[发明专利]采用模制中介层的晶圆级封装在审

专利信息
申请号: 201710002754.4 申请日: 2017-01-03
公开(公告)号: CN107946253A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 施信益 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L23/29 分类号: H01L23/29;H01L23/31;H01L21/56
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 代理人: 宋献涛
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 采用 中介 晶圆级 封装
【权利要求书】:

1.一种模制中介层,其特征在于,包含:

一第一模塑料层,具有一第一面及一相对在所述第一面的第二面;

一第一重分布层结构,设在所述第一面上;

一第二重分布层结构,设在所述第二面上;

多个金属插塞,埋设在所述第一模塑料层中,以电连接所述第一重分布层结构与所述第二重分布层结构;以及

一无源器件,埋设在所述第一模塑料层中,其中所述无源器件经由多个连接件电连接所述第一重分布层结构。

2.根据权利要求1所述的模制中介层,其特征在于,所述多个金属插塞包含一虚设金属插塞。

3.根据权利要求1所述的模制中介层,其特征在于,多个连接件内埋在所述第一模塑料层中。

4.根据权利要求1所述的模制中介层,其特征在于,所述第一重分布层结构包含至少一第一介电层及至少一第一金属层。

5.根据权利要求4所述的模制中介层,其特征在于,所述第一介电层包含一有机材料或一无机材料。

6.根据权利要求5所述的模制中介层,其特征在于,所述有机材料包含聚亚酰胺。

7.根据权利要求5所述的模制中介层,其特征在于,所述无机材料包含氮化硅或氧化硅。

8.根据权利要求4所述的模制中介层,其特征在于,所述第一介电层直接接触所述第一模塑料层。

9.根据权利要求1所述的模制中介层,其特征在于,所述第二重分布层结构包含一第二介电层及一第二金属层。

10.根据权利要求9所述的模制中介层,其特征在于,另包含一防焊层,设在所述第二重分布层结构上。

11.根据权利要求9所述的模制中介层,其特征在于,另包含多个锡球,设在所述第二重分布层结构上。

12.根据权利要求1所述的模制中介层,其特征在于,所述第一模塑料层的厚度大于所述无源器件的厚度。

13.一种半导体封装,包含:

一如权利要求1所述的模制中介层;以及

至少一半导体芯片,设置在所述模制中介层的所述第一重分布层结构上。

14.根据权利要求13所述的半导体封装,其中所述半导体芯片被一第二模塑料层模封包覆。

15.根据权利要求13所述的半导体封装,其中所述第一模塑料层与所述第二模塑料层具有不同组成。

16.一种制造半导体封装的方法,包含:

提供一第一载板;

在所述第一载板上形成一第一重分布层结构;

在所述第一重分布层结构上形成一模板层;

在所述模板层中形成多个导孔;

分别在所述多个导孔中形成金属插塞;

移除所述模板层;

在所述第一重分布层结构上设置一无源器件;

将所述无源器件与所述些金属插塞模封包覆在一第一模塑料层中;

抛光所述第一模塑料层,显露出所述金属插塞;

在所述第一模塑料层上形成一第二重分布层结构;

在所述第二重分布层结构上形成多个锡球;以及

在所述第一重分布层结构上设置一半导体芯片。

17.根据权利要求16所述的制造半导体封装的方法,其特征在于,另包含:

将所述半导体芯片以一第二模塑料层模封包覆。

18.根据权利要求17所述的制造半导体封装的方法,其特征在于,另包含:

在一温度低于所述第一模塑料层的玻璃转化温度下,固化所述第二模塑料层。

19.根据权利要求17所述的制造半导体封装的方法,其特征在于,在所述第一重分布层结构上设置所述半导体芯片之前,且在所述第二重分布层结构上形成所述多个锡球之后,所述方法另包含:

移除所述第一载板,如此形成一晶圆级模制中介层;以及

将所述晶圆级模制中介层贴合至一第二载板,其中所述多个锡球直接接触所述第二载板。

20.根据权利要求16所述的制造半导体封装的方法,其特征在于,所述模板层是一光刻胶层。

21.根据权利要求17所述的制造半导体封装的方法,其特征在于,所述无源器件包含一电容、一电阻或一电感。

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