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[发明专利]溅射装置和溅射装置的维护方法-CN201480054423.X在审
发明人：梨木智刚;滨田明 -专利权人：日东电工株式会社
申请日： 2014-10-10 - 公布日： 2016-05-18 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：在溅射装置的靶材更换、阴极清扫过程中，能够两个人以上同时进行作业，无需高处作业且以靶材朝上的状态更换靶材。使阴极台车(19)移动而将靶材(17)和阴极(18)取出到真空槽(11)外。使阴极旋转机构(24)工作而以使靶材(17)朝上的方式使靶材(17)和阴极(18)旋转。使阴极滑动机构(25)工作而使高处的靶材(17)和阴极(18)向低处移动。将旧的靶材(17)从阴极(18)拆下来，并且将新的靶材(17)安装到阴极(18)。使靶材(17)和阴极(18)返回到原来的高度。使靶材(17)和阴极(18)沿着原来的方向返回。使靶材(17)和阴极(18)返回到真空槽(11)内。
溅射装置维护方法

[实用新型]一种脉冲离子源镀膜引出装置-CN202120855626.6有效
发明人：郭春刚;程国安;郑瑞廷 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2021-11-12 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种脉冲离子源镀膜引出装置，包括脉冲电极，阴极靶材和阳极；阳极包括阳极环；阴极靶材位于阳极环上方；阴极靶材中心线穿过阳极环的中心孔；阴极靶材与驱动电机传动连接，驱动阴极靶材向阳极环进给；阴极靶材的离子发射端外侧套设有脉冲电极，并且阴极靶材的裸露端伸出脉冲电极，阴极靶材与脉冲电极之间设置有绝缘；阳极环连接电源的正极，阴极靶材连接电源的负极或接地，脉冲电极连接脉冲电源。
一种脉冲离子源镀膜引出装置

[发明专利]一种脉冲离子源镀膜引出装置-CN202110446190.X有效
发明人：郭春刚;程国安;郑瑞廷 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2021-04-25 - 公布日： 2022-07-26 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明涉及一种脉冲离子源镀膜引出装置，包括脉冲电极，阴极靶材和阳极；阳极包括外筒体和内部的阳极环；阴极靶材与外筒体之间导通；所述阳极环与外筒体之间设置有绝缘材料；阴极靶材为柱状，插入外筒体内，并位于外筒体中的阳极环上方；阴极靶材中心线穿过阳极环的中心孔；阴极靶材与驱动电机传动连接，驱动阴极靶材向阳极环进给；阴极靶材的离子发射端外侧套设有脉冲电极，并且阴极靶材的裸露端伸出脉冲电极，阴极靶材与脉冲电极之间设置有绝缘套；阳极环连接电源的正极，阴极靶材连接电源的负极或接地，脉冲电极连接脉冲电源。
一种脉冲离子源镀膜引出装置

[实用新型]靶材清理结构及镀膜设备-CN202320184478.9有效
发明人：杨浩成;许文理;王永谦;陈刚 -专利权人：浙江爱旭太阳能科技有限公司;珠海富山爱旭太阳能科技有限公司;天津爱旭太阳能科技有限公司;广东爱旭科技有限公司
申请日： 2023-01-12 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型适用于光伏技术领域，具体提供一种靶材清理结构及镀膜设备，靶材清理结构包括：清理组件，具有与可旋转的阴极靶材的长度相适配的清理面；以及驱动组件，与清理组件连接，用于驱动清理组件带动清理面在贴近和远离阴极靶材之间移动本实用新型通过驱动组件与清理组件连接，驱动组件用于驱动清理组件带动清理面在贴近和远离阴极靶材之间移动，当清理组件贴近阴极靶材时，清理面可以贴在阴极靶材的表面，当阴极靶材转动时，由清理组件将吸附在阴极靶材上的硅片碎片清理下来，避免因破碎硅片搭接在阴极靶材和阳极档把上造成短路的情况，提高清理效率，进而缩短宕机维护耗时，提高生产效率，降低成本投入。
清理结构镀膜设备

[发明专利]离子束稳流装置及电弧离子镀设备-CN202310919927.4在审
发明人：廖斌;欧阳潇;陈琳;罗军;英敏菊;庞盼 -专利权人：北京师范大学
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开一种离子束稳流装置，包括弧电源、阴极组件以及触发组件，其中，弧电源的正极接地；阴极组件包括阴极靶材和靶材座，靶材座处还设置永磁体；触发组件包括触发电极、触发针和辅助阳极板。弧电源在靶材座和触发电极施加电压，使触发针与阴极靶材接触形成短路，瞬间形成电弧，在电弧中形成等离子体，电弧斑在阴极靶材表面移动；辅助阳极板接地，当电弧斑运动至阴极靶材边缘时，由于辅助阳极板的电位较阴极靶材的电位高，电弧斑返回阴极靶材中心，从而避免电弧斑落在阴极靶材的侧面而导致灭弧。
离子束装置电弧离子镀设备

[发明专利]一种具有双层屏蔽罩的阴极弧头-CN202011363720.6在审
发明人：廖斌;庞盼;王国梁;罗军;陈琳 -专利权人：廖斌;广东省广新离子束科技有限公司
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有双层屏蔽罩的阴极弧头，涉及离子束产生装置领域。该方案包括固定法兰盘、阴极靶材、触发电极、屏蔽系统、辅助阳极板，屏蔽系统包括第一屏蔽罩以及第二屏蔽罩，第一屏蔽罩与第二屏蔽罩均与阴极靶材同轴设置，且第一屏蔽罩与所述第二屏蔽罩均套于阴极靶材外并与阴极靶材之间保持间距设置双层屏蔽罩，对阴极靶材上的弧斑点形成更好的约束，使阴极靶材表面均匀烧蚀，提高阴极靶材的利用率，降低阴极靶材更换的频率，减少对生产的影响。
一种具有双层屏蔽阴极

[发明专利]一种离子源阴极结构及运用该阴极结构的离子束产生方法-CN202011358109.4在审
发明人：廖斌;庞盼;王国梁;罗军;陈琳 -专利权人：廖斌;广东省广新离子束科技有限公司
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： H01J27/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子源阴极结构及运用该阴极结构的离子束产生方法，涉及等离子源领域。该方案包括固定法兰盘、屏蔽套以及阴极靶材，固定法兰盘穿设有螺纹调节杆，螺纹调节杆的一端与阴极靶材连接并驱动阴极靶材沿螺纹调节杆的轴线方向移动，螺纹调节杆的另一端设置有调节部。提供一种离子源阴极结构以及离子束的产生方法，当阴极靶材发生一定的消耗后，通过调节部可带动螺纹调节杆旋转，而螺纹调节杆可带动阴极靶材移动，从而对阴极靶材与屏蔽套之间的相对位置进行调节，使阴极靶材的端面在消耗后能够调整到消耗前的位置，保持阴极靶材产生等离子体的稳定性保持经过离子加速电路加速后的离子束流强度的稳定性以及提高阴极靶材的有效利用率。
一种离子源阴极结构运用离子束产生方法

[发明专利]旋转异形靶阴极机构及磁控溅射镀膜装置-CN201310192574.9无效
发明人：刘国利;范振华 -专利权人：东莞宏威数码机械有限公司
申请日： 2013-05-22 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种旋转异形靶阴极机构，其靶管绕磁钢部件相对旋转，带动整个的靶材沿固定的磁场做持续旋转，因此，让所有的靶材表面都得到均匀的刻蚀，从而大大提高了阴极靶材的利用率，且靶材呈异形靶面结构，保证靶材的最终刻蚀厚度一致，进一步提高阴极靶材的利用率；由此延长了更换靶材的周期，提高了整条生产线连续溅射生产的产能；采用旋转阴极靶材设置，解决了平面阴极在连续镀膜中的掉渣及打弧问题，保持溅镀工艺稳定，提高镀膜质量；而磁钢部件相对于竖直方向偏离设置，使溅射到内壁的靶材较少，保持设备的高清洁度，且清洁维护简洁，且该旋转异形靶阴极机构的结构简单。本发明还公开一种具有旋转异形靶阴极机构的磁控溅射镀膜装置。
旋转异形阴极机构磁控溅射镀膜装置

[实用新型]一种双向镀膜磁控溅射装置-CN202023091225.2有效
发明人：郑佳毅 -专利权人：无锡爱尔华光电科技有限公司
申请日： 2020-12-21 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种双向镀膜磁控溅射装置，其可以提高镜像靶磁控溅射方法镀膜效率，同时提升有效产能。其包括：放置基材承载装置的成像位置、相对镜像设置的第一镜像阴极靶材、第二镜像阴极靶材，所述成像位置设置在所述第一镜像阴极靶材、所述第二镜像阴极靶材之间溅射粒子的运动路径上；其特征在于：在所述第一镜像阴极靶材、所述第二镜像阴极靶材之间的所述溅射粒子运动的两个方向都分别设置所述成像位置。
一种双向镀膜磁控溅射装置

[发明专利]一种平衡磁场溅射镀膜装置-CN201811576906.2在审
发明人：申屠江民;祝宇;龚阳 -专利权人：浙江莱宝科技有限公司
申请日： 2018-12-23 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种基于平衡磁场的溅射镀膜装置，包括水平设置的阴极靶材，所述阴极靶材为长方形板状结构，阴极靶材上方50‑100mm的范围内设有基片，阴极靶材下方设置有磁钢，所述磁钢包括磁钢座与磁极。通过磁钢的磁极间的作用，在阴极靶材上表面形成拱形磁场。在所述磁极下方设置有导磁块，所述导磁块可以使得磁场耦合于靶面上，提高镀膜效率与靶材的利用率。
阴极靶材磁极磁钢溅射镀膜装置平衡磁场导磁块长方形板状结构磁场耦合镀膜效率水平设置磁钢座上表面拱形靶材磁场

[实用新型]一种平衡磁场溅射镀膜装置-CN201822169154.X有效
发明人：申屠江民;祝宇;龚阳 -专利权人：浙江莱宝科技有限公司
申请日： 2018-12-23 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基于平衡磁场的溅射镀膜装置，包括水平设置的阴极靶材，所述阴极靶材为长方形板状结构，阴极靶材上方50‑100mm的范围内设有基片，阴极靶材下方设置有磁钢，所述磁钢包括磁钢座与磁极。通过磁钢的磁极间的作用，在阴极靶材上表面形成拱形磁场。在所述磁极下方设置有导磁块，所述导磁块可以使得磁场耦合于靶面上，提高镀膜效率与靶材的利用率。
阴极靶材磁极磁钢溅射镀膜装置平衡磁场导磁块长方形板状结构本实用新型磁场耦合镀膜效率水平设置磁钢座上表面拱形靶材磁场

[发明专利]一种磁控溅射阴极系统-CN202111285206.X在审
发明人：葛广含;胡述河;刘伟 -专利权人：信利（惠州）智能显示有限公司
申请日： 2021-11-01 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁控溅射阴极系统，包括平面靶材、阴极板和磁体单元，所述阴极板设置在所述平面靶材和所述磁体单元之间，所述平面靶材上消耗最快的部分在所述阴极板上的投影位置设置消磁单元，所述消磁单元和所述平面靶材之间存在间隙
一种磁控溅射阴极系统

[实用新型]一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极-CN202123387644.5有效
发明人：李成;汪建;杜寅昌;程厚义;赵巍胜;张悦 -专利权人：北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院）
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型的一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极，包括靶材安装座及靶材位于烟囱弹顶装置和磁轭冷却组件之间，烟囱弹顶装置安装在阴极屏蔽罩上，阴极屏蔽罩通过螺钉固定在磁轭冷却组件上。更换靶材时，利用磁控溅射设备自带的传样系统抓取靶材安装座边上的支耳，从阴极屏蔽罩侧边开口取出靶材安装座及其中的靶材后送至传样系统的腔室内；再利用传样系统将腔室内的新靶材安装座及其中的靶材送到原阴极屏蔽罩侧边开口，利用烟囱弹顶装置压紧靶材安装座的槽口，并且定位靶材安装座，使靶材安装座位于磁轭冷却组件正上方。该实用新型在不破坏主真空腔真空环境的情况下，实现快速换靶，大幅降低更换靶材的时间，也减少了主真空腔的污染。
一种具有快速更换磁控溅射阴极

[实用新型]溅射阴极装置-CN201420436010.5有效
发明人：卞楷周 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2014-08-04 - 公布日： 2015-01-07 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本公开提供了一种溅射阴极装置，用于向镀膜基板的表面进行溅射，其包括分离的多个阴极部件，每个阴极部件均包括阴极管及设置在该阴极管外周的至少一个平面靶材，所述多个阴极部件被布置成每个阴极部件的其中一个平面靶材朝向镀膜基板的表面本公开使用具有多个阴极部件的分割式阴极结构，每个阴极部件上可以安装有至少一个靶材，能够借助多个平面靶材同时对镀膜基板实施溅射，加快了镀膜速率和提高了靶材利用率。
溅射阴极装置

[实用新型]一种纳米弧源推进装置-CN202020182350.5有效
发明人：张建坡 -专利权人：超微中程纳米科技（苏州）有限公司
申请日： 2020-02-18 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种纳米弧源推进装置，包括安装基体，所述安装基体内设置有磁场源、阴极体和推进装置，所述阴极体包括带有作为阴极的靶材和用于固定靶材的靶材安装座，所述靶材安装座的两侧设置有滑轨，所述安装基体的内壁上设置有供所述滑轨滑动的凹槽，所述推进装置设置所述阴极体的一侧，所述推进装置推动所述阴极体在安装基体的凹槽内滑动。本实用新型的纳米弧源推进装置，通过设置推进装置带动靶材移动，改变靶材端面在磁场源内的相对位置，保证在电镀的过程中，靶材消耗后，靶材端面相对于磁场源的位置不发生改变，保证电镀效果的一致性。
一种纳米推进装置

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