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[发明专利]提高工艺片成膜均匀性的方法-CN201410174514.9有效
发明人：黄自强 -专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
申请日： 2014-04-28 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： H01L21/316 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高工艺片成膜均匀性的方法，其包括向热的氧化炉炉管内通入氮气；旋转工艺片承载舟，并从原始位置升舟至第一位置；保持旋转工艺片承载舟，对工艺片进行主氧化工艺；主氧化工艺完成后，保持旋转工艺片承载舟本发明通过升舟、降舟和主氧化工艺的过程中保持低速旋转工艺片承载舟，来减小温度场、气流场分布不均匀对工艺片成膜均匀性的影响，从而优化半导体立式炉设备中工艺片的成膜均匀性，同时降低了生产成本。
提高工艺片成膜均匀方法

[发明专利]一种提高成膜均匀性的方法-CN201310753169.X有效
发明人：林伟华;尹武力;兰天 -专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种提高工艺膜厚均匀性的方法，其在根据主工艺要求设定的工艺参数完成主工艺步骤后，继续保持与主工艺相同的温度和压力，进行仅通反应保护气体的退火稳定步骤，其中，退火稳定步骤气体流量和工艺时间，取决于退火稳定步骤完成后需达到的主工艺气体流量和时间因此,本发明通过在主工艺步骤后增加了退火工艺步骤，同时，通过分温区精确控制工艺过程中温度和气体流量而形成稳定温场和气流，提高了工艺硅片内/间的均匀性，该方法可行性强和重复性高，在不改变硬件条件下，对提高成膜质量效果显著
一种提高均匀方法

[发明专利]提高栅极绝缘层成膜均匀性的方法-CN201910234476.4有效
发明人：杨文龙 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2019-03-26 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： H01L21/283 文献下载
摘要：本发明提供一种提高栅极绝缘层成膜均匀性的方法，使用实验性设计(DOE)方法设计在CVD装置中沉积形成栅极绝缘层的多个测试实验，其中，每一个所述测试实验对应一个与所述栅极绝缘层成膜均匀性有关的相关工艺参数及该相关工艺参数的一组取值，然后执行所述多个测试实验，获取每一个相关工艺参数对栅极绝缘层成膜均匀性的影响趋势，找出影响栅极绝缘层成膜均匀性的关键工艺参数，最后综合分析相关工艺参数对栅极绝缘层成膜均匀性和非均匀性指数的影响，对于所述关键工艺参数进行调整性验证实验，以确定相关工艺参数的最优值，可使栅极绝缘层成膜均一性更佳，产品整体不均匀度降低。
提高栅极绝缘层成膜均匀方法

[实用新型]一种提高成膜均匀性的风刀-CN202220267014.X有效
发明人：肖平;李新连;赵志国;赵东明;张赟;夏渊;秦校军;李梦洁;丁坤 -专利权人：华能新能源股份有限公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
申请日： 2022-02-09 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： B05D3/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种提高成膜均匀性的风刀，包括风刀主体，所述风刀主体的两个侧面分别自风刀主体的上端面逐渐向内倾斜，并在风刀主体的下端面交汇连接；进风侧风刀构件，与风刀主体的朝向前进方向侧面连接，内部设置有进气储气槽本实用新型中的风刀引入吸风装置，配合特殊结构，可将吹扫的范围控制在非常窄的区域，精细控制吹扫风量，吹扫区域局部化控制，不会造成膜层前后的差异。
一种提高均匀

[发明专利]一种可调控高粘度流体成膜厚度及均匀性的装置-CN202210693854.7有效
发明人：李钒;路楠;侯海元 -专利权人：北京工业大学
申请日： 2022-06-19 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： B29C41/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种可调控高粘度流体成膜厚度及均匀性的装置，包括成膜盘、上连接杆、万向轴承、三角支架、下连接杆、磁摆、电磁铁、偏转轮和电机。本发明利用类似于地动仪的“悬垂摆原理”，在未通电时由于重力作用使成膜盘成水平状态；通电后通过轴承、连接杆以及电磁铁和磁摆的相互吸引作用使成膜盘与水平面成一定角度做倾斜圆周运动，保证了成膜的均匀性；通过调整偏转轮旋转速度可以控制成膜厚度；依据高粘度流体粘稠度的不同，通过调节电磁铁距偏转轮正中心的距离来调节成膜盘做倾斜圆周运动时与水平面所成角度，也能更好地调节成膜厚度以及均匀性问题。因此，解决了高粘度流体成膜厚度及均匀性不好调控的问题。
一种调控粘度流体厚度均匀装置

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201910316597.3在审
发明人：山口达也;新纳礼二;饭塚洋二 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供在对基板供给相互反应而成为膜物质的成膜气体、形成由膜物质构成的膜的成膜装置中，生产率高、且提高在基板形成的膜的膜厚的面内均匀性和面间均匀性的技术。另外，配置向旋转台吐出成膜气体的气体供给部，使其在旋转台旋转时与基板发生移动的移动区域相对，设置气体供给孔使其从旋转台的中心侧至周缘侧的范围与移动区域交叉。而且在移动区域中的互相重叠的区域同时供给第一成膜气体和第二成膜气体。因此，能够连续处理多个基板，因此生产率提高，并且在基板形成的膜的膜厚的面内均匀性和面间均匀性良好。
旋转台成膜气体基板移动区域面内均匀性成膜装置均匀性膜厚和面气体供给部气体供给孔处理容器多个基板发生移动互相重叠连续处理对基板旋转轴周缘侧成膜吐出加热配置

[发明专利]薄膜晶体管及其制作方法-CN201910117376.3有效
发明人：朱静 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-02-13 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：本发明提供一种薄膜晶体管，包括：依序层迭设置的一半导体衬底、一栅电极、一闸极绝缘层、一第一非晶硅膜层、一第二非晶硅膜层、一金属膜层、一钝化层、一透明导电膜，半导体衬底，包括一非电性成膜区与一电性成膜区，对应于所述非电性成膜区的所述第一非晶硅膜层一厚度小于对应于所述电性成膜区的所述第一非晶硅膜层一厚度，使非电性成膜区可作为电性成膜区利用，提升非电性成膜区的电性均匀度，来提升整个面板的电性的均匀性，减小非电性成膜区域的大小
薄膜晶体管及其制作方法

[发明专利]一种成膜设备和成膜方法-CN201910186076.0在审
发明人：林伟华;魏明蕊;刘科学;王玉霞 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2019-03-12 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜设备，包括反应腔室和第一进气管路，还包括吹扫管路、排气管路和尾气处理装置。本发明还提供一种采用该成膜设备进行成膜工艺的成膜方法，该方法在成膜工艺前，仅对第一进气管路进行吹扫；在成膜工艺后，对第一进气管路和反应腔室同时进行吹扫。上述成膜设备和成膜方法可以避免前一组被加工工件工艺时，管路中残留的工艺气体对本组被加工工件的成膜均匀性造成影响；还可以避免管路和反应腔室中残留的工艺气体对下一组被加工工件的成膜均匀性造成影响。从而可以保证不同批次处理中被加工工件的工艺结果一致，提高立式炉设备的成膜均匀性，达到DCE氧化工艺要求。
一种设备方法

[发明专利]成膜载板及太阳能电池的生产方法-CN200810239693.4有效
发明人：李永军 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2008-12-15 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： C23C16/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种成膜载板及太阳能电池的生产方法，成膜载板上开有多个通孔，分纵、横多排布置，将成膜载板分割成多个区域，每个区域可以放置成膜的基片。在成膜工艺中，工艺气体可以从成膜载板的四周及通孔中均匀通过，提高气体在成膜载板上方的均匀性，从而提高成膜的均匀性。
成膜载板太阳能电池生产方法

[发明专利]一种高成膜水性上光油-CN201910059837.6在审
发明人：雷飞;黄春妹;钱丽琴 -专利权人：雷飞
申请日： 2019-01-22 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： C09D151/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种高成膜水性上光油，属于印刷技术领域。本发明引入环氧基团使分散粒子尺寸变大，其粘度呈上升趋势，提高成膜的牢固度，使得涂膜耐冲击性能及成膜牢固度得以增强，进一步提高成膜牢固度。得到的油酸酰胺物质改性的含硅试剂增强了湿润分散效果，可提高在印刷物表面的均匀分散，降低了对薄膜的雾度，提高透明度光泽度及成膜结合效果。添加的漆酶形成新的自由基，进一步强化牢固成膜牢固性，配合表面活性物质及流平剂，提高流平性，使得本上光油便于均匀分散，提高成膜的致密性，能够减少界面的漫反射，提高透光率，也提高了光泽度。本发明解决了目前常用水性上光油的光泽度不高，成膜均匀性及附着牢度不佳的问题。
成膜水性上光油光泽度牢固度印刷技术领域成膜均匀性耐冲击性能印刷物表面分散粒子分散效果含硅试剂环氧基团活性物质配合表面上升趋势物质改性油酸酰胺牢固性流平剂流平性漫反射上光油透光率致密性自由基附着牢度漆酶涂膜雾度薄膜湿润透明度引入

[发明专利]包含成膜树脂的均匀沉积和低擦除性乳液-CN201280056718.1有效
发明人： P·沙;娄安境 -专利权人：荷兰联合利华有限公司
申请日： 2012-11-16 - 公布日： 2017-10-20 - 主分类号： A61K8/19 文献下载
摘要：描述了改善的沉积和低擦除性组合物。所述组合物为乳液，其具有在乳液水相中的水基成膜树脂和在乳液油相中的具有疏水材料的颗粒。在局部施用之后，该组合物为低擦除性的。
包含树脂均匀沉积擦除乳液

[发明专利]一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置-CN201811348200.0有效
发明人：康翠萍 -专利权人：宝鸡文理学院
申请日： 2018-11-13 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了纳米材料镀膜装置技术领域的一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法包括添加溶液、基片装夹、蒸发镀膜、预抽真空和循环操作，该基片强适应性纳米材料均匀成膜装置，包括第一真空室和第二真空室，所述第二真空室焊接于第一真空室的右侧，所述第一真空室的内腔右侧顶部和第二真空室的内腔左侧顶部均安装有电动推杆，该基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置，通过设置有两个真空室，在对其中一个真空室内的基片进行成膜时，对另一个真空室进行基片装夹和预抽真空的操作，减少了基片成膜时抽真空的等待时间，可实现连续作业，提高了成膜效率，此外还对蒸发镀膜的流量进行精确控制，其基片上纳米材料的成膜更加均匀。
一种基片强适应性纳米材料均匀方法及其装置

[发明专利]反应性成膜助剂-CN98106327.6无效
发明人： D·G·小思皮斯;W·D·威尔;E·K·爱森哈特;M·D·鲍维;M·A·H·沃弗斯伯格 -专利权人：罗姆和哈斯公司
申请日： 1998-04-07 - 公布日： 1998-10-14 - 主分类号： C07C13/68 文献下载
摘要：本发明公开了作为反应性成膜助剂的化合物以及改进反应性成膜助剂稳定性的方法。还公开了也可作为反应性成膜助剂的低分子量聚合物的制备方法。
反应性成膜助剂

[发明专利]一种提高LTO膜厚均匀性的APCVD成膜加工工艺-CN202210071188.3在审
发明人：陈良臻;李凯鹏;曹锦伟;王彦君;孙晨光 -专利权人：中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2022-05-20 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高LTO膜厚均匀性的APCVD成膜加工工艺，其加工工艺包括以下步骤：S1、首先需要将APCVD设备管道进行实时连接组合，并且在APCVD设备内通入一定量的硅烷与氧气，通过进行加热发生化学反应形成二氧化硅薄膜，通过对反应区域温度的实时控制，可以有效的影响不同位置长膜速率，进而起到改善薄膜均匀性的作用，S2、然后由于设备本身冷却水分布以及设备构造设计的原因，因此反应腔体内中部实际温度最高，并且温度设置需低于两侧，但是由于其处于排气出口位置，其实际的温度需高于两侧的温度，有效的实现了硅片膜厚均匀性的改善，有助于更好的起到薄膜的防止自掺杂的作用，同时使其外观更加符合要求。
一种提高 lto 均匀 apcvd 加工工艺

[实用新型]一种用于防水材料成膜的设备-CN202021885124.X有效
发明人：康哲 -专利权人：甘肃宇邦建筑防水材料有限公司
申请日： 2020-09-01 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： E04F21/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于防水材料成膜的设备，属于防水材料技术领域，该设备包括底座和设在底座底部的移动轮，所述底座上方设有成膜装置，所述成膜装置与原料供应装置连通，所述成膜装置通过连接件连接有动力装置，所述动力装置为成膜装置提供上下移动涂抹成膜的动力，所述成膜装置底部连接有可调节固定组件，所述可调节固定组件固定在底座上，所述可调节固定组件配合成膜装置进行上下移动；本实用新型的设备在进行成膜操作时不需要人工进行涂抹，利用装置的周期性运动进行涂抹成膜，可以避免人为操作时用力不均导致的涂抹不均匀现象，提高了防水材料成膜施工的效率和成膜均匀性。
一种用于防水材料设备

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