[发明专利]固化方法和固化系统有效

专利信息
申请号: 201780007885.X 申请日: 2017-01-18
公开(公告)号: CN108495871B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 木下忍;藤盛良治 申请(专利权)人: 岩崎电气株式会社
主分类号: C08F2/54 分类号: C08F2/54;B41J2/01;C09D11/322
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 庞东成;崔立宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 通过光照射使不含有光聚合引发剂的光固化性树脂、或电子射线固化树脂固化。在不对光固化性树脂、或电子射线固化性树脂的聚合产生氧阻碍的特定氧浓度以下的气氛下,照射与光固化性树脂、或电子射线固化性树脂的光吸收特性对应的波长区域的紫外线使其发生高分子化,在对光固化性树脂、或电子射线固化性树脂照射紫外线而至少使表层发生高分子化后,照射电子射线使深部发生高分子化,使整体固化。
搜索关键词: 固化 方法 系统
【主权项】:
1.一种固化方法,其为光固化性树脂、或电子射线固化性树脂的固化方法,其特征在于,对于不含有光聚合引发剂的所述光固化性树脂、或所述电子射线固化性树脂,在氧浓度为特定氧浓度以下的气氛下,照射与所述光固化性树脂、或所述电子射线固化性树脂的光吸收特性对应的波长区域的紫外线,使其发生高分子化,所述特定氧浓度是不对所述光固化性树脂、或所述电子射线固化性树脂的聚合产生氧阻碍的氧浓度,在对所述光固化性树脂、或所述电子射线固化性树脂照射所述紫外线而至少使表层发生高分子化后,照射电子射线使深部发生高分子化,使整体固化。
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