[发明专利]硅氧烷聚合物组合物、固化膜以及固化膜的形成方法

权利要求书

1.一种硅氧烷聚合物组合物，其包含：

[A]具有自由基反应性官能团的硅氧烷聚合物，

[B]自由基聚合引发剂，以及

[C]有机溶剂，

其中，固体成分浓度为5质量％以上30质量％以下，25℃时的粘度为2.0mPa·s以上、10mPa·s以下，

而且作为[C]有机溶剂至少包含(C1)20℃时的蒸气压是0.1mmHg以上、不足1mmHg的有机溶剂。

2.根据权利要求1所记载的硅氧烷聚合物组合物，其中[A]硅氧烷聚合物是水解性硅烷化合物的水解缩合物，

上述水解性硅烷化合物至少包含(a1)下述式(1)所示的水解性硅烷化合物和(a2)下述式(2)所示的水解性硅烷化合物，

式(1)中，R¹是碳原子数为1～6的烷基，R²是含有自由基反应性官能团的有机基团，p是1～3的整数，其中，R¹和R²为多个时，多个R¹和R²各自独立；

式(2)中，R³是碳原子数为1～6的烷基，R⁴是氢原子、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为1～20的氟代烷基、苯基、萘基、环氧基、氨基或异氰酸酯基，n是0～20的整数，q是0～3的整数，其中，R³和R⁴为多个时，多个R³和R⁴各自独立。

3.根据权利要求1所记载的硅氧烷聚合物组合物，其中作为[C]有机溶剂进一步含有(C2)20℃时的蒸气压为1mmHg以上20mmHg以下的有机溶剂，(C2)有机溶剂的含量相对于(C1)有机溶剂和(C2)有机溶剂的总量，为10质量％以上50质量％以下。

4.根据权利要求1所记载的硅氧烷聚合物组合物，其中(C1)有机溶剂是由二乙二醇乙基甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二丙二醇二甲基醚、苯甲醇、二丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚构成的群组中选出的至少一种有机溶剂。

5.根据权利要求3或4所记载的硅氧烷聚合物组合物，其中(C2)有机溶剂是由二乙二醇二甲基醚、乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、乙二醇单丙基醚乙酸酯、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、环己酮、乙酸正丁酯、甲基异丁基酮、3-甲氧基丙酸甲酯构成的群组中选出的至少一种有机溶剂。

6.根据权利要求1～4任一项所记载的硅氧烷聚合物组合物，其中进一步含有[D]由含氟表面活性剂或有机硅类表面活性剂构成的群组中选出的一种以上的表面活性剂，[D]表面活性剂的含量相对于100质量份[A]硅氧烷聚合物，为0.01质量份以上2质量份以下。

7.根据权利要求1～4任一项所记载的硅氧烷聚合物组合物，其中进一步含有[E][A]硅氧烷聚合物以外的乙烯基不饱和化合物。

8.根据权利要求1～4任一项所记载的硅氧烷聚合物组合物，其中进一步含有[F]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。

9.根据权利要求1～4任一项所记载的硅氧烷聚合物组合物，该硅氧烷聚合物组合物用于作为显示元件或触摸屏使用的保护膜或作为层间绝缘膜的固化膜的形成。

10.使用权利要求1～9任一项所记载的硅氧烷聚合物组合物形成的固化膜。

11.一种固化膜的形成方法，该方法包括：

(1)边使喷出喷嘴和基板相对移动，边在基板上涂布权利要求1～9任一项所记载的硅氧烷聚合物组合物，形成涂膜的工序；

(2)对上述涂膜的至少一部分照射放射线的工序；

(3)将上述照射了放射线的涂膜显影的工序，以及

(4)加热上述显影的涂膜的工序。