[发明专利]低成本微凸点的制备工艺在审

专利信息
申请号: 201510307304.7 申请日: 2015-06-05
公开(公告)号: CN104900548A 公开(公告)日: 2015-09-09
发明(设计)人: 何洪文;曹立强 申请(专利权)人: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L21/64 分类号: H01L21/64;H01L21/60;H01L23/488
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良;刘海
地址: 214135 江苏省无锡市新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 低成本 微凸点 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种低成本微凸点的制备工艺,其特征是,包括以下工艺步骤:

(1)在晶圆(1)表面电镀Ti/Cu种子层(2);

(2)在Ti/Cu种子层(2)表面制备光刻胶(3);

(3)对光刻胶(3)进行曝光显影,制得所需的图形开口(4),图形开口(4)的形状、分布与所需制备的铜焊盘的形状、分布一致;

(4)在光刻胶(3)的图形开口(4)中制作铜焊盘(5);

(5)去除光刻胶(3),保留铜焊盘(5);

(6)在晶圆(1)的边缘和中间添加挡板(6),将晶圆(1)的表面分隔成若干区域;

(7)将钎料和环氧树脂或硅胶材料均匀混合形成的混合材料(7)填充到挡板(6)分隔成的晶圆(1)表面的各个区域中;混合材料(7)中钎料与环氧树脂或硅胶材料的体积比为1:50~1:100;

(8)通过加热,使得混合材料(7)中钎料在熔融状态下和环氧树脂或硅胶材料分离,加热分离过程中钎料在铜焊盘(5)表面张力作用下沉积在铜焊盘(5)表面形成凸点(8);

(9)去除环氧树脂或硅胶材料;

(10)将挡板(6)移除,即得到所述的微凸点结构。

2.如权利要求1所述的低成本微凸点的制备工艺,其特征是:所述Ti/Cu种子层(2)的厚度为100~300nm。

3.如权利要求1所述的低成本微凸点的制备工艺,其特征是:所述步骤(8)中加热温度为200~300℃。

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