[发明专利]低成本微凸点的制备工艺在审
申请号: | 201510307304.7 | 申请日: | 2015-06-05 |
公开(公告)号: | CN104900548A | 公开(公告)日: | 2015-09-09 |
发明(设计)人: | 何洪文;曹立强 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L21/64 | 分类号: | H01L21/64;H01L21/60;H01L23/488 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;刘海 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种低成本微凸点的制备工艺,其特征是:将钎料和环氧树脂或硅胶等材料充分混合,制备成混合材料,然后直接在制备好的铜焊盘上涂覆。通过加热工艺,钎料会在熔融状态下与环氧树脂或硅胶等材料分离,沉积在铜焊盘上,形成凸点。然后通过化学腐蚀的方法去除环氧树脂或硅胶材料,得到所需要的微凸点。本发明最大的优势在于将钎料与环氧树脂或硅胶材料直接混合,直接涂覆在晶圆级铜焊盘表面,从而避开电镀工艺带来的高成本工序,有效的达到了节约成本的目的。而且,通过钎料与环氧树脂或硅胶的混合工艺,可制备不同成分的微凸点,甚至可添加微量元素形成特定需求的微凸点。微凸点的大小和间距取决于铜焊盘的尺寸和间距。 | ||
搜索关键词: | 低成本 微凸点 制备 工艺 | ||
【主权项】:
一种低成本微凸点的制备工艺,其特征是,包括以下工艺步骤:(1)在晶圆(1)表面电镀Ti/Cu种子层(2);(2)在Ti/Cu种子层(2)表面制备光刻胶(3);(3)对光刻胶(3)进行曝光显影,制得所需的图形开口(4),图形开口(4)的形状、分布与所需制备的铜焊盘的形状、分布一致;(4)在光刻胶(3)的图形开口(4)中制作铜焊盘(5);(5)去除光刻胶(3),保留铜焊盘(5);(6)在晶圆(1)的边缘和中间添加挡板(6),将晶圆(1)的表面分隔成若干区域;(7)将钎料和环氧树脂或硅胶材料均匀混合形成的混合材料(7)填充到挡板(6)分隔成的晶圆(1)表面的各个区域中;混合材料(7)中钎料与环氧树脂或硅胶材料的体积比为1:50~1:100;(8)通过加热,使得混合材料(7)中钎料在熔融状态下和环氧树脂或硅胶材料分离,加热分离过程中钎料在铜焊盘(5)表面张力作用下沉积在铜焊盘(5)表面形成凸点(8);(9)去除环氧树脂或硅胶材料;(10)将挡板(6)移除,即得到所述的微凸点结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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