“负型光阻材料”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5349382个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]应用于集成电路的图案化的方法-CN03100364.8有效
发明人：钟维民 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2003-01-13 - 公布日： 2004-08-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种应用于集成电路的图案化的方法，此方法首先在一基底上形成一材料层，并且在材料层上形成图案化的一光阻层，其中此光阻层的厚度足够薄，而能克服微影工艺的限制。接着在光阻层表面形成一衬套层，其中此衬套层的高度为其位于光阻层侧壁的厚度。之后对衬套层进行一处理步骤，以移除位于光阻层侧壁的衬套层。然后进行一蚀刻工艺，以图案化材料层。在本发明中，由于光阻层的厚度足够薄，因而可以克服微影工艺的限制，再加上图案化材料层时是利用衬套层作为蚀刻罩幕，而并非使用光阻层来作为蚀刻罩幕，因此仍可以使材料层顺利的被图案化。
应用于集成电路图案方法

[发明专利]阵列基板及其制备方法-CN201711461556.0有效
发明人：欧甜;徐洪远 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明提供一种阵列基板及其制备方法，所述制备方法包括步骤：在薄膜晶体管层上沉积钝化材料层，所述钝化材料层包括交替设置的第一膜层和第二膜层，所述钝化材料层的顶层为所述第二膜层，所述第一膜层与所述第二膜层的材质不同；以光阻层为掩模，对所述钝化材料层进行刻蚀，直至刻蚀至露出所述第一膜层，形成与所述光阻层对应的图案结构；在所述光阻层及暴露的所述第一膜层上沉积ITO薄膜；将所述光阻层剥离，获得阵列基板。由于不同材料的刻蚀速率不同，从而可以在间隔物的边缘与光阻的边缘形成较大的间隔，使得剥离液能够更好的对光阻进行剥离，提升剥离效率和剥离均一性，降低光阻残留的概率。
钝化材料层第一膜层光阻层阵列基板剥离刻蚀膜层制备光阻沉积薄膜晶体管层边缘形成交替设置图案结构剥离液间隔物均一性顶层掩模残留暴露概率

[发明专利]半导体结构及其制备方法-CN202210336009.4有效
发明人：孟娟;许春龙;杨宗凯;陈信全;李波 -专利权人：晶芯成（北京）科技有限公司;合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2022-04-01 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/8238 文献下载
摘要：本发明提供了一种半导体结构及其制备方法，所述半导体结构的制备方法包括：提供一衬底；提供第一光阻层，以第一光阻层为掩膜对衬底进行刻蚀和填充，形成多个浅沟槽隔离结构；未用光罩对衬底进行P型离子注入，形成无光罩P型阱；提供第二光阻层，以第二光阻层为掩膜进行N型离子注入，形成多个间隔分布的中压晶体管N型区域以及位于每个中压晶体管N型区域下方的深N型阱区；提供第三光阻层，以第三光阻层为掩膜进行P型离子和N型离子注入，形成多个中压晶体管P型区域以及位于每个中压晶体管P型区域下方的深N型阱区；对衬底进行高温退火，使得深N型阱区连接在一起。本发明的半导体结构的制备方法可以节省使用的光罩数量，缩短工艺周期。
半导体结构及其制备方法

[发明专利]二甲基肼型稳定剂及稳定剂组合物-CN201310016304.2有效
发明人：苏清镒;李昆昌 -专利权人：奕益实业有限公司;高品有限公司
申请日： 2013-01-16 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： C08K5/26 文献下载
摘要：本发明提供一种二甲基肼型稳定剂，所述二甲基肼型稳定剂能与其它添加剂如阻酚型抗氧化剂、磷酸酯类抗氧化剂、亚酯类抗氧化剂、苯并三唑光稳定剂、受阻胺型光稳定剂及荧光增白剂等形成稳定剂组合物而添加于有机材料中，以作为有机材料的抗氧化剂、光稳定剂或热稳定剂，以有效防止有机材料因受光和热引起的化学特性变化。
甲基稳定剂组合

[发明专利]用于浸润式微影制程的涂布材料以及浸润式微影的方法-CN200610152429.8有效
发明人：张庆裕 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2006-09-29 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明是有关一种涂布于光阻层上用于浸润式微影制程的涂布材料以及浸润式微影的方法。该涂布材料包含聚合物和酸，聚合物实质性不溶于浸润式流体，酸用以中和来自光阻层的碱性抑制剂(quencher)。一种浸润式微影的方法，包含：形成一光阻层在一基板上，该光阻层包含一碱性抑制剂；形成一涂布材料层在该光阻层上，其中该涂布材料层包含：一酸，以及一聚合物。本发明能有效的改善和避免水纹缺陷。
用于浸润式微影制程材料以及方法

[发明专利]制造网格图案型触控面板的方法-CN201010252112.8有效
发明人：陈栋南 -专利权人：牧东光电(苏州)有限公司
申请日： 2010-08-13 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明公开了一种制造网格图案型触控面板的方法，属于触控面板制程技术领域。本发明使用光阻技术对透明导电材料蚀刻形成网格图案非导电区域来降低蚀刻痕迹，减少蚀刻废液利于环保；再来电镀金属导电材料，在金属导电材料上贴光阻膜，曝光显影蚀刻形成金属走线，操作简单可以降低制造成本。
制造网格图案型触控面板方法

[发明专利]阻光基板及其制作方法、对盒工艺中阻隔UV光的方法-CN201210300073.3在审
发明人：陈小川;薛海林;车春城;王磊 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2012-08-22 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：发明公开了一种阻光基板及其制作方法，方法包括：在基板上设置阻光材料形成阻光层；使用光敏树脂板将转印层材料通过转印工艺在形成有阻光层的基板上转印形成具有光敏树脂板图形的转印层；对形成有转印层的基板进行刻蚀工艺本发明还公开了一种在对盒工艺中阻隔VU光的方法，包括：在对盒工艺中，将制作的阻光基板设置于LCD基板上方，所述阻光基板的阻光层阻止紫外光对LCD基板中显示区的照射。通过本发明，用转印板代替掩膜板制作阻光基板，能够降低液晶面板生产的成本。
阻光基板及其制作方法工艺阻隔 uv 方法

[发明专利]一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺-CN201910900741.8在审
发明人：易奎;牛建超;耿岳帅;张源松;郭成伟 -专利权人：河北叁迪光学科技有限公司
申请日： 2019-09-23 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种针对3D曲面车载屏的黄光技术工艺，包括以下步骤：对3D曲面车载屏进行清洁至水滴角小于十度；在3D曲面车载屏上喷涂负性光阻，形成光阻涂布层；软烘光阻涂布层，使之凝固在3D曲面车载屏上；将预设图案曝光在光阻涂布层上；对光阻涂布层进行显影处理；硬烤光阻涂布层，使之附着在3D曲面车载屏上。
一种针对曲面车载技术工艺

[发明专利]一种对准图形及其制作方法-CN201510094928.5有效
发明人：李兵;章国伟 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2015-03-03 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种对准图形及其制作方法，所述制作方法包括提供晶圆，所述晶圆表面上形成负光阻；进行第一曝光，以初步定义正常的凸块图形；选取位于所述晶圆的边缘的包含有效芯片数量不超过10个的若干区域为第二曝光区域，进行至少一次第二曝光，其中所述第二曝光位置与所述第一曝光位置至少错开二分之一所述负光阻已打开图形的距离；进行显影，其中在所述第二曝光区域的负光阻不会被显影去掉；形成凸块和位于所述第二曝光区域的无凸块区
一种对准图形及其制作方法

[实用新型]浸润式光阻涂布装置-CN201922183973.4有效
发明人：林刘恭 -专利权人：光群雷射科技股份有限公司
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型有关于一种浸润式光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，浸润式光阻涂布装置包括：一基座、装有光阻材料的一容器及一圆柱形滚轮。其中第一致动构件能使圆柱形滚轮与容器产生一相对位移，且在光阻材料以浸润式涂布于圆柱形滚轮后的状态下，第一致动构件能于容器中或容器外旋转圆柱形滚轮，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮上。本实用新型的浸润式光阻涂布装置，可使光阻材料涂布地更均匀且缩短制作时间。
浸润式光阻涂布装置

[发明专利]中心管式单护层非铠装全干型光纤复合光电缆的制作方法-CN201110350184.0无效
发明人：孙义兴;张腊生;谭会良;许建国;廖郑洪;李炳惠;张华;李涛;陈曲;谢河彬 -专利权人：成都亨通光通信有限公司
申请日： 2011-11-08 - 公布日： 2012-02-29 - 主分类号： H01B13/00 文献下载
摘要：一种中心管式单护层非铠装全干型光纤复合光电缆的制作方法，将全干式光单元(中心管式)、绝缘层包覆后的导线和填充绳等经过绞合后外包隔热带，缆芯间隙可以增加一些干式阻水物以保证缆芯圆整和阻水效果，最后再挤制一层外护套，导线绝缘层、填充物及外护层采用阻燃材料为PVC或LSZH。同时，光单元是中心管式光单元，采用松套管全干式结构，也就是套管内或者缆芯采用干式阻水材料来实现全截面防水挡潮的作用。
中心管式单护层非铠装全干型光纤复合电缆制作方法

[发明专利]层绞式单护层非铠装全干型光纤复合光电缆的制作方法-CN201110350187.4无效
发明人：孙义兴;张腊生;谭会良;许建国;廖郑洪;李炳惠;张华;李涛;陈曲;谢河彬 -专利权人：成都亨通光通信有限公司
申请日： 2011-11-08 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： H01B13/00 文献下载
摘要：一种层绞式单护层非铠装全干型光纤复合光电缆的制作方法，将全干式光单元(层绞式)、绝缘层包覆后的导线和填充绳等经过绞合后外包隔热带，缆芯间隙可以增加一些干式阻水物以保证缆芯圆整和阻水效果，最后再挤制一层外护套，导线绝缘层、填充物及外护层采用阻燃材料为PVC或LSZH。同时，光单元是层绞式光单元，采用松套管全干式结构，也就是套管内或者缆芯采用干式阻水材料来实现全截面防水挡潮的作用。
层绞式单护层非铠装全干型光纤复合电缆制作方法

[发明专利]纸基生物传感器图案的制作方法-CN201710709733.6在审
发明人：简秀纹 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2017-08-17 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： G01N27/327 文献下载
摘要：一种纸基生物传感器图案的制作方法，包括以下步骤：提供一纸张作为衬底；提供一疏水性光阻材料，将所述疏水性光阻材料涂覆在所述衬底上形成一涂层；对所述涂层进行曝光处理，使曝光区域的所述疏水性光阻材料变成亲水性结构，未曝光区域的所述疏水性光阻材料仍保持疏水结构，从而界定出所述纸基生物传感器的图案。
光阻材料疏水性生物传感器纸基图案衬底亲水性结构未曝光区域曝光处理曝光区域疏水结构界定涂覆制作

[发明专利]喷墨印头及其制造方法-CN200610099503.4无效
发明人：蔡尚颖;李致淳;江逊旌 -专利权人：国际联合科技股份有限公司
申请日： 2006-07-26 - 公布日： 2008-01-30 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：这些腔室位于致动器件上方，且腔室层的材料是一有机溶剂显影型的丙烯酸系负型光致抗蚀剂。此外，喷嘴层具有数个喷嘴，而这些喷嘴分别与上述腔室连通，且喷嘴层的材料为环氧基型或酰亚胺基型的负型光致抗蚀剂。
喷墨及其制造方法

[发明专利]感光树脂组合物及其制备方法与应用-CN202211365106.2有效
发明人：唐新颖;贾斌;赵云云;范树东;孙朝景;李涛 -专利权人：明士（北京）新材料开发有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明感光性树脂组合物，包括如下质量份的组分制成：聚酰亚胺前驱体30份；光致交联剂3~20份；光引发剂0.01~5份；无机填料60~77份；溶剂20~60份；黏合剂1~15份；阻聚剂0.001~1.0份本发明感光性树脂组合物的制备方法的步骤如下：将光致交联剂、光引发剂、溶剂、黏合剂、阻聚剂、硅烷偶联剂和热交联剂混合，得到混合溶液；向混合溶液中加入无机填料混合，得到无机物分散液；向无机物分散液加入聚酰亚胺前驱体混合本发明应用于制备碱性水系显影的负型感光性固态胶膜中。本发明降低了固化后的含有无机填料的负性聚酰亚胺薄膜的吸水率，提高了在半导体中的可靠性。
感光树脂组合及其制备方法应用