[发明专利]半导体封装件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201710101790.6 申请日: 2017-02-24
公开(公告)号: CN107275230A 公开(公告)日: 2017-10-20
发明(设计)人: 八甫谷明彦 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L23/31
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 周欣,陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体封装件,其具备:

基体,

半导体芯片,

小片接合粘接层,其含有多个导电粒子和树脂,设在所述基体与所述半导体芯片之间,

分子接合层,其设在所述基体及所述半导体芯片中的至少一方与所述小片接合粘接层之间;

所述分子接合层的至少一部分与所述小片接合粘接层的所述树脂化学键合;

所述分子接合层的至少一部分与含在所述基体中的第1原料及含在所述半导体芯片中的第2原料中的至少一方化学键合。

2.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述分子接合层包含与所述小片接合粘接层的所述树脂和所述基体的所述第1原料双方共价键合的分子接合体、及与所述小片接合粘接层的所述树脂和所述半导体芯片的所述第2原料双方共价键合的分子接合体中的至少一方。

3.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述分子接合层的至少一部分与所述小片接合粘接层的所述多个导电粒子中所含的至少1个导电粒子化学键合。

4.根据权利要求3所述的半导体封装件,其中,

所述分子接合层包含与所述小片接合粘接层的所述多个导电粒子中所含的1个导电粒子和所述基体的所述第1原料双方共价键合的分子接合体、及与所述小片接合粘接层的所述多个导电粒子中所含的1个导电粒子和所述半导体芯片的所述第2原料双方共价键合的分子接合体中的至少一方。

5.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述分子接合层包含:第1分子接合层,其设在所述基体与所述小片接合粘接层之间,与所述基体和所述小片接合粘接层双方化学键合;第2分子接合层,其设在所述半导体芯片与所述小片接合粘接层之间,与所述半导体芯片和所述小片接合粘接层双方化学键合。

6.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述分子接合层含有三嗪二硫醇残基。

7.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述基体具有面向所述小片接合粘接层的第1区域;

所述半导体芯片具有面向所述小片接合粘接层的第2区域;

所述分子接合层相对于所述第1区域或所述第2区域的被覆密度为20%以上且80%以下。

8.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述分子接合层的至少一部分为单分子膜状。

9.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述多个导电粒子为Ag、Cu、Ni、Au的粒子或它们混合而成的粒子。

10.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述树脂为丙烯酸树脂、环氧树脂、有机硅树脂、酚醛树脂、亚胺树脂、酰胺树脂或弹性体。

11.根据权利要求1所述的半导体封装件,其中,

所述小片接合粘接层为含有所述多个导电粒子和所述树脂的导电性浆料的固化物;

所述多个导电粒子相对于所述小片接合粘接层的全体质量的含量为50~95质量%。

12.一种半导体封装件的制造方法,其中,

在基体及半导体芯片中的至少一方的表面上涂布分子接合剂,形成分子接合层;

通过将含有多个导电粒子和树脂的小片接合粘接层夹在所述基体与所述半导体芯片之间,使所述分子接合层的至少一部分与所述小片接合粘接层的所述树脂接触。

13.根据权利要求12所述的半导体封装件的制造方法,其中,

使所述分子接合层的至少一部分与所述小片接合粘接层的所述多个导电粒子中所含的至少1个导电粒子接触。

14.根据权利要求12所述的半导体封装件的制造方法,其中,

所述分子接合剂可与金属及树脂双方化学键合。

15.根据权利要求12所述的半导体封装件的制造方法,其中,

所述分子接合剂含有三嗪衍生物。

16.根据权利要求15所述的半导体封装件的制造方法,其中,

所述三嗪衍生物为用通式(C1)表示的化合物,

(C1)

式中,R表示烃基或也可以夹杂异种原子或官能团的烃基,X表示氢原子或烃基,Y表示烷氧基,Z表示也可以形成盐的硫醇基、氨基或叠氮基、或也可以夹杂异种原子或官能团的烃基,n1为1~3的整数,n2为1~2的整数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710101790.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top