°，以使所述预布置层引导所述电极走线的形成；
在基体和预布置层上形成种子层；
在走线位置外围的种子层上涂覆胶膜；
采用电镀工艺，在预布置层的引导下，在走线位置的种子层上形成电极走线，然后将胶膜去除。
9.根据权利要求8所述的走线结构的制备方法，其特征在于，采用电镀工艺，在走线位置的种子层上形成电极走线的方法包括：
将基体放入含有镀层离子的溶液内；
将基体上的种子层作为阴极，将含有镀层离子的溶液作为阳极，通电，在走线位置的种子层上形成电极走线。
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