专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]成膜用立式载板-CN202320953079.4有效
  • 盛忍;林宏俊;苏文章 - 理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2023-04-24 - 2023-10-20 - C23C16/458
  • 本实用新型提供一种成膜用立式载板。所述成膜用立式载板包括载板盘体,所述载板盘体上针对每片硅片设置一个承载区,每个承载区周边设置有多个限位件,每个限位件包括设置在所述载板盘体上的基座、设置在所述基座上的四叶形旋钮、设置成依次穿过所述四叶形旋钮以及基座的销轴,所述销轴与四叶形旋钮之间还设置有弹性件,固定件穿过载板盘体并连接至所述销轴的底部从而将限位件固定在所述载板盘体上,所述四叶形旋钮能沿销轴转动并通过其叶片进入或离开所述承载区而对应阻挡或不阻挡其承载的硅片。本实用新型能降低在载板中取放硅片时硅片的破损率,并能解决因载板变形导致的硅片卡住以及难以到位的问题。
  • 成膜用立式
  • [实用新型]磁控溅射阳极以及磁控溅射设备-CN202320875203.X有效
  • 徐升东 - 理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2023-04-18 - 2023-09-15 - C23C14/35
  • 本实用新型提供磁控溅射阳极以及磁控溅射设备。所述磁控溅射阳极与布气组件以及旋转阴极一并布置在磁控溅射设备的溅射腔中,所述磁控溅射阳极设置在所述溅射腔的盖板或底板与所述旋转阴极之间,并且构造成包覆所述旋转阴极并将其旋转轴及面向基片的溅射端露出的U形罩,所述U形罩底部开设有适于所述布气组件穿设的通槽,所述U形罩接收及限制所述布气组件提供的气体并且收集所述旋转阴极表面的靶材在溅射过程中产生的电子。本实用新型能提高磁控溅射阳极捕获电子的能力,减少电子逃逸以及电子达到基片上的概率,提高溅射稳定性。
  • 磁控溅射阳极以及设备
  • [发明专利]等离子体增强化学气相沉积设备-CN202310664937.8在审
  • 欧阳亮 - 理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2023-06-06 - 2023-08-04 - C23C16/509
  • 本发明提供等离子体增强化学气相沉积设备。所述等离子体增强化学气相沉积设备包括腔体、位于腔体外且用于产生激发等离子体的射频信号的射频电源、位于腔体内且位于进气口下方且用于均匀从进气口进入腔体的反应气体的布气板组件、位于布气板组件的下方且其底面为朝上凹陷的曲面的上电极、悬挂于所述上电极的下方的电介质层以及位于腔体底部且接地并与上电极相对设置的下电极;电介质层的顶面中部针对上电极凹陷的曲面设置有凸起,所述凸起使得上电极与电介质层之间的间距小于能够产生次生等离子体的预定间距。本发明能阻止在上电极与电介质层之间产生次生等离子体,从而保证等离子体在电介质层下方的等离子体腔体中产生。
  • 等离子体增强化学沉积设备
  • [实用新型]坐梯两用式载具-CN202320280954.7有效
  • 杨荣健;杨飞云;李朋;胡广迎 - 理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2023-02-21 - 2023-08-04 - A47C12/02
  • 本实用新型提供坐梯两用式载具。所述坐梯两用式载具包括通过铰链连接且层叠设置的第一部分以及第二部分,第一部分包括层叠设置且相互错开的第一台阶以及第二台阶,第二部分包括层叠设置且相互错开的第三台阶以及第四台阶,第三台阶与第二台阶及第一台阶共用第一侧腿架,第一侧腿架在第三台阶与第二台阶之间分为由所述铰链连接的上侧腿架与下侧腿架,随着上侧腿架沿着所述铰链翻转180度所述第三台阶与第四台阶倒置且分别叠放在第二台阶与第一台阶上,第三台阶的底板朝上成为座椅的椅面,并且第三台阶以及第四台阶共用的第二侧腿架成为座椅的椅背。本实用新型能减小占地面积且兼具座椅与梯子两项功能。
  • 两用式载具
  • [发明专利]磁控溅射阳极以及磁控溅射设备-CN202310417378.0在审
  • 徐升东 - 理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2023-04-18 - 2023-07-28 - C23C14/35
  • 本发明提供磁控溅射阳极以及磁控溅射设备。所述磁控溅射阳极与布气组件以及旋转阴极一并布置在磁控溅射设备的溅射腔中,所述磁控溅射阳极设置在所述溅射腔的盖板或底板与所述旋转阴极之间,并且构造成包覆所述旋转阴极并将其旋转轴及面向基片的溅射端露出的U形罩,所述U形罩底部开设有适于所述布气组件穿设的通槽,所述U形罩接收及限制所述布气组件提供的气体并且收集所述旋转阴极表面的靶材在溅射过程中产生的电子。本发明能提高磁控溅射阳极捕获电子的能力,减少电子逃逸以及电子达到基片上的概率,提高溅射稳定性。
  • 磁控溅射阳极以及设备
  • [发明专利]PVD设备以及PVD沉积方法-CN202310451910.0在审
  • 马哲国;张云飞;王宇宙;闫涛 - 理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2023-04-24 - 2023-07-28 - C23C14/35
  • 本发明提供PVD设备以及PVD沉积方法。所述PVD设备包括多个布置在溅射腔中的磁控溅射旋转阴极,所述磁控溅射旋转阴极包括靠近溅射腔入口的第一旋转阴极以及位于第一旋转阴极与溅射腔出口之间的多个第二旋转阴极,所述第一旋转阴极的直径为所述第二旋转阴极的直径的50%‑80%,所述第一旋转阴极的工作功率为所述第二旋转阴极的工作功率的50%‑60%,所述第一旋转阴极与所述第二旋转阴极具有相同的换耙周期。本发明能抑制换靶初期太阳能电池效率的降低,能提高成膜均匀性以及靶材利用率,能提高PVD设备的运行时间及换靶周期。
  • pvd设备以及沉积方法
  • [实用新型]双层机械手传输机构以及加载/卸载腔-CN202320242075.5有效
  • 刘彦斌;孙晓晟 - 理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
  • 2023-02-16 - 2023-07-14 - B65G47/90
  • 本实用新型提供双层机械手传输机构以及加载/卸载腔。所述双层机械手传输机构包括电机、并列的第一同步带组件、第二同步带组件、并列的第一导轨组件以及第二导轨组件,双层机械手包括并行设置在长方形框架的上下层上的上、下层机械手,长方形框架的上部两侧分别与第一同步带组件以及第二同步带组件相连接,其下部两侧分别与第一导轨组件的第一滑块以及第二导轨组件的第二滑块相连接,电机转动从而带动第一同步带、第二同步带、长方形框架、第一滑块以及第二滑块沿着第一导轨组件的第一导轨以及第二导轨组件的第二导轨水平移动,从而驱使双层机械手水平移动。本实用新型能增加传输机构的使用寿命,能降低设备成本以及加工及安装难度。
  • 双层机械手传输机构以及加载卸载

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