[发明专利]半导体模块有效

专利信息
申请号: 201710258431.1 申请日: 2017-04-19
公开(公告)号: CN107305888B 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 木村光德;清水浩史;持木健吾;大河内靖之;山平优;松冈哲矢;福岛和马 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: H01L25/18 分类号: H01L25/18;H01L23/495
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 李玲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 模块
【权利要求书】:

1.一种半导体模块,包括:

IGBT和MOSFET,其彼此并联连接并且被设置在同一引线框上;其中,

所述IGBT和MOSFET中的任一者是第一切换元件并且剩下的一个是第二切换元件;并且

所述第二切换元件被布置在与同一引线框中的所述第一切换元件的传导路径分开的位置。

2.根据权利要求1所述的半导体模块,其中,

所述半导体模块包括第一端子和第二端子,其彼此平行地从所述引线框延伸;并且

所述IGBT和所述MOSFET被并排安排在与所述第一端子和所述第二端子的延伸方向相交的方向上。

3.根据权利要求2所述的半导体模块,其中,

所述第一切换元件在所述第二切换元件之前被驱动;并且

经由所述第一切换元件在所述第一端子与所述第二端子之间形成的传导路径的长度被配置成短于经由所述第二切换元件在所述第一端子与所述第二端子之间形成的传导路径的长度。

4.根据权利要求3所述的半导体模块,其中,

具有延伸至面向所述引线框的制冷剂通路的冷却器被附接至所述半导体模块上;并且

首先被驱动的所述第一切换元件被配置成,相对于在所述冷却器的所述制冷剂通路中的制冷剂的流,不是布置在所述第二切换元件的下游侧。

5.根据权利要求4所述的半导体模块,其中,

所述半导体模块被配置成使得,首先被驱动的所述第一切换元件,相对于在所述冷却器的所述制冷剂通路中的所述制冷剂的所述流,被布置在所述第二切换元件的上游侧。

6.一种半导体模块,包括:

多个半导体元件对,其IGBT和MOSFET彼此并联连接,所述半导体元件对在电源的高电势侧线路与低电势侧线路之间串联连接,并且被设置在同一引线框上;其中,

所述多个半导体元件对中所包含的多个IGBT或多个MOSFET是多个第一切换元件,并且其余的是多个第二切换元件;

所述多个第一切换元件在所述多个第二切换元件之前被驱动;

在所述多个半导体元件对之中的被布置在所述高电势侧线路与AC输出线路之间的半导体元件对中,所述第二切换元件被布置在与经由所述第一切换元件在所述高电势侧线路与所述AC输出线路之间形成的传导路径分开的位置处;并且

在所述多个半导体元件对之中的被布置在所述低电势侧线路与所述AC输出线路之间的半导体元件对中,所述第二切换元件被布置在与经由所述第一切换元件在所述低电势侧线路与所述AC输出线路之间形成的传导路径分开的位置处。

7.根据权利要求6所述的半导体模块,其中,

在所述高电势侧线路与所述低电势侧线路之间形成的依次穿过所述多个第一切换元件的传导路径的长度被配置成短于在所述高电势侧线路与所述低电势侧线路之间形成的依次穿过所述多个第二切换元件的传导路径的长度。

8.根据权利要求6所述的半导体模块,其中,

具有与所述引线框相对延伸的制冷剂通路的冷却器被附接至所述半导体模块;并且

在所述多个半导体元件对中的每一对中首先被驱动的所述第一切换元件被配置成,相对于在所述冷却器的所述制冷剂通路中的制冷剂的流,不是布置在所述第二切换元件的下游侧。

9.根据权利要求7所述的半导体模块,其中,

具有与所述引线框相对延伸的制冷剂通路的冷却器被附接至所述半导体模块;并且

在所述多个半导体元件对中的每一对中首先被驱动的所述第一切换元件被配置成,相对于在所述冷却器的所述制冷剂通路中的制冷剂的流,不是布置在所述第二切换元件的下游侧。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的半导体模块,其中,

所述第一切换元件是由Si基材料构成的IGBT,并且所述第二切换元件是由宽带隙半导体材料构成的MOSFET。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社电装,未经株式会社电装许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710258431.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top