[实用新型]一种应用于锗单晶生长的供气系统有效

专利信息
申请号: 201320735964.1 申请日: 2013-11-19
公开(公告)号: CN203613303U 公开(公告)日: 2014-05-28
发明(设计)人: 王霈文;冯德伸;左建龙 申请(专利权)人: 北京国晶辉红外光学科技有限公司
主分类号: C30B29/08 分类号: C30B29/08;C30B15/00
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘秀青
地址: 100088 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 应用于 锗单晶 生长 供气 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及供气系统技术领域,特别涉及一种应用于锗单晶生长的供气系统。

背景技术

在直拉法制备锗单晶过程中,需要向单晶炉内通入高纯氩气,以防止单晶氧化。如图1所示,在现有的工艺中,是采取每一台单晶炉1A分别连接一瓶高纯氩气的模式,在气瓶2A和单晶炉1A之间用手动球阀3A控制开关气路。这种连接方式具有连接简单、容易检查、维护的优点。但是随着产量的提高,需要更多的单晶炉,这种连接模式的缺点也显示出来,这些缺点主要有以下几点:

1、因为氩气瓶与单晶炉是一一对应关系,随着生产的扩大,单晶炉也越来越多,与之配套的气瓶也越来越多。氩气瓶是高压容器(12MPa),摆放有安全要求。若把氩气瓶摆放在单晶炉的旁边,不能实现集中摆放,就产生了安全隐患。

2、氩气瓶的最大压力是12MPa,当气瓶内氩气压力小于3MPa时,气体的纯度开始降低,不再适合用于拉晶,所以一瓶氩气的使用率只有75%。

3、氩气瓶的容积是40升,它储存的氩气量有限。在为大单晶炉供气时,只能保证两、三炉的正常使用。随着单晶炉的增多,增加了氩气瓶的换瓶次数,几乎每天都有单晶炉需要更换氩气瓶,增加了工作强度。

4、以往的氩气通气程序是:首先打开氩气瓶的开关和减压阀,再开启手动球阀,然后回到单晶炉前观察单晶炉上的气压表,当数值到达标准时,再回去关手动球阀、减压阀和氩气瓶开关,操作繁琐,不适合远程操作。并且操作人员、单晶炉距离高压容器较近,万一发生事故,损失巨大。

实用新型内容

鉴于上述问题,本实用新型的目的是提供一种应用于锗单晶生长的新型供气系统,其具有远程送气,远程控制,送气压力低,气体杂质低,工作强度低,安全、可靠的优点。

为实现上述目的,本实用新型采取以下技术方案:

一种应用于锗单晶生长的供气系统,它包括液氩气源,通过主管道与若干分管道相连通,该些分管道分别连接至单晶炉;

该主管道上设有用于控制液氩气源通断的总阀门;该些分管道上设有分阀门及减压表。

所述液氩气源为两个带独立阀门的液氩罐,均连接至所述主管道。

该液氩罐设有高压自动放气装置。

所述分阀门为电动球阀。

所述电动球阀和所述减压表的两侧各设有一个手动球阀。

本实用新型的有益效果是:本实用新型供气系统可实现远程控制给气,送气压力低,操作人员安全得到了保证,降低了工作强度,并且气体纯度高,气体的利用率高,提高了产品质量。

附图说明

图1是现有的供气系统的结构示意图。

图2是本实用新型供气系统的结构示意图。

具体实施方式

以下将以具体实施例结合附图来说明本实用新型的结构和所欲达到的技术效果,但所选用的实施例仅用于说明解释,并非用以限制本实用新型的范围。

如图2所示,本实用新型提供一种新型供气系统,用于向单晶炉1内通入高纯氩气。该供气系统包括液氩气源,通过主管道2与若干分管道3相连通,该些分管道3分别连接至单晶炉1。

该主管道2上设有用于控制液氩气源通断的总阀门4。该些分管道3上设有分阀门5及减压表6。该分阀门5优选为电动球阀,由单晶炉1的电控柜控制开关,可以实现远程控制。该电动球阀和该减压表的两侧各设有一个手动球阀7,用于手动控制。

本实用新型的液氩气源为两个带独立阀门的液氩罐8,均连接至该主管道2。液氩具有储存量大(一罐液氩相当于20瓶以上瓶装氩气),纯度高的优点,液氩罐的最大压力为1.5MPa,罐上还设有高压自动放气装置,使用安全性高。液氩罐通过不锈钢的主管道管道连接到单晶炉,可以实现远程低压送气。

在实际使用中,操作顺序如下:首先开启一个液氩罐后端的手动球阀,让它处于供气状态,球阀在整个生产周期内一直处于常开状态,不需要调整。关闭另一个液氩罐后端的手动球阀,让它处于备用状态,以利于随时替换正在使用的液氩罐。采用这种方式优点是更换液氩方便,不耽误生产。

其它的手动球阀和减压表处于常开状态,只是在特殊情况下才关闭,以防止氩气泄漏。这样整个送气管道内的氩气都为正压,即使管道出现微小泄漏,也不会有空气进入管道,影响生产。平时的操作,向单晶炉送气只由电动球阀远程控制。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京国晶辉红外光学科技有限公司,未经北京国晶辉红外光学科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320735964.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top