[发明专利]具有可移动结构的沉积或清洁装置和操作方法

权利要求书

1.一种沉积或清洁装置，包括：

外室；

在所述外室内部的反应室，形成双室结构，其特征在于，所述反应室被配置成在所述外室内部的处理位置和降低的位置之间移动，所述降低的位置用于将一个或多个衬底装载到所述反应室中。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述装置被配置成通过所述反应室的向下移动来形成进入所述反应室的装载开口。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中，所述反应室被配置成在所述反应室的向下移动时从上部静止部分脱离，以打开用于装载的路线。

4.根据权利要求1或2所述的装置，包括：

在所述外室的侧面的装载端口，用于通过所述外室的侧面将所述一个或多个衬底装载到所述反应室中。

5.根据权利要求1或2所述的装置，包括：

移动元件，被配置为允许所述反应室的垂直移动。

6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述移动元件形成所述装置的排气管线的一部分。

7.根据权利要求5所述的装置，其中，所述移动元件是真空波纹管。

8.根据权利要求1或2所述的装置，包括：

加热器，位于所述外室的内部，但位于所述反应室的外部。

9.根据权利要求1或2所述的装置，包括：非活性气体被馈入所述外室的通道，在所述反应室和所述外室壁之间的中间空间中；和来自所述中间空间的所述非活性气体的出口。

10.根据权利要求1或2所述的装置，其中所述装置是原子层沉积ALD装置或化学气相沉积CVD装置。

11.一种方法，包括：

提供具有处理位置和降低的位置的沉积或清洁反应器的反应室；和

将所述反应室在所述处理位置和所述降低的位置之间移动，所述降低的位置用于将一个或多个衬底装载到所述反应室中。

12.根据权利要求11所述的方法，包括：

通过所述反应室的向下移动来形成进入所述反应室的装载开口。

13.根据权利要求11或12所述的方法，包括：

在所述反应室的向下移动时将所述反应室从上部静止部分脱离。

14.根据权利要求11或12所述的方法，包括：

通过围绕所述反应室的外室的侧面，将一个或多个衬底装载到所述反应室中。

15.根据权利要求11或12所述的方法，包括：

通过气密柔性元件来移动所述反应室。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述气密柔性元件为真空波纹管。

17.根据权利要求11或12所述的方法，包括：

通过被定位于所述沉积或清洁反应器的排气管线中的元件移动所述反应室。

18.根据前述权利要求11或12所述的方法，包括：提供被形成在所述反应室和所述外室壁之间的中间空间，所述中间空间具有与所述反应室压力相比更大的压力。

19.根据前述权利要求11或12所述的方法，包括：在所述反应室内在所述一个或多个衬底上实施原子层沉积ALD方法。

20.一种沉积或清洁反应器，包括：用于实施前述权利要求11-19中任一项所述的方法的部件。