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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种提高成膜均匀性的方法-CN201310753169.X有效
发明人：林伟华;尹武力;兰天 -专利权人：北京七星华创电子股份有限公司
申请日： 2013-12-31 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种提高工艺膜厚均匀性的方法，其在根据主工艺要求设定的工艺参数完成主工艺步骤后，继续保持与主工艺相同的温度和压力，进行仅通反应保护气体的退火稳定步骤，其中，退火稳定步骤气体流量和工艺时间，取决于退火稳定步骤完成后需达到的主工艺气体流量和时间；最后再进行降低反应腔室内的温度，继续通入反应保护气体，和/或将反应管内压力恢复至常压。因此,本发明通过在主工艺步骤后增加了退火工艺步骤，同时，通过分温区精确控制工艺过程中温度和气体流量而形成稳定温场和气流，提高了工艺硅片内/间的均匀性，该方法可行性强和重复性高，在不改变硬件条件下，对提高成膜质量效果显著。
一种提高均匀方法

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