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[发明专利]制造金属线栅偏光片的方法-CN201711463609.2在审
发明人：侯俊 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2018-07-06 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：该方法包括：在基底上顺序地形成金属层、第一光阻层、无机层和第二光阻层；压印处理以形成第一光阻图案；形成无机层图案；形成第二光阻图案；形成金属线栅；以及去除无机层图案和第二光阻图案，从而得到金属线栅偏光片，其中，无机层由去除条件不同于第一光阻层和第二光阻层的材料形成。根据本发明的方法能够有效地防止光阻材料被蚀刻而造成的坍塌风险。
金属线栅光阻层无机层光阻图案偏光片去除蚀刻图案材料形成光阻材料金属层有效地基底压印制造坍塌

[发明专利]缩小制程的解析周期的方法-CN02140608.1无效
发明人：張慶裕;鍾維民 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2002-07-05 - 公布日： 2004-01-07 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明有关一种缩小制程宽度的方法，特别是有关一种缩小制程的解析周期的方法，该方法包括：利用一光罩在部分的底材上形成第一光阻层并在此第一光阻层的侧壁上形成第一材料层；配合制程的需求而在此时移除此第一光阻层，以在第一阶段制程在部分的底材上形成第一材料层；配合制程的需求进行第二阶段制程而在第一光阻层的侧壁上形成一第一材料层后，在部分的底材上并在第一材料层的侧壁上形成一第二光阻层；接下来移除第一光阻层，以在底材上形成一渠沟并在此渠沟的侧壁上形成一第二材料层；最后移除第二光阻层以在部分的底材上形成第一材料层与第二材料层的复合层并结束第二阶段制程。这样，第一材料层与第二材料层相互接触在一起。
缩小解析周期方法

[发明专利]一种电路基板及其制造方法-CN201610762685.2有效
发明人：林伟 -专利权人：南通富士通微电子股份有限公司
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： H01L21/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种电路基板及其制造方法，通过在载板上形成光阻层并对该光阻层进行图案处理形成光阻图案，在光阻图案内形成导电图案，进一步对光阻图案进行固化，以作为导电图案的塑封保护材料。通过上述方式，本发明的多层基板的制作过程中通过对光阻图案进行固化，使固化后的光阻图案作为导电图案的塑封保护材料，省去传统的去除光阻图案的步骤，简化了制造工艺，减少环境污染和水资源浪费。
一种路基及其制造方法

[发明专利]一种高导电率低反射率金属网格的制作方法及其制品-CN201510062665.X有效
发明人：林杰;侯则良;王维纲 -专利权人：福建省诺希科技园发展有限公司
申请日： 2015-02-06 - 公布日： 2018-01-26 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明提供一种高导电率低反射率金属网格的制作方法，采用涂布光阻层、压印、电浆蚀刻、镀金属网格材料、清洗的加工工艺，其光阻层厚度为20~60微米，光阻层为两层蚀刻速率不同的光阻层叠加而成，且，上层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率大于下层光阻层所选用的光阻材料的电浆蚀刻速率本发明不仅可加工出线宽低于40微米的金属网格，并且，适用于金、银、铜、铝等所有低电阻值金属材料的金属网格的制备。另外，本发明所制得的上宽下窄的金属网格具有反射率低、导电率高的特点。
一种导电反射率金属网格制作方法及其制品

[发明专利]一种光阻材料及其制备方法、彩膜基板-CN201911363495.3在审
发明人：艾琳 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： C07F3/06 文献下载
摘要：本申请公开了一种光阻材料及其制备方法、彩膜基板，光阻材料包括低聚物链段，其化学结构式为：一种材料及其制备方法彩膜基板

[发明专利]一种用于高速光接收器件的封装装置-CN201910764304.8有效
发明人：张旭;刘金锋;镇磊 -专利权人：深圳市极致兴通科技有限公司
申请日： 2019-08-19 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H04B10/60 文献下载
摘要：本发明提供一种用于高速光接收器件的封装装置，包括：壳体、C型瓷件、跨阻放大器和钨铜复合材料层，所述钨铜复合材料层设置于所述C型瓷件的下方，所述C型瓷件的一端设置有C型凹槽，所述C型凹槽的底部为用于放置所述跨阻放大器的跨阻放大器放置部，所述跨阻放大器放置部的旁边设置有信号线，所述信号线与所述跨阻放大器电连接，所述跨阻放大器放置部设置有散热过孔，所述C型瓷件设置于所述壳体的一端中。本发明预留了所述跨阻放大器的放置位置，且所述跨阻放大器放置部周边设置有信号线，进而能够直接与所述跨阻放大器连接，简化了整个器件结构，所述跨阻放大器能够直接贴装到壳体内部，节省了物料和贴片成本，结构稳定且可靠
一种用于高速接收器件封装装置

[发明专利]光阻成型设备及光阻成型方法-CN202210290770.9在审
发明人：尹红山 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种光阻成型设备及光阻成型方法，其中，光阻成型设备包括像素极板、喷洒装置以及控制装置。本申请的实施例通过像素极板上的各个像素电极吸附光阻液滴，使得光阻液滴按照其预设图案吸附在衬底上，无需曝光显影操作，简化了加工工艺，同时不会有光阻材料因为刻蚀显影而被浪费，提高了材料的利用率，在一定程度上克服了现有技术中存在的光阻成型工艺复杂且存在浪费的问题
成型设备方法

[发明专利]液晶面板及其光阻图案形成方法-CN201710064867.7在审
发明人：龚成波 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2017-02-05 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明提供了一种液晶面板及其光阻图案形成方法，该方法包括在基板上涂布光阻材料层；在所述光阻材料层上设置带有图案的遮挡层；对所述遮挡层进行光照，以在所述光阻材料层上形成光阻图案；其中，所述遮挡层上的局部位置图案的线宽大于其他位置图案的线宽相对于现有技术，本发明提供的液晶面板及其光阻图案形成方法，通过通过将面板上光阻材料层不同位置对应的遮挡层图案线宽设置为不同，具体为遮挡层的中部位置图案的线宽大于四周位置图案的线宽，以克服现有技术中由于整个基板上光阻材料层不同位置的溶剂残留量不同，还利用相同线宽的遮挡层进行光照而产生的最终形成光阻图案线宽存在差异的技术问题。
液晶面板及其图案形成方法

[发明专利]显示面板和显示面板的制备方法-CN202210530698.2在审
发明人：吴咏波 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种显示面板和显示面板的制备方法，该显示面板包括：半导体层，半导体层包括内建电场区域；光阻材料层，至少部分光阻材料层在半导体层的正投影区域位于内建电场区域内，其中，初始光线可穿过光阻材料层形成目标光线，目标光线可入射至内建电场区域；检测模块，检测模块与半导体层电连接，检测模块用于：检测内建电场区域产生的光生漏电流的大小，并根据光生漏电流的大小确定目标光线的光强值；根据目标光线的光强值，确定光阻材料层的透过率本申请通过内建电场区域产生的光生漏电流的变化来反应光阻材料层的透过率的变化，能够对光阻材料层特性的实时监控，提高产品的良率。
显示面板制备方法

[发明专利]一种显影型荧光粉体涂料及其制作阳极荧光粉体层的方法-CN200410037462.7无效
发明人：萧世坚;郑奎文;吴家宏 -专利权人：东元奈米应材股份有限公司
申请日： 2004-04-29 - 公布日： 2005-11-02 - 主分类号： C09D5/22 文献下载
摘要：本发明是关于一种显影型荧光粉体涂料及其制作阳极荧光粉体层的方法。该显影型荧光粉体涂料，包括：溶剂；水溶性树脂溶于溶剂中；光反应起始剂，具负型光阻特性，溶于溶剂中；荧光粉体，悬浮于溶剂中；及固着剂，可助荧光粉体在固着后附着于阳极构造上。该制作阳极荧光粉体层的方法，包括：以网印印刷将显影型荧光粉体涂料印制涂覆于阳极基板上；经低温预烤使涂覆层固化成膜；以激发光灯产生紫外光，配合光罩进行曝光，使欲图腾化区域光反应进行化学链接；进行显影及干燥程序本发明可简易网印涂布实施于阳极玻璃基板；可配合阳极导电层材料及制程特性调制涂料，增加荧光粉体对于阳极基板附着力；曝光显影制程可制作高解析精密图腾；制程简化，涂料成本低，适用于玻璃基板制作。
一种显影荧光粉涂料及其制作阳极方法

[发明专利]一种基于N型局部有源忆阻器的自治混沌电路-CN202010484312.X有效
发明人：梁燕;卢振洲 -专利权人：杭州电子科技大学
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H03K19/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于N型局部有源忆阻器的自治混沌电路，由一个N型局部有源忆阻器、一个电感L、一个直流电压源VD、一个正弦电压源vD型局部有源忆阻器是一种整体无源局部有源忆阻器，其在直流V‑I特性曲线中呈现N型负微分电导。通过对该具有特殊数学模型的N型局部有源忆阻器和电感构成的串联电路，施加合适的直流电压偏置和正弦驱动电压后，使局部有源忆阻器工作在负微分电导区域并使其产生混沌现象，填补了现有技术使用N型局部有源忆阻器组成自治混沌电路研究的空白
一种基于局部有源忆阻器自治混沌电路

[发明专利]薄膜晶体管基板、其制作方法及显示面板-CN201410847168.6有效
发明人：吴美玲;侯智元;郑新安;林洋钜 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2014-12-31 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：本发明的显示面板，将彩色滤光层制作于薄膜晶体管基板上，并利用正型光阻搭配负型光阻同时使用，以制得具有小尺寸接触孔的彩色滤光层，在有效降低显示面板厚度，减少由于对位偏差导致的漏光、透过率降低等不良的同时，
薄膜晶体管制作方法显示面板

[发明专利]触控模组及其制造方法-CN201810027315.3在审
发明人：唐根初;刘伟 -专利权人：南昌欧菲显示科技有限公司
申请日： 2018-01-11 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明的触控模组的制造方法包括：提供一基材，所述基材包括相背的正面及背面；在所述正面形成第一光阻层；在所述背面形成第二光阻层；对所述第一光阻层及所述第二光阻层进行曝光、显影以在所述第一光阻层及所述第二光阻层上分别形成第一凹槽及第二凹槽；在所述第一凹槽内填充导电材料以形成第一触控电极；及，在所述第二凹槽内填充导电材料以形成第二触控电极。本发明先在第一光阻层上形成第一凹槽，然后再将导电材料填充到第一凹槽内以形成第一触控电极；及先在第二光阻层上形成第二凹槽，然后再将导电材料填充到第二凹槽内以形成第二触控电极，从而节省了制作第一触控电极及第二触控电极所需要的导电材料
光阻层触控电极触控模组导电材料填充填充导电材料基材背面导电材料显影相背制造曝光制作

[实用新型]超导磁体模拟系统-CN201320724623.4有效
发明人：何清;周世平;金涛;王少荣;左文平;施啸寒 -专利权人：国家电网公司;国网湖北省电力公司电力科学研究院;华中科技大学
申请日： 2013-11-13 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： G01R31/00 文献下载
摘要：一种超导磁体模拟系统，用于替代电压源型PCS接口的SMES装置中的超导储能磁体，其特征是：由常规磁体（5）、负阻器（6）和可控电压源（7）串联构成，所述负阻器（6）用于抵消常规磁体（5）中的等效电阻，所述可控电压源本实用新型是针对电压源型功率调节系统（PCS）接口的SMES试验装置的一种超导储能磁体模拟系统。该模拟系统采用常规磁体及电力电子开关构成，不使用超导材料因而大幅降低成本；省掉了低温系统因而提高装置易用性，消除潜在危险源，同时减小意外发生时损失，加速恢复过程。
超导磁体模拟系统

[发明专利]一种掩模板及其制作方法-CN201811360960.3在审
发明人：叶小龙;黄执祥 -专利权人：深圳市龙图光电有限公司
申请日： 2018-11-15 - 公布日： 2019-03-19 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩模板及其制作方法，掩模板包括：基板和阻光层；阻光层铺设在基板上；阻光层上排布有多个透光通孔，所述透光通孔沿垂直于阻光层的方向贯穿阻光层，透光通孔的孔径a为：0.8um≤a≤4um。透光通孔的孔径小于对准式曝光系统的最小分辨率，进行曝光时，透过通孔的光线不再以直射的方式照射到产品原材料上，而是以光衍射的辐射能量的形式存在于产品原材料表面的感光材料内，从而起到改变阻光层的光学透过率的效果，阻光层的透过率可以改变为0(不透光)至100％(透光)间的任意值，使得阻光层的不同部位可以具有不同的光学透过率。
阻光层透光通孔掩模板产品原材料光学透过率基板感光材料最小分辨率辐射能量曝光系统不透光对准式光衍射透过率透光直射排布通孔制作照射垂直铺设曝光贯穿申请