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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]高速突发光接收机前端电路-CN201210063863.4有效
发明人：顾皋蔚;朱恩;林叶;单锡城;张海洋 -专利权人：东南大学
申请日： 2012-03-12 - 公布日： 2012-08-15 - 主分类号： H04Q11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种可工作在突发模式或连续模式的光接收机前端电路，包括：光电转换电路，将接收到的光信号转换为电流信号；增益可调的反相宽带跨阻放大器，将所述光电转换电路输出的弱电流信号放大为后级电路可以处理的电压信号；跟随电路，隔离后级电路对前述跨阻放大器输出的影响；快速响应的负峰检测电路，检测反相跨阻放大器的输出负峰值，此峰值与输入光功率峰值成线性关系；比较器，将前述负峰检测结果与预设值比较并放大，生成自动增益控制信号所述电路可以在极短的时间（<20ns）内完成增益调整与阈值提取，尤其适用于突发模式的光传输系统。
高速突发接收机前端电路

[发明专利]一种同种材料大视场小F数紧凑型紫外光学系统-CN202110615582.4有效
发明人：焦建超;郑国宪;俞越;苏云;粘伟;杨立欣;王超;刘剑锋 -专利权人：北京空间机电研究所
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G02B13/00 文献下载
摘要：本发明一种同种材料大视场小F数紧凑型紫外光学系统，属于光学系统设计技术领域，所述光学系统包括依次设置的第一负光焦度凸凹透镜、第二负光焦度凸凹透镜、第三负光焦度凸凹透镜、第一正光焦度双凸透镜、滤光片组件、光阑、正光焦度凹凸透镜、第二正光焦度双凸透镜、第一正光焦度凸凹透镜、第二负光焦度凸凹透镜。所有透镜的材料均为F_SILICA，滤光片的材料为石英。工作波段为250nm～270nm，全视场角为130°。
一种同种材料视场紧凑型紫外光学系统

[发明专利]光阻雾化处理设备及光阻雾化处理系统-CN201610889971.5有效
发明人：巫景铭 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2016-10-11 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G01N30/02 文献下载
摘要：本发明公开一种光阻雾化处理设备，其包括：操控座台、容置腔体、样品盒、进气管、紫外灯管以及吸附管；容置腔体设置于操作座台上；样品盒设置于容置腔体中，样品盒用于放置光阻样品；进气管由操作座台穿入容置腔体中，且进气管与样品盒连通，进气管用于将惰性气体通入样品盒中；紫外灯管设置于容置腔体的内表面上，紫外灯管用于对放置于样品盒中的光阻样品进行紫外光曝光；吸附管与样品盒连通，且吸附管穿出容置腔体，吸附管用于收集由惰性气体吹出的经紫外光曝光后的光阻样品的碎裂物本发明的光阻雾化处理设备能够对光阻材料进行雾化处理，从而便于光阻材料的雾化表现的评估，以筛选出优质光阻材料，减少因光阻材料导致的损失。
雾化处理设备系统

[发明专利]微影图案化方法-CN201710638389.6在审
发明人：王筱姗;刘朕与;张庆裕;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-07-31 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种微影图案化的方法，包括形成材料层于基板上，其中材料层可溶于溶剂中；形成阻挡层于材料层上；以及形成光阻层于阻挡层上，其中光阻层包含光敏材料，且光敏材料溶于溶剂中。上述方法亦包含曝光光阻层；以及在显影剂中显影光阻层。
光阻层微影图案化光敏材料材料层阻挡层溶剂形成材料曝光光显影剂基板可溶显影阻层

[发明专利]显示装置及其显示面板、阵列基板-CN202210333972.7在审
发明人：唐榕;郑浩旋 -专利权人：绵阳惠科光电科技有限公司;惠科股份有限公司
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本申请提供一种显示装置及其显示面板、阵列基板，阵列基板包括：有源层；阻光隔热层，设置于有源层的一侧，用于对有源层进行阻光隔热；其中，阻光隔热层包括吸光材料和反光材料；吸光材料形成挡光基体，反光材料分散于挡光基体内本申请通过吸光材料形成的挡光基体吸收背光模块发出的背光，通过分散于挡光基体内的反光材料对背光模块发出的背光进行反射，以实现阻光隔热层阻隔背光模块发出的背光，通过阻光隔热层可以阻隔背光，进而避免有源层生成光生载流子，还可以解决阵列基板由于光照存在温度升高的问题，进而提高应用阻光隔热层的显示面板的产品品质，避免显示面板出现串扰、残像的问题。
显示装置及其显示面板阵列

[发明专利]一种光阻供应系统-CN202110117648.7在审
发明人：潘浩吉;顾飞;吴越豪 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-01-28 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种光阻供应系统，包括光阻瓶、瓶口接头、插管、监测装置，所述插管穿过所述瓶口接头伸入所述光阻瓶内，且所述插管的H可调节，所述H为所述插管的底端相对于所述光阻瓶的底部的最大高度，所述监测装置用于监测所述可见，本发明通过设置监测装置实现对插管高度调节的实时监测，并发出对应的信号指示，以提示工作人员及时准确地调节插管高度，从而增加光阻单瓶利用率，避免光阻浪费，减少生产成本，另外，还可以避免出现插管负压引起的机台报警情况
一种供应系统

[发明专利]半导体器件的制备方法-CN202011229183.6在审
发明人：夏军;白世杰 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-11-06 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体器件的制备方法，如下步骤：提供衬底，于所述衬底上形成具有多个第一窗口的掩膜层；形成介质层，介质层至少覆盖第一窗口的侧壁；形成第一光阻材料层，第一光阻材料层覆盖介质层及掩膜层，且填充第一窗口；图形化第一光阻材料层，形成具有图案的第一光阻层，暴露出介质层的顶面；以第一光阻层及掩膜层为掩膜，去除介质层，形成第二窗口；沿第二窗口去除所述衬底，形成图形化的衬底。本发明优点是，第一光阻材料层的材料特性使得在第一光阻材料层被图形化的过程中，第一光阻材料层需要被保留的部分并未破坏，衬底表面并未被暴露，则在后续形成图形化的衬底的过程中，衬底并未被损坏，大大提高了半导体器件的良率
半导体器件制备方法

[发明专利]面板阳极修复方法-CN202111506584.6在审
发明人：邵鑫 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2021-12-10 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：所述方法包括：提供一基板，该基板上形成有阳极材料层；在阳极材料层上形成光阻层；对阳极材料层进行处理；对光阻层进行刻蚀处理，以暴露处理后的阳极材料层，通过在阳极材料层上形成光阻层，隔着光阻层对阳极材料层进行处理，然后对光阻层进行刻蚀处理，以暴露处理后的阳极材料层，利用光阻层阻挡对阳极材料层进行处理时产生的阳极碎屑，从而避免阳极碎屑粘在阳极材料层上难于清理，在对阳极材料层处理完之后，将光阻层刻蚀掉，连同阳极碎屑一起清理掉，最终消除了对阳极材料层处理所带来的副作用和风险，消除因阳极碎屑引起的面板暗点的风险。
面板阳极修复方法

[发明专利]制作用于形成光盘的母盘的方法-CN98108495.8无效
发明人：卢明道;安荣万;朴昌民 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1998-05-14 - 公布日： 2004-03-31 - 主分类号： G11B7/26 文献下载
摘要：一种用于制作用来形成光盘的母盘的方法，包括步骤：在一基片上形成SiO₂膜；在SiO₂膜上涂覆第一光阻材料层；根据凹槽和槽脊的形状对第一光阻材料层进行曝光；对SiO₂膜和第一光阻材料层进行蚀刻而在SiO₂膜上形成凹槽结构凹进部和槽脊结构凸起部；在SiO₂膜上涂覆第二光阻材料层以形成该凹槽和该槽脊；根据已记录预定信息的凹坑的形状，对该光阻材料层进行曝光；对该光阻材料层进行蚀刻以在该凹坑槽和该槽脊上形成凹坑。
制作用于形成光盘母盘方法

[发明专利]半导体装置的制作方法-CN201710631901.4有效
发明人：王筱姗;吴承翰;张庆裕;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-07-28 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供一种材料组成与方法，其包含形成图案化光阻层于基板上，其中图案化光阻层具有第一线宽粗糙度。在多种实施例中，将处理材料涂布至图案化光阻层，其中处理材料的第一部份键结至图案化光阻层的表面。在一些实施例中，移除处理材料的第二部份(未键结至图案化光阻层表面)，以提供处理后的图案化光阻层，其中处理后的图案化光阻层具有第二线宽粗糙度，且第二线宽粗糙度小于第一线宽粗糙度。
半导体装置制作方法

[发明专利]彩色滤光片制造方法-CN200510035916.1无效
发明人：周景瑜 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;虹创科技股份有限公司
申请日： 2005-07-08 - 公布日： 2007-01-10 - 主分类号： G02B5/23 文献下载
摘要：本发明涉及一种彩色滤光片制造方法，其包括下列步骤：在透明基板上形成有机黑矩阵光阻层；通过光罩对该有机黑矩阵光阻层曝光显影去除不必要的有机黑矩阵光阻层；在该有机黑矩阵光阻层上形成正型光阻层并由背面进行曝光；显影该正型光阻层制得多个挡墙；通过喷墨法将墨水注入该挡墙之间；固化该墨水。
彩色滤光制造方法

[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置-CN201910032382.9在审
发明人：邱鑫茂;李宗祥;王进;刘耀;周敏;程浩;刘祖文 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-01-14 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：其中，所述显示基板包括衬底基板，显示基板还包括设置于衬底基板一侧的滤光层，滤光层内设置有多个阻光槽，每个阻光槽中设置有阻光条，阻光条用于阻挡显示基板的可视范围之外的光线。所述显示基板的制备方法包括：提供衬底基板，在衬底基板的一侧形成滤光层；对滤光层进行构图，在滤光层中形成多个阻光槽；在滤光层上覆盖阻光材料，使部分阻光材料填充入多个阻光槽，形成多个阻光条；去除滤光层中非阻光槽区域上所覆盖的阻光材料
显示基板滤光层阻光槽衬底基板显示装置阻光材料阻光显示屏内部集成度防窥制作覆盖可视去除填充制备阻挡

[发明专利]掩膜版及其制造方法、显示基板的制造方法-CN201910041254.0有效
发明人：熊强;周兴测;黎敏;曾娅;张手强;彭元鸿 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-01-16 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：该掩膜版用于采用曝光工艺以及负性光阻材料制备目标图案，目标图案具有指定拐角，掩膜版的制造方法包括：基于目标图案，确定初始开口区域的尺寸；确定开口拐角在目标面上的内缩尺寸，目标面为目标图案的制备平面；基于内缩尺寸对开口拐角进行调整本发明提供一种掩膜版，增大用于制备目标图案的负性光阻材料上的与目标开口区域的开口拐角对应位置的曝光量，减小目标图案在指定拐角处的内缩尺寸，改善目标图案在指定拐角处的内缩现象。
掩膜版及其制造方法显示

[发明专利]有源元件阵列基板及其制造方法-CN200810081743.0有效
发明人：陈士钦;王文铨 -专利权人：中华映管股份有限公司
申请日： 2008-03-07 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：本发明揭示一种有源元件阵列基板的制造方法，其包括下列步骤：提供基板与多重穿透式光掩模。于基板上依序形成第一金属材料层、栅绝缘材料层、沟道材料层、第二金属材料层与第一光阻层。借由多重穿透式光掩模对光阻层进行图案化以形成具有二种不同厚度的第一图案化光阻层。以第一图案化光阻层为罩幕依序进行第一移除制程与第二移除制程以形成栅极、栅绝缘层、沟道层与源极/漏极。移除第一图案化光阻层。于基板上形成保护层与第二图案化光阻层。进行第三移除制程以形成多个接触窗开口。于基板上形成像素电极材料层。剥离第二图案化光阻层以形成像素电极。
有源元件阵列及其制造方法

[发明专利]二甲基肼型安定剂及安定剂组合物-CN201210300527.7无效
发明人：苏清镒;李昆昌 -专利权人：奕益实业有限公司;高品有限公司
申请日： 2012-08-22 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： C08K5/3435 文献下载
摘要：本发明提供一种二甲基肼型安定剂，所述二甲基肼型安定剂能与其它添加剂如阻酚型抗氧化剂、磷酸酯类抗氧化剂、亚酯类抗氧化剂、苯并三唑光安定剂、受阻胺型光安定剂及萤光增白剂等形成安定剂组合物而添加于有机材料中，以做为有机材料的抗氧化剂、光安定剂或热稳定剂，以有效防止有机材料因受光和热引起的化学特性变化。
甲基安定组合

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