[发明专利]布线基板的制造方法以及布线基板的设计方法有效
申请号: | 201010292721.6 | 申请日: | 2010-09-20 |
公开(公告)号: | CN102036482A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 须和田诚 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/46;H05K1/02;H05K1/03 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 布线 制造 方法 以及 设计 | ||
1.一种制造布线基板的方法,该方法包括以下步骤:
在包括第一玻璃纤维布的第一绝缘层上形成导电层;
在该导电层上形成光致抗蚀剂层;
识别第一绝缘层上的第一原点位置;
按照相对于该第一原点位置来定位的方式在该光致抗蚀剂层上形成掩模,该掩模的形成使得将布线图案仅定位在平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上;以及
经由该掩模来对该光致抗蚀剂层进行曝光,仅在平面图中与该第一玻璃纤维布交叠的位置上形成该布线图案。
2.根据权利要求1所述的方法,该方法还包括以下步骤:
层叠包括第二玻璃纤维布的第二绝缘层,从而覆盖第一绝缘层上的所述布线图案,其中
所述层叠第二绝缘层的步骤包括以下处理:识别第一绝缘层上的第一原点位置和第二绝缘层上的第二原点位置;以及将第二绝缘层层叠在第一绝缘层上,使得第二绝缘层的第二原点位置与第一绝缘层的第一原点位置相一致,并且
对光致抗蚀剂层进行曝光并形成布线图案的步骤包括以下处理:仅在与第一绝缘层中包括的第一玻璃纤维布以及第二绝缘层中包括的第二玻璃纤维布二者都交叠的位置上形成所述布线图案。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,
识别第一原点位置的步骤包括以下处理:通过向第一绝缘层照射X射线来识别第一原点位置。
4.根据权利要求2所述的方法,其中,
层叠第二绝缘层的步骤包括以下处理:通过向第一绝缘层和第二绝缘层照射X射线来识别第一原点位置和第二原点位置。
5.根据权利要求1所述的方法,该方法还包括以下步骤:
测量第一玻璃纤维布相对于第一绝缘层中的第一原点位置的位置的坐标,并且基于该坐标来识别第一玻璃纤维布的区域,其中,测量坐标的步骤是在形成导电层的步骤之前执行的;
获取与所述布线图案相对于第一原点位置所处的位置有关的设计信息;以及
基于在测量坐标的步骤中识别的第一玻璃纤维布的所述区域以及在获取与所述布线图案所处的位置有关的设计信息的步骤中获取的所述设计信息,来确定是否能够仅在所述平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上形成所述布线图案。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,
测量坐标的步骤包括通过以下操作来识别第一玻璃纤维布的所述区域的处理:通过向第一绝缘层上照射X射线来对第一玻璃纤维布进行图像识别,并且测量第一玻璃纤维布中的所有交点的坐标。
7.根据权利要求5所述的方法,其中,
确定是否能够仅在平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上形成所述布线图案的步骤包括以下处理:如果确定为不能够仅在所述平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上形成所述布线图案,则修正所述设计信息的一部分,使得能够仅在平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上形成所述布线图案,并且基于修正后的设计信息来制造在光致抗蚀剂层上形成掩模的步骤中以及对光致抗蚀剂层进行曝光并形成布线图案的步骤中使用的所述掩模。
8.根据权利要求5所述的方法,其中,
如果确定为能够仅在平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上形成所述布线图案,则执行形成导电层的步骤、形成光致抗蚀剂层的步骤、识别第一原点位置的步骤、在光致抗蚀剂层上形成掩模的步骤,以及对光致抗蚀剂层进行曝光并形成布线图案的步骤。
9.根据权利要求5所述的方法,该方法还包括以下步骤:
确定是否能够通过在不改变平行布线图案之间的间距的情况下移动该平行布线图案,而仅在平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上形成所述布线图案,该确定步骤是基于在测量坐标的步骤中识别的第一玻璃纤维布的所述区域以及在获取与所述布线图案所处的位置有关的设计信息的步骤中获取的所述设计信息来进行的,
当所述布线图案包括用来传输差分信号的平行布线图案并且确定为不能够仅在平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上形成所述布线图案时,执行所述确定是否能够通过在不改变平行布线图案之间的间距的情况下移动该平行布线图案,而仅在平面图中与第一玻璃纤维布交叠的位置上形成所述布线图案的步骤。
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