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- [实用新型]一种新型制靶装置-CN201520538418.8有效
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周道怀;汪奇;陶道昌
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安徽今上显示玻璃有限公司
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2015-07-23
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2015-11-11
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C23C14/34
- 本实用新型公开了一种新型制靶装置,它包括一均热盘,所述均热盘内水平等距的预设有加热孔道;至少一加热管,每一所述加热管对应安装于所述加热孔道内;一铜背板,所述铜背板设置于所述均热盘的上表面。本实用新型的新型制靶装置,它改进了现有技术中的缺陷,可用于ITO镀膜行业的ITO硅靶、铌靶以及其他一切金属靶的邦定,加热快,加热均匀,温升平稳,能有效的提高靶材制作过程中邦定的质量,提高靶材的质量;而且由于铟在空气中易于氧化,使用本装置可以缩短整个制靶邦定的过程,从而有效的减少了靶材制作过程中稀有贵重金属铟的消耗,节约了成本。
- 一种新型装置
- [发明专利]非晶氧化铟锡薄膜的制备方法-CN201610242203.0在审
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马志锋;刘玉华;张莉
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宜昌南玻显示器件有限公司
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2016-04-19
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2016-08-10
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C23C14/35
- 本发明公开了一种非晶氧化铟锡薄膜的制备方法,包括如下步骤:提供衬底;以及将所述衬底置于磁控溅射设备腔体内,在真空条件下、以氢气的体积百分含量为1%~3%的氩氢混合气体为工艺气体,以氧化铟锡为靶材,控制所述衬底的温度为‑50℃~100℃,在所述衬底上磁控溅射沉积非晶氧化铟锡薄膜。这种非晶氧化铟锡薄膜的制备方法,采用常规结晶氧化铟锡膜所用的氧化铟锡靶材(氧化铟质量比为85%~93%),在氧化铟锡镀膜过程中以氢气的体积百分含量为1%~3%的氩氢混合气体为工艺气体,氢气具有良好的分散性从而利于均匀分布,无须增加昂贵的检测设备监控水分压,制得的非晶氧化铟锡薄膜的优良稳定性。
- 氧化薄膜制备方法
- [实用新型]一种ITO废靶的连续回收装置-CN201920988250.9有效
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王育林
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韶关市凯迪技术开发有限公司
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2019-06-28
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2020-04-10
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B65G33/14
- 本实用新型涉及ITO废靶材的回收利用设备技术领域,公开了一种ITO废靶的连续回收装置,包括炉体和设于所述炉体外侧壁上的感应线圈,所述炉体的侧壁上连接有向所述炉体进料的第一螺旋进料管,所述第一螺旋进料管上连接有向所述第一螺旋进料管进料的第二螺旋进料管、第三螺旋进料管,所述第二螺旋进料管上通过管道连通有炭仓,所述第三螺旋进料管上通过管道连通有回收靶材仓,所述第二螺旋进料管、第三螺旋进料管的进料速度比值为0.1至0.2。本实用新型的连续回收装置,通过将废靶材和炭粉进行高效的配比、混合,便于对ITO废靶材中的铟、锡进行连续还原反应回收,实现对靶材中铟的高效回收和利用。
- 一种ito连续回收装置
- [发明专利]一种靶材结构及其制作方法-CN202111027798.5有效
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温质康;乔小平;苏智昱
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福建华佳彩有限公司
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2021-09-02
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2023-06-16
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C23C14/35
- 本发明涉及一种靶材结构及其制作方法,所述靶材结构包括铜背板,铜背板上设有靶材,所述靶材分隔成若干块设在铜背板上,每块靶材与铜背板之间设有绑定金属层,所述绑定金属层由铜铟合金成型,若干块靶材之间形成靶材间隙,所述靶材间隙设有填充物。本发明通过在靶材间隙处设置填充物,该填充物在磁控溅射的环境中,不会被高能电子轰击出原子,其化学结构稳定,由于靶材间隙中的铜背板是直接裸露的,该方案在靶材间隙填充填充物物不仅可以阻挡高能电子直接轰击裸露的铜背板,阻挡溅射出来的铜原子污染靶材材料以及器件中的薄膜纯度,而且作为靶材之间的中间填充物,有利于综合靶材由于热胀冷缩而产生的向左右拉伸的应力,减少靶材开裂和变形的风险。
- 一种结构及其制作方法
- [发明专利]一种旋转靶材的绑定密封结构-CN202110605681.4在审
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雷雨;周志宏;肖世洪;周昭宇;汪政军;刘芳
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广州市尤特新材料有限公司
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2021-05-31
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2021-07-20
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C23C14/34
- 本发明涉及磁控溅射靶材制备技术领域,特别涉及一种旋转靶材的绑定密封结构。密封结构包括设在相邻两节靶管之间的间隙垫片,间隙垫片粘接上下两个靶管的端面,两节靶管外壁在该间隙处粘接一圈高温胶带,还包括粘接在高温胶带外周的导热金属片和围在金属片外的紧固层,金属片和紧固层一起通过卡箍固定在靶管外周该旋转靶材的绑定密封结构对多节靶管之间的间隙进行密封处理,减少间隙内的氧含量,使得金属铟在绑定过程中不容易在空气中氧化,提升铟与靶材/背管的贴合率。两节靶管外壁的高温胶带外还粘接了导热金属片,然后才在金属片外设置紧固层,该金属片为绑定密封结构提供支撑,以免靶管受热变型导致密封失效,增强了密封性能。
- 一种旋转绑定密封结构
- [实用新型]一种旋转靶材的绑定密封结构-CN202121203926.2有效
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雷雨;周志宏;肖世洪;周昭宇;汪政军;刘芳
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广州市尤特新材料有限公司
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2021-05-31
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2021-12-10
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C23C14/34
- 本实用新型涉及磁控溅射靶材制备技术领域,特别涉及一种旋转靶材的绑定密封结构。密封结构包括设在相邻两节靶管之间的间隙垫片,间隙垫片粘接上下两个靶管的端面,两节靶管外壁在该间隙处粘接一圈高温胶带,还包括粘接在高温胶带外周的导热金属片和围在金属片外的紧固层,金属片和紧固层一起通过卡箍固定在靶管外周该旋转靶材的绑定密封结构对多节靶管之间的间隙进行密封处理,减少间隙内的氧含量,使得金属铟在绑定过程中不容易在空气中氧化,提升铟与靶材/背管的贴合率。两节靶管外壁的高温胶带外还粘接了导热金属片,然后才在金属片外设置紧固层,该金属片为绑定密封结构提供支撑,以免靶管受热变型导致密封失效,增强了密封性能。
- 一种旋转绑定密封结构
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